JPS6125129A - 電気光学用電極基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し発明の技術分野］ 本発明は耐熱性、配向性の優れた電気光学用電極基板に
関する。

Ｌ発明の技術的背景とその問題点］ 最近、液晶の光学的周方性を利用した表示装置の応用が
各方面で進められている。　この表示方法として主に用
いられＣいるものは、負の誘電異方性を持ったネマチッ
ク液晶化合物が電場の印加により光を散乱するダイナミ
ックスキャンタリング現象を表示に利用したもの（ＤＳ
型デバイスという）と、正の誘電異方性を持ったネマチ
ック液晶化合物を配向きけることによって、旋光性を変
化させて表示に利用したもの（Ｆ　Ｅ型デバイスという
）がある、、ＤＳ型デバイスでは、液晶化合物の初期配
向の均一性が動作原理上必ずしも必要ではないが、ＥＥ
型デバイスでは動作原理が電場により液晶化合物の初期
配向を制御もしくは再配列さ−せ、その際の光学的性質
の変化を利用覆るものであるため、液晶化合物の初期配
向の均一性が特に重要である、。

然し−で、従来液晶化合物の初期配向の均一性を得る手
段どして、電極基板を布などで一方向に摩擦する方法が
知られているが、この方法では部分的に液晶化合物分子
の配向が異ｔｙす、配向の均一性は十分でなく、また配
向が短時間のうちに失われてしまう欠点がある。　」−
記の欠点を改善するものとじて、ある種の界面活ｆｌ剤
を併用しく一電極基板を一方向に摩擦する方法が用いら
れている。

この方法では配向の均一性はある程度改善されるが、界
面活性剤の耐熱性がなく、また界面活性剤が液晶化合物
の劣化を招（という欠点がある。

さらに、電界を印加し続【ノると界面活性剤が電界によ
り分解、変質を起こし配向が破壊してしまうという欠点
がある。　また、従来の縮合型ポリイミド樹脂を被覆し
た電極基板を一方向に摩擦する方法が用いられている。

　この場合は液晶化合物に対する配向効果および耐熱性
に優れているが、ポリイミド樹脂の硬化縮合温度が高く
硬いため、フレキシブルな電極基板（例えばポリエステ
ル等のフィルム）には被覆できないという欠点があった
。

［発明の目的］ 本発明は、前記のような欠点を解消するためになされた
もので、耐熱性、耐湿性、配向性に優れた耐久性のよい
電気光学用電極基板を提供することを目的としている。

［発明の概要１ 本発明は、上記の目的を達成するために鋭意研究を重ね
た結果、ポリパラバン酸樹脂を用いることによって特性
の優れた電気光学用電極基板が得られることを見いだし
たものである。　即ち、本発明は、透明’１７　Ｔｉ　
ｔｅｌ皮膜を有する基板表面の一部または全面に、ポリ
パラバン酸樹脂皮膜を有し、前記ポリパラバン酸樹脂皮
膜が配向処理されていることを特徴とする電気光学用電
極基板基板である。

本発明に用いる透明ｙ４電性皮膜としては、酸化インジ
ウム、酸化スズ、酸化スズと酸化インジウムの混合物、
酸化スズと酸化アンチモンの混合物、酸化チタン、酸化
ロジウム、酸化白金等の金属酸化物等の金属薄膜が挙げ
られる。　透明導電性皮膜を被覆する基板は、ガラス、
セラミック、プラスチックフィルム等が使用される。、
　透明導電性皮膜を基板に被覆する方法としでは、蒸着
法、スパッタリング法、ＣＶＤ払、スプレー法等が一般
に用いられる。

本発明に用いるポリパラバン酸樹脂は、一般式（但し式
中Ｘは、−ＣＨ２−１−〇−１−８０２−を、０は正の
整数を表１）で示されるヘテロ環状化合物である。　ポ
リパラバン酸樹脂は、溶剤に溶解して使用されるがここ
に使用される溶剤としては一般的に非プロトン性極性溶
剤が好ましく、例えばジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等が挙げら
れ、これらの溶剤は単独もしくは２種以上の組合せで使
用される。　ポリパラバン酸樹脂分と溶剤との混合比（
樹脂分濃度）は塗装方法に応じて任意に変更することが
でき、必要に応じて樹脂分を高津度にして、塗装に際し
てこれを加熱し粘度を低下させて使用するようにしても
よい。

このポリパラバン酸樹脂を用いて電極基板上に樹脂皮膜
を設けるには、通常溶剤に溶解して０．０１〜４０噌縫
％程度の樹脂溶液とし、刷毛塗り法、浸漬法、オフヒツ
トおよびスタンプ等の印刷法、回転塗布法、スプレー法
などにより電極基板上に塗布した後、１００〜２００℃
好ましくは１８０〜２００℃の温度で加熱処理して溶剤
乾燥を行い樹脂皮膜を段（プる。　ポリパラバン酸樹脂
の皮膜を設けた後、この皮膜面を布などで一定方向に摩
擦し配向処理さけることにより、本発明の電気光学用電
極基板が得られる。

本発明に係る一対の電極基板のそれぞれの配向処理面の
間に、例えば正の誘電異方性を有するネマチック液晶化
合物を公知の方法で封入シールすることにより電気光学
的表示デバイスを作ることができる。　このような電極
基板は電気光学的な種々の装置に有効に使用でき、例え
ば電子式卓上計算機、腕部：１１、詣き時８１、計数表
示板などの表示装置に用いることができる。

［発明の実施例］ 次に本発明を実施例によって具体的に説明する。

実施例　１ ポリパラバン酸樹脂の１２重置部をジメチルアセトアミ
ド１１８８重量部中に入れ８０℃の温度で均一に溶解し
、０．１２重量部のカップリング剤を添加して１％溶液
を調製した。　この溶液に、酸化インジウムの透明導電
性皮膜を自するネリーガラスをパターン状に１ツチング
した後通常のｈ法で洗浄した電極基板を浸漬した。　浸
漬後引」二げ２００℃の温度で３０分間加熱処理を行っ
て電極基板上に１０００ス厚さのポリパラバン酸樹脂皮
膜を設（）た。　次にポリパラバン酸樹脂皮膜を設けた
一対の電極基板を布で一方向に摩擦して配向処理した。

　しかる後、摩擦方向が互いに直交するようにしてセル
組みし、正の誘電異方性を有するネマチック液晶化合物
を封入し、さらにセルの外側の両面、に偏光膜を、偏光
膜の偏光方位がそれぞれ隣接する基板の摩擦方向に平行
になるように貼合して表示デバイスを製作した。　表示
デバイスは耐湿性（６０℃Ｘ９５％Ｒ１−ｌＸ５００時
ｍ）、耐熱性（８０℃×５００時間）試験においても配
向の破壊はみられず、配向の均一性が良好であり耐久性
にも優れていた。

実施例　２ 実施例１と同じポリパラバン酸樹脂の１％溶液を、酸化
インジウムの透明導電性皮膜を有するポリニスデルフィ
ルム上にオフセット印刷し、１５０℃の湿度で１時間加
熱処理を行い架橋反応させ、電極基板−１−に１０００
Ｘ厚のポリバうパン酸樹脂皮膜を設けた。　次にポリパ
ラバン酸樹脂皮膜を設（プた一月のポリ［ステルフィル
ム電極基板を布で一方向に摩擦して配向処理をした。　
しかる後に、摩擦方向が互いに直交覆るようにしてセル
組みし、正の誘電異方性を右するネマチック液晶化合物
を封入し、さらにセルの外側の両面に偏光膜を、偏光膜
の偏光１１位がそれぞれ隣接づる基板の摩擦方向に平行
になるように貼合して表示デバイスを製作した。　表示
デバイスは、耐湿性（６０℃×９５％Ｒ＋１×５００時
間）、耐熱性（８０℃Ｘ　５０００；′ｉ間）試験にｄ
５いて−も配向の破壊はみられず、配向均一性゛も良好
であり、耐久性も優れていた。

比較例　１ 酸化インジウムを蒸着しｔｃ電極用ネサガラスを洗浄後
、配向処理剤としでポリオキシエチレンノニルフ：［ニ
ルエーテルの０６５％水溶液を浸漬塗布した後、真空加
熱乾燥させた。　次に、前記の塗布面を布で一方向に摩
擦して、配向処理したネサガラスを作った。　こうして
得られた一対のネサガラスを摩擦り向に直交するように
セル組みし、市販のネマチック液晶化合物を封入してセ
ルの外側の両面に偏光膜を貼合して表示デバイスを製作
した。　ごの表示デバイスは電場印加時に表示部に明暗
の配向ムラがあり、また６０℃×９５％ＲＨｘ１００時
間経過後、配向が破壊し、耐久性が悪かった。

比較例　２ 比較例１で配向処理剤を使用せず、直接ネリーガラス面
を布で一方向に摩擦して配向処理したネサガラスを作っ
た後、比較例１と同様にし”（表示デバイスを製作した
。　この表示デバイスは、電場印加時に表示部に明暗の
配向ムラがあり、また５０℃ｘ　３時間経過後配向が破
壊しはじめ、２日後で完全に破壊し°Ｃしまい、耐熱性
、耐久性が良くなかった。

［発明の効果］ 本発明の電気光学用電極基板は、耐熱性、耐湿性、配卵
性、耐久性に優れ（おり、特に液晶の初期配向の均一性
が極めて優れており、かつ皮膜形成時の加熱温度が低い
ためガラス基板のみでなくポリｌスプル等の熱に弱いノ
イルム基板にも応用できる。　また電極基板の温度が１
昇してｂ液晶化合物の分子の配向効果に影響を与えるこ
となく、セル中の液晶化合物の分子が長期間安定して存
在するという利点がある。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １　透明導電性皮膜を有する基板表面の一部または全面
   に、ポリパラバン酸樹脂皮膜を有し、前記ポリパラバン
   酸樹脂皮膜が配向処理されていることを特徴とする電気
   光学用電極基板。