JPH04202196A - テキシルトリアルコキシシラン - Google Patents
テキシルトリアルコキシシランInfo
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- JPH04202196A JPH04202196A JP2331760A JP33176090A JPH04202196A JP H04202196 A JPH04202196 A JP H04202196A JP 2331760 A JP2331760 A JP 2331760A JP 33176090 A JP33176090 A JP 33176090A JP H04202196 A JPH04202196 A JP H04202196A
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- thexyltrialkoxysilane
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、文献未載の新規な有機けい素化合物であるテ
キシルトリアルコキシシランに関するものである。本発
明のテキシルトリアルコキシシランは、シリコーン樹脂
の原料として、また錯体触媒の添加剤として、さらにシ
リコーンゴム製造の際に用いられるシリカフィラー等の
無機充填剤の分散促進剤(ウェッター)をはじめとする
無機物質の表面処理剤などとして有用なものである。
キシルトリアルコキシシランに関するものである。本発
明のテキシルトリアルコキシシランは、シリコーン樹脂
の原料として、また錯体触媒の添加剤として、さらにシ
リコーンゴム製造の際に用いられるシリカフィラー等の
無機充填剤の分散促進剤(ウェッター)をはじめとする
無機物質の表面処理剤などとして有用なものである。
[従来の技術]
テキシル基を有する有機けい素化合物としては、テキシ
ルトリクロロシラン[J、Am、 Chem、 Soc
、 。
ルトリクロロシラン[J、Am、 Chem、 Soc
、 。
70.484(1948)、 Chem、Li5ty、
52,640参照];テキシルジメチルクロロシランお
よびその誘導体[Tetrahedron Lett、
、 26.5511 (1985) 、 Tetra
hed−ron Lett、 、 26.5515 (
19,85)参照]が知られている。
52,640参照];テキシルジメチルクロロシランお
よびその誘導体[Tetrahedron Lett、
、 26.5511 (1985) 、 Tetra
hed−ron Lett、 、 26.5515 (
19,85)参照]が知られている。
しかしながら、前記のクロロシランにあっては活性水素
をもつ化合物や基質と反応させるときに腐食性の塩化水
素を発生するため、このクロロシランをシリコーン樹脂
の原料、無機物質の表面処理剤あるいは錯体触媒の添加
剤などとして使用する際には環境を汚すので、その使用
が制限されるという問題があった。
をもつ化合物や基質と反応させるときに腐食性の塩化水
素を発生するため、このクロロシランをシリコーン樹脂
の原料、無機物質の表面処理剤あるいは錯体触媒の添加
剤などとして使用する際には環境を汚すので、その使用
が制限されるという問題があった。
一方では、テキシルトリアルコキシシランについては報
告がなかった。
告がなかった。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、前記の用途に使用し得るような、けい素原子
に結合したテキシル基を有する新規なシラン化合物を提
供しようとするものである。
に結合したテキシル基を有する新規なシラン化合物を提
供しようとするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは前記の課題を解決すべく検討した結果、文
献未載の新規な有機けい素化合物であるけい素原子に結
合したテキシル基とアルコキシル基とを有するテキシル
トリアルコキシシランを見出した。
献未載の新規な有機けい素化合物であるけい素原子に結
合したテキシル基とアルコキシル基とを有するテキシル
トリアルコキシシランを見出した。
すなわち、本発明は一般式
%式%
(式中、Rはアルキル基)で表わされるテキシルトリア
ルコキシシランを要旨とするものである。
ルコキシシランを要旨とするものである。
以下に本発明について詳しく説明する。
本発明のテキシルトリアルコキシシランは前記の一般式
で表わされるものであるが、式中のRは “メチル基
、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブ
チル基、i−ブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル
基、n−ヘキシル基、n−オクチル基等で例示されるア
ルキル基である。
で表わされるものであるが、式中のRは “メチル基
、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブ
チル基、i−ブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル
基、n−ヘキシル基、n−オクチル基等で例示されるア
ルキル基である。
このようなテキシルトリアルコキシシランは次の方法に
よって製造することができる。
よって製造することができる。
すなわち、下記式
%式%
で表わされるテキシルトリクロロシランと下記式OH
(式中、Rは前記に同じ)で表わされるアルコールとを
、溶媒を用いないで、又は炭化水素系溶媒もしくはエー
テル系溶媒中で、中和剤の存在下に、20〜150°C
1好ましくは30〜100°Cで05〜30時間撹拌し
て反応させることにより製造することができる。
、溶媒を用いないで、又は炭化水素系溶媒もしくはエー
テル系溶媒中で、中和剤の存在下に、20〜150°C
1好ましくは30〜100°Cで05〜30時間撹拌し
て反応させることにより製造することができる。
この製造方法による場合、アルコールの量はテキシルト
リクロロシランに対して3〜4倍モル用いればよい。溶
媒を用いる場合、炭化水素系溶媒としては、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、n−ヘ
キサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等が挙
げられ、エーテル系溶婢としては、例えば、ジエチルエ
ーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等が挙げられる。用いられる中和剤としては、例
えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブ
チルアミン、DBU等の三級アミン類及び尿素などが挙
げられる。この中和剤の量はテキシルトリクロロシラン
に対して3〜4倍モル用いればよい。
リクロロシランに対して3〜4倍モル用いればよい。溶
媒を用いる場合、炭化水素系溶媒としては、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、n−ヘ
キサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等が挙
げられ、エーテル系溶婢としては、例えば、ジエチルエ
ーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等が挙げられる。用いられる中和剤としては、例
えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブ
チルアミン、DBU等の三級アミン類及び尿素などが挙
げられる。この中和剤の量はテキシルトリクロロシラン
に対して3〜4倍モル用いればよい。
[実施例]
つぎに本発明の実施例をあげる。
実施例1
撹拌機、還流器、滴下ロートおよび温度計を備えた20
0mρの四ロフラスコにメタノール10.’6g(0,
33モル)、尿素19.8g (0,33モル)を入れ
、滴下ロートからテキシルトリクロロシラン20.0g
(0,091モル)を0.5時間で滴下し、20〜50
℃で反応させ、滴下終了後に温度を70〜80℃として
6時間熟成した。熟成終了後、静置して二層分離させ、
下層を除いた。上層の有機層を蒸留してテキシルトリメ
トキシシラン13.3g(0,065モル)を収率71
%で得た。
0mρの四ロフラスコにメタノール10.’6g(0,
33モル)、尿素19.8g (0,33モル)を入れ
、滴下ロートからテキシルトリクロロシラン20.0g
(0,091モル)を0.5時間で滴下し、20〜50
℃で反応させ、滴下終了後に温度を70〜80℃として
6時間熟成した。熟成終了後、静置して二層分離させ、
下層を除いた。上層の有機層を蒸留してテキシルトリメ
トキシシラン13.3g(0,065モル)を収率71
%で得た。
このものの物性は下記のとおりであった。
沸点:84°C/ 27mmHg
質量スペクトル
m/z : 206(M”)、 121(M”−Me2
CHCMe2−)(ただしMeはメチル基を表わす、以
下同様)核磁気共鳴スペクトル ’H−NMR(CCI
4.60MHz)δ(PPM): 3.60+−重線、
9)1)、1.8〜1.3(多重線、IH)0.95(
−重線、6H)、0.93(二重線+’ 6H,J=6
Hz)赤外吸収スペクトル:第1図 実施例2 実施例1におけるメタノールの代りにエタノール15.
2g(0,33モル)を用いたほかは、実施例1と同様
にしてテキシルトリエトキシシラン20.1g(0,0
81モル)を収率89%で得た。
CHCMe2−)(ただしMeはメチル基を表わす、以
下同様)核磁気共鳴スペクトル ’H−NMR(CCI
4.60MHz)δ(PPM): 3.60+−重線、
9)1)、1.8〜1.3(多重線、IH)0.95(
−重線、6H)、0.93(二重線+’ 6H,J=6
Hz)赤外吸収スペクトル:第1図 実施例2 実施例1におけるメタノールの代りにエタノール15.
2g(0,33モル)を用いたほかは、実施例1と同様
にしてテキシルトリエトキシシラン20.1g(0,0
81モル)を収率89%で得た。
このものの物性は下記のとおりであった。
沸点=67℃73mmHg
質量スペクトル
m/z : 248(M″″)、 203(M”−Et
O−)163 (M”−Me2CHCMe2−)(ただ
しEtはエチル基を表わす) 核磁気共鳴スペクトル ’H−NMR(CCI4.60
MHz)δ(PPM): 3.81(四重線、 6H,
J=7Hz) 、 1.8〜1.4(多重線、IH)、
1.18(三重線、9H,J・7Hz) 、 0.88
(−重線、 68) 、 0.86 (二重線、 6
H,J=6Hz)赤外吸収スペクトル:第2図 実施例3 実施例1におけるメタノールの代りにインプロパツール
19.8g(0,33モル)を用いたほかは、実施例1
と同様にしてテキシルトリイソプロボキシシラン22.
9g(0,079モル)を収率87%で得た。
O−)163 (M”−Me2CHCMe2−)(ただ
しEtはエチル基を表わす) 核磁気共鳴スペクトル ’H−NMR(CCI4.60
MHz)δ(PPM): 3.81(四重線、 6H,
J=7Hz) 、 1.8〜1.4(多重線、IH)、
1.18(三重線、9H,J・7Hz) 、 0.88
(−重線、 68) 、 0.86 (二重線、 6
H,J=6Hz)赤外吸収スペクトル:第2図 実施例3 実施例1におけるメタノールの代りにインプロパツール
19.8g(0,33モル)を用いたほかは、実施例1
と同様にしてテキシルトリイソプロボキシシラン22.
9g(0,079モル)を収率87%で得た。
このものの物性は下記のとおりであった。
沸点・73℃73mmHg
質量スペクトル
m/z : 275(M’−Me)、 231(M”−
Pro−)205 (M”−Me2CHCMe2−)(
ただしPrはプロピル基を表わす) 核磁気共鳴スペクトル ’H−NMR(CCI4.60
MHz)δ(PPM): 4.21(七重線、 3H,
J=6Hz) 、 1 、9〜1.4(多重線、LH)
、1.19(二重線、18H,J=6Hzl、 0.9
0(二重線、 6H,J=6Hz) 赤外吸収スペクトル・第3図 実施例4 実施例1におけるメタノールの代りにイソブタノール2
4.4g(0,33モル)を用いたほかは、実施例1と
同様にしてテキシルトリイソブトキシシラン22.9g
(0,069モル)を収率76%で得た。
Pro−)205 (M”−Me2CHCMe2−)(
ただしPrはプロピル基を表わす) 核磁気共鳴スペクトル ’H−NMR(CCI4.60
MHz)δ(PPM): 4.21(七重線、 3H,
J=6Hz) 、 1 、9〜1.4(多重線、LH)
、1.19(二重線、18H,J=6Hzl、 0.9
0(二重線、 6H,J=6Hz) 赤外吸収スペクトル・第3図 実施例4 実施例1におけるメタノールの代りにイソブタノール2
4.4g(0,33モル)を用いたほかは、実施例1と
同様にしてテキシルトリイソブトキシシラン22.9g
(0,069モル)を収率76%で得た。
このものの物性は下記のとおりであった。
沸点: 102〜103℃73mmHg質量スペクト
ル m/z : 259(M”−BuO−)、 247(M
”−Me2CIICMe2−)205 (M’−Me2
CHCMe2−)(ただしBuはブチル基を表わす) 核磁気共鳴スペクトル ’H−NMR(CC14,60
MH2)δ(PPM): 3.62(二重線、 6H,
J=6H2) 、 2.1〜1.4(多重線、 4H)
、 1.01 (二重線、24H,J=6Hz)、
1.00(−重線、6H) 赤外吸収スペクトル:第4図 [発明の効果] 本発明により文献未載の新規な有機けい素化合物である
テキシルトリアルコキシシランが提供された。このシラ
ンはクロロシランの場合にみられるような使用制限がな
く、アルコキシル基の反応性によって各種用途に利用で
きる。
ル m/z : 259(M”−BuO−)、 247(M
”−Me2CIICMe2−)205 (M’−Me2
CHCMe2−)(ただしBuはブチル基を表わす) 核磁気共鳴スペクトル ’H−NMR(CC14,60
MH2)δ(PPM): 3.62(二重線、 6H,
J=6H2) 、 2.1〜1.4(多重線、 4H)
、 1.01 (二重線、24H,J=6Hz)、
1.00(−重線、6H) 赤外吸収スペクトル:第4図 [発明の効果] 本発明により文献未載の新規な有機けい素化合物である
テキシルトリアルコキシシランが提供された。このシラ
ンはクロロシランの場合にみられるような使用制限がな
く、アルコキシル基の反応性によって各種用途に利用で
きる。
第1図は本発明の実施例1で得られたシランの赤外吸収
スペクトルを示す図であり、第2図は同じ(実施例2で
得られたシランの赤外吸収スペクトルを示す図であり、
第3図は同じ〈実施例3で得られたシランの赤外吸収ス
ペクトルを示す図であり、第4図は同じ〈実施例4で得
られたシランの赤外吸収スペクトルを示す図である。 特許出願人 信越化学工業株式会社
スペクトルを示す図であり、第2図は同じ(実施例2で
得られたシランの赤外吸収スペクトルを示す図であり、
第3図は同じ〈実施例3で得られたシランの赤外吸収ス
ペクトルを示す図であり、第4図は同じ〈実施例4で得
られたシランの赤外吸収スペクトルを示す図である。 特許出願人 信越化学工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rはアルキル基)で表わされるテキシルトリア
ルコキシシラン。
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---|---|---|---|
JP2331760A JPH0813826B2 (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | テキシルトリアルコキシシラン |
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US07/796,360 US5136073A (en) | 1990-11-29 | 1991-11-22 | Thexyl trialkoxy silane |
DE69107031T DE69107031T2 (de) | 1990-11-29 | 1991-11-22 | Thexyl-trialkoxysilane, Verfahren zur Herstellung und deren Verwendung. |
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JP2331760A JPH0813826B2 (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | テキシルトリアルコキシシラン |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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PL3102634T3 (pl) | 2014-02-06 | 2020-11-16 | Borealis Ag | Miękkie i przezroczyste kopolimery odporne na uderzenia |
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GB971598A (en) * | 1961-12-29 | 1964-09-30 | Monsanto Chemicals | Improvements in or relating to functional fluids |
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US3576030A (en) * | 1968-08-15 | 1971-04-20 | Dow Corning | Alkyldiphenylsilanes |
EP0177454B1 (de) * | 1984-10-04 | 1988-12-21 | Ciba-Geigy Ag | Silane, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
-
1990
- 1990-11-29 JP JP2331760A patent/JPH0813826B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
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- 1991-11-22 US US07/796,360 patent/US5136073A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-11-22 EP EP91310775A patent/EP0488595B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016102067A (ja) * | 2014-11-27 | 2016-06-02 | 信越化学工業株式会社 | オルガノキシシランの製造方法 |
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Publication number | Publication date |
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JPH0813826B2 (ja) | 1996-02-14 |
DE69107031D1 (de) | 1995-03-09 |
DE69107031T2 (de) | 1995-08-31 |
EP0488595B1 (en) | 1995-01-25 |
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