JPH04204915A - 液晶素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、液晶素子の製造方法に関する。

従来の技術 液晶分子の配向膜は、液晶デイスプレィには必須のもの
である。前記配向膜としては、無機質の斜方蒸着膜や布
等で摩擦（すなわちラビング）された高分子樹脂膜等が
使われている（液晶エレクトロニクスの基礎と応用、佐
々木昭夫編）。そして前記高分子樹脂としては、主にポ
リイミドか使われている。

近年注目されているネマチック液晶を９０’以上捻った
構造を持つＳＢＥ　（スーパーツウィステッドバイアフ
リンジエンスエフェクト）方式等の液晶素子では、５°
以上のブレ・チルト角を有する傾斜配向が望まれる。そ
こで、ブレ・チルト角が５°以上である傾斜配向が得ら
れる有機高分子材料が開発され、コストの点からもこれ
をラビングすることによる配向法が液晶素子の生産に使
われている。

発明が解決しようとする課題 しかしながら、従来の有機高分子膜のラビング法におい
ては、液晶素子を構成した後の液晶分子のブレ・チルト
角が経時変化したり、再現性に乏しい等の課題があった
。

本発明はこのような課題を解決するもので、ラビング法
を用い、再現性のある経時変化の少ないブレ・チルト角
を存する液晶素子の製造方法を提供することを目的とす
るものである。

課題を解決するための手段 この課題を解決するために本発明は、第１基板および第
２基板の主面上に高分子樹脂膜を形成する過程と、この
樹脂膜をラビング処理する過程と、前記各基板の主面の
樹脂膜を表面張力の小さい液体中に浸漬するか前記液体
の蒸気に晒す過程と、前記主面の樹脂膜を乾燥させる過
程と、前記第１基板と第２基板の主面を対向させて所定
の間隙を保って封着した後に形成された間隙内に液晶組
成物を注入する過程を備え、樹脂膜を構成する高分子は
低い表面自由エネルギーを招来するものである液晶素子
の製造方法を要旨とするものである。

前記表面張力の小さい液体とは、表面張力が約３０６ｙ
ｎ−■−１以下なる液体が望ましく、例えばパラフィン
、特にオクタン、ノナン、デカンが使用される。

また、表面張力の値が上記範囲には含まれ難いが、表面
張力の小さい液体として、アルキル・ベンゼン、特にブ
チル・ベンゼン、プロピル・ベンゼン、エチル・ベンゼ
ン、プロピル・トルエン等が著しい効果を発揮する。

前記各基板の主面を表面張力の小さい液体中に浸漬する
過程では、前記液体を加温することか、処理の時間を考
えるとほぼ必須である。

作用 上記構成において、液晶分子と相互作用して、液晶分子
のブレ・チルトを立たせるためには樹脂膜を構成する高
分子は低い表面自由エネルギーを招来するようなもので
あることが必要であると思われる。

通常、液晶を封入した液晶素子をそのまま熱処理すると
、ブレ・チルト角は向上し、これの値の分散も小さくな
り、これの七時変化も小さくなる。

この現象はよく観察されるものであるが、これは、徐々
に前記樹脂膜表面の基礎となる成分が若干変化したため
と思われる。

そこで本発明はラビングの後で、樹脂膜と表面張力の小
さい液体とを相互作用させ、樹脂膜のミクロな状態を、
よりブレ・チルト角の経時変化が小さく、高チルト角が
得られる状況に近付けておくことに本質がある。

なお従来では基板に付着したごみ等を除去するために、
ラビング後に液体による洗浄がなされる場合が多かった
が、本発明は表面張力の小さい液体を加温したり、蒸気
として用いることにより、樹脂膜に化学的、物理的変化
を与えることができる。

実施例 以下、本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明の実施例によって得られる液晶素子を示
す断面図である。同図において、■および２は例えば、
透明ガラスからなる第１基板および第２基板、３および
４は第１基板！および第２基板の主面上に設けた例えば
ＩＴＯ膜からなる矩形状の透明な導電電極、５および６
は導電電極３および４を覆うように設けた配向膜、７は
配向膜５．６間に設けた液晶層である。

（実施例１） 第１基板、第２基板の主面に微細加工されたＩＴＯ電極
を覆うように、日産化学（株）製、ポリアミック酸系配
向膜レジンＲＮ７］５なるレジンをスピナーで塗布した
後、２５０℃で３０分加熱して樹脂膜を得る。次にこの
樹脂膜をラビングした。

前記樹脂膜を約９０°Ｃに保たれたオクタン、ノナン、
デカン、約８０°Ｃに保たれたブチル・ベンゼン、プロ
ピル・ベンゼン、エチル・ベンゼン、プロピル・トルエ
ンにそれぞれ約１０分浸漬するか、デカンの蒸気やプロ
ピル・ベンゼンの蒸気に約３０分晒し、次に乾燥させ、
このようにして配向膜を形成した。次に前記第１基板お
よび第２基板の主面を対向させ、所定の間隙を保って封
着した後に形成された間隙内にＳＢＥ用の特定液晶組成
物を注入させて、液晶素子を形成した。

以上の方法でそれぞれ単一条件６個の液晶素子の液晶素
子を作製し、磁場法でブレ・チルト角を測定した。その
結果を第１表に示す。同時に各基板の主面を表面張力の
小さい液体中に浸漬するか前記液体の蒸気に晒す過程を
省略した比較例のブレ・チルト角も測定した。

（実施例２） 実施例１において、日産化学（株）製、ポリアミック酸
系配向膜レジンＲＮ６２６をレジンとして使った場合の
結果を第２表に示す。

第　　２　　表 （実施例３） 実施例１において、日産化学（株）製、ポリアミック酸
系配向膜レジン５Ｅ４１１０をレジンとして使った場合
の結果を第３表に示す。

（以下余白） 第　　３　　表 上記第１表〜第３表からも本発明の実施例はブレ・チル
ト角が安定していることがわかる。

なお、基板の処理が、液体に浸す場合は液体の温度が４
０°Ｃより低い場合には効果が不十分であり、反対に液
体での基板の処理が１００°Ｃを越す場合には、液体の
蒸発が激しく作業が困難になる上、場合によってはラビ
ング処理の効果が失われることがあり、１００℃以下の
処理が望ましい。

発明の効果 以上のように本発明によれば、要求される液晶のブレ・
チルト角を安定に供給することかでき、その結果、良好
な表示品位の液晶素子が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例によって得られる液晶素子の概
略断面図である。 １・・・・・・第１基板、２・・・・・・第２基板、３
．４・・・・・・透明な導電電極、５．６・・・・・・
配向膜、７・・・・・・液晶層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、第１基板および第２基板の主面上に高分子樹脂膜を
   形成する過程と、この樹脂膜をラビング処理する過程と
   、前記各基板の主面の樹脂膜を表面張力の小さい液体中
   に浸漬するか前記液体の蒸気に晒す過程と、前記主面の
   樹脂膜を乾燥させる過程と、前記第１基板と第２基板の
   主面を対向させて所定の間隙を保って封着した後に形成
   された間隙内に液晶組成物を注入する過程を備え、樹脂
   膜を構成する高分子は低い表面自由エネルギーを招来す
   るものであることを特徴とする液晶素子の製造方法。