JPH0421070Y2 - - Google Patents

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JPH0421070Y2
JPH0421070Y2 JP1986125099U JP12509986U JPH0421070Y2 JP H0421070 Y2 JPH0421070 Y2 JP H0421070Y2 JP 1986125099 U JP1986125099 U JP 1986125099U JP 12509986 U JP12509986 U JP 12509986U JP H0421070 Y2 JPH0421070 Y2 JP H0421070Y2
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slits
disk
rotating shaft
light receiving
rotation detection
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Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は光学式回転検出装置に係り、特にスリ
ツトを設けられた回転円盤と発光素子及び受光素
子とから、回転円盤の回転を検出する回転検出装
置に関する。
従来の技術 第4図Aは従来の光学式回転検出装置の一例の
概略側面図を示す。同図Aにおいて、フオトカプ
ラ1内の発光素子2から受光素子3に到る光路4
の途中に、第4図Bの平面図に示す如き回転歯車
5の歯(山)の部分が位置せしめられてある。回
転歯車5が一定方向に回転すると、回転歯車5の
凹部5aが断続的に光路4を横切るので、受光素
子3には断続的に光が入射せしめられる。これに
より、受光素子3からは回転円盤5の回転速度に
比例した繰り返し周波数のパルス列が回転検出信
号として得られる。
しかし、上記の従来装置は極数が少ない場合は
有効であるが、回転検出精度が低い。すなわち、
回転検出精度を上げるため極数を多くすると、発
光素子2よりの光がある面積をもつて放射される
ので上記の従来装置では隣りの凹部から光が漏れ
て受光素子3に受光されてしまうため、所定以上
の高精度の回転検出精度が得られない。
そのため、従来は高精度の回転検出精度が必要
な場合は、第5図A,Bに示す如き構成の回転検
出装置により回転検出を行なつていた。第5図
A,B中、第4図A,Bと同一構成部分には同一
符号を付し、その説明を省略する。第5図A,B
に示す如く、この従来装置は光路4の途中に、回
転円盤6の外周部分に等間隔で設けられた多数の
スリツト7と、固定板8のスリツトとが直列に位
置するように配設されてある。固定板8には回転
円盤6のスリツト7と同一の間隔で同一の形状の
スリツトが設けられてある。
これにより、回転円盤6が回転し、そのスリツ
ト7が固定板8のスリツトの丁度真上にくると、
発光素子2よりの光が回転円盤6の複数個のスリ
ツト7と固定板8の複数個のスリツトとを夫々通
して受光素子3に到り受光される。次に回転円盤
6の回転によりスリツト7の位置が固定板8のス
リツトの真上の位置から移動すると、スリツト7
を通過した光は固定板8により遮られる。以下、
上記と同様の動作が繰り返される。
これにより、受光素子3からは回転円盤6の回
転速度に比例した繰り返し周波数のパルス列が高
精度で得られる。
考案が解決しようとする問題点 しかるに、第5図A,Bに示した従来の回転検
出装置は、回転円盤6に穿設されてあるスリツト
7の投影形状と固定板8のスリツトとを一致させ
るためには、両スリツトの位置(半径の大きさ、
放射状の中心など)を予め合わせる必要があり、
その調整に時間を要するという問題点があつた。
また、フオトカプラ1及び固定板8を更に1個ず
つ増やしてそれを互いに相対向して配置すると、
回転検出を平均化することができるが、実際には
調整に多大の時間を要し、また部品精度も高精度
が要求されるので、実現困難であつた。
そこで、本考案は上記の点に鑑み、調整が短時
間で済み、更には平均化による回転むらの除去も
可能な光学回転検出装置を提供することを目的と
する。
問題点を解決するための手段 本考案の光学式回転検出装置は、円周方向に等
間隔で穿設されたスリツトが断続する環状の第1
の列と、第1の列を構成するスリツトに対して位
相をずらして配置されたスリツトが断続する環状
の第2の列とが形成された、夫々同一構成の第1
及び第2の円盤と、 第1の円盤を回転軸と共に回転するように回転
軸に取付けると共に、第2の円盤を回転軸と同軸
に、かつ、回転軸の回転と無関係に固定する保持
する支持手段と、 第1及び第2の円盤の前記環状の第1の列の両
スリツトを通して光路を形成するように配置され
た少なくとも一組の第1の発光素子及び受光素子
の対と、 第1及び第2の円盤の前記環状の第2の列の両
スリツトを通して光路を形成するように配置され
た少なくとも一組の第2の発光素子及び受光素子
の対とよりなる。
作 用 各々円周方向に等間隔で複数個のスリツトが穿
設された、同一形状、同一半径、同一スリツト数
の第1及び第2の円盤のうち、第1の円盤は回転
円盤として回転自在に支持され、第2の円盤は固
定円盤として固定保持される。第1の円盤の回転
に伴つて、受光素子には発光素子よりの光が断続
的に入射せしめられる。
ここで、シヤツタを構成する第1及び第2の円
盤は同一部品であるため、誤差があつてもそれは
同一であり、相対的には誤差が無いのと等価とな
る。また、第1及び第2の円盤は同軸に取付けら
れる。
また、前記環状の第1の列と環状の第2の列と
は、スリツトが互いに位相をずらされて配置され
ているため、第1及び第2の受光素子から互いに
位相のずらされた回転検出信号を取り出すことが
できる。
実施例 第1図A,Bは夫々本考案装置の基本実施例の
概略側面図及び要部の平面図を示す。第1図A
中、第5図と同一構成部分には同一符号を付し、
その説明を省略する。第1図Aにおいて、第1の
円盤である回転円盤10と第2の円盤である固定
円盤11とは回転軸12に同軸的に取付けられて
ある。ただし、回転円盤10はガイド13に取付
けられており、かつ、ガイド13がネジ14によ
り回転軸12に固定されてあるため、回転円盤1
0は回転軸12と一体的に回転する。これに対
し、固定円盤11はガイド兼軸受15に固定され
ており、ガイド兼軸受15は固定ピン16により
固定されているため、回転軸12の回転に無関係
に固定円盤11は常に固定保持せしめられてい
る。
回転円盤10及び固定円盤11は夫々同一部品
で、第1図Bに示す如く、円周方向に矩形状のス
リツト19が等間隔で多数個穿設されてなる。す
なわち、回転円盤10及び固定円盤11は共にス
リツト19が断続する環状の列が形成されてあ
る。
また、第1図Aにおいて、回転円盤10と固定
円盤11との間にはスペーサ17が介在されてお
り、更にガイド兼軸受15の下側にはストツパ1
8が回転軸12に固定されており、ガイド兼軸受
15の下方向への移動を規制している。回転軸1
2は回転検出しようとする回転体(図示せず)と
一体的に回転する構成とされてあるため、回転円
盤10は上記回転体と一体的に回転することにな
る。
これにより、回転円盤10のスリツト19が固
定円盤11のスリツト19上に丁度位置したとき
は、発光素子2より受光素子3に到る光路4が回
転円盤10及び固定円盤11を通して形成される
ため、受光素子3に光が入射される。なお、この
受光素子3の受光面には、回転円盤10及び固定
円盤11の例えば6〜10個程度ずつのスリツト1
9を通過した光が照射される。次に、回転円盤1
0の回転に伴い、回転円盤10のスリツト19が
固定円盤11のスリツト19の真上の位置以外の
位置に移動すると、回転円盤10のスリツト19
を通過した光が固定円盤11により遮蔽されるた
め、受光素子3に光は入射されなくなる。
このような動作が交互に繰り返されることによ
り、前記したと同様に、受光素子3からは回転円
盤10の回転速度に比例した繰り返し周波数の回
転検出信号が取り出される。
なお、フオトカプラ1に対向する位置(回転方
向上180°隣接する位置)に、第2図に示す如くも
う1個フオトカプラ20を設け、フオトカプラ1
及び20の両回転検出信号を平均化することによ
り、スリツト19の加工むらによる回転検出精度
への悪影響を低減することができる。
第5図A,Bに示した従来装置では、このよう
な構成とすることは前記した理由から実現困難で
あつたが、本実施例によれば、単にフオトカプラ
のみを相対向して配置すればよく、極めて容易に
実現することができる。
次に、本考案装置の一実施例について第3図
A,Bと共に説明する。第3図A,B中、第1図
A,Bと同一構成部分には同一符号を付し、その
説明を省略する。第3図Aにおいて、第1の円盤
である回転円盤21と第2の円盤である固定円盤
22とは回転軸23に同軸的に取付けられてあ
る。第1図Aに示したと同様の支持手段(図示せ
ず)により、回転円盤21は回転軸23と一体的に
回転するように回転軸に固定され、また固定円盤
22は回転軸23の回転に無関係に常時静止する
べく固定保持される。
回転円盤21及び固定円盤22は夫々同一部品
で、第3図Bにその平面図を示す如く、スリツト
28が断続する環状の第1の列と、スリツト28
に対して位相90°ずれた位置に配置されたスリツ
ト29が断続する環状の第2の列とが、夫々同心
円状に形成されてある。
第3図A,Bに示すように、フオトカプラ1は
回転円盤21及び固定円盤22の各スリツト28
が一致したとき光路4が形成されるように配置さ
れてあり、他方、フオトカプラ24は回転円盤2
1及び固定円盤22の各スリツト29が一致した
ときに発光素子25から受光素子26に到る光路
27が形成されるように配置されてある。
本実施例によれば、受光素子3から取り出され
る第1の回転検出信号と、受光素子26から取り
出される第2の回転検出信号とは夫々位相が90°
異なり、かつ、その位相の進み遅れは回転円盤2
1の回転方向に応じて変化する。従つて、第1及
び第2の回転検出信号のうち一方を基準として、
他方の回転検出信号の位相が90°進んでいるか遅
れているかを判別することにより、回転円盤21
の回転方向を判別することができる。
なお、各実施例において、フオトカプラの数は
3個以上でもよい。
考案の効果 上述の如く、本考案によれば、同一部品である
2つの円盤を用いてシヤツタを構成しているた
め、誤差があつても両方共に同じ誤差なので相対
的に誤差が無いのと等価であり、従来装置に比し
回転検出精度を向上することができ、またこのこ
とから部品精度をそれ程必要とされないので安価
に構成することができ、更に2つの円盤は回転軸
に同軸的に取付けられてあるので、従来装置の如
く、回転円盤と固定板とを夫々個別に調整する方
式に比し、無調整化が実現でき、調整時間を不要
にでき、また更に発光素子及び受光素子を2組以
上設けるのが容易であり、これにより平均化がで
き、スリツトの加工むらによる悪影響を大幅に低
減することができる。また、2つの円盤のスリツ
トの列を2つの環状の列として同心円状に形成
し、かつ、それらのスリツト間の位相をずらすこ
とにより、回転方向を検出することもできる等の
数々の特長を有するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図A,Bは夫々本考案装置の基本実施例の
概略側面図及び要部の概略平面図、第2図は第1
図図示装置の変形例を示す概略平面図、第3図
A,Bは夫々本考案装置の一実施例の概略側面図
及び概略平面図、第4図A,Bは夫々従来装置の
一例の概略側面図及び要部の平面図、第5図A,
Bは夫々従来装置の他の例の概略側面図及び概略
平面図である。 2,25……発光素子、3,26……受光素
子、4,27……光路、10,21……回転円
盤、11,22……固定円盤、15……ガイド兼
軸受、16……固定ピン、19,28,29……
スリツト。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 円周方向に等間隔で穿設されたスリツトが断続
    する環状の第1の列と、該第1の列を構成するス
    リツトに対して位相をずらして配置されたスリツ
    トが断続する環状の第2の列とが形成された、
    夫々同一構成の第1及び第2の円盤と、 該第1の円盤を回転軸と共に回転するように該
    回転軸に取付けると共に、該第2の円盤を該回転
    軸と同軸に、かつ、該回転軸の回転と無関係に固
    定保持する支持手段と、 該第1及び第2の円盤の前記環状の第1の列の
    両スリツトを通して光路を形成するように配置さ
    れた少なくとも一組の第1の発光素子及び受光素
    子の対と、 該第1及び第2の円盤の前記環状の第2の列の
    両スリツトを通して光路を形成するように配置さ
    れた少なくとも一組の第2の発光素子及び受光素
    子の対とよりなり、 前記第1及び第2の受光素子より夫々回転検出
    信号を取り出すよう構成した光学式回転検出装
    置。
JP1986125099U 1986-08-15 1986-08-15 Expired JPH0421070Y2 (ja)

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JP1986125099U JPH0421070Y2 (ja) 1986-08-15 1986-08-15

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JP1986125099U JPH0421070Y2 (ja) 1986-08-15 1986-08-15

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Publication Number Publication Date
JPS6331325U JPS6331325U (ja) 1988-02-29
JPH0421070Y2 true JPH0421070Y2 (ja) 1992-05-14

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0338734Y2 (ja) * 1986-08-29 1991-08-15

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60168020A (ja) * 1984-02-10 1985-08-31 Matsushita Electric Works Ltd パルス発生装置
JPS61118614A (ja) * 1984-11-15 1986-06-05 Matsushita Electric Works Ltd エンコ−ダの製造方法

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JPS60168020A (ja) * 1984-02-10 1985-08-31 Matsushita Electric Works Ltd パルス発生装置
JPS61118614A (ja) * 1984-11-15 1986-06-05 Matsushita Electric Works Ltd エンコ−ダの製造方法

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JPS6331325U (ja) 1988-02-29

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