JPH0419972A - 電気的接続部材および電気回路部材 - Google Patents
電気的接続部材および電気回路部材Info
- Publication number
- JPH0419972A JPH0419972A JP2121496A JP12149690A JPH0419972A JP H0419972 A JPH0419972 A JP H0419972A JP 2121496 A JP2121496 A JP 2121496A JP 12149690 A JP12149690 A JP 12149690A JP H0419972 A JPH0419972 A JP H0419972A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holder
- adhesive layer
- electric circuit
- conductive
- conductive adhesive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 27
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 37
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 11
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 claims description 10
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 claims description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 9
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 claims description 8
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 claims description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 3
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 29
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 22
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 21
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 18
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 abstract description 17
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 5
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 abstract description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 3
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 abstract description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 18
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 17
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- -1 AgBe Substances 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019918 CrB2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- ZRTQSJFIDWNVJW-WYMLVPIESA-N Lanoconazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(CS\1)SC/1=C(\C#N)N1C=NC=C1 ZRTQSJFIDWNVJW-WYMLVPIESA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000010329 laser etching Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 208000019585 progressive encephalomyelitis with rigidity and myoclonus Diseases 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/811—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector the bump connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
- H01L2224/81101—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector the bump connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a bump connector, e.g. provided in an insulating plate member
Landscapes
- Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)
- Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
- Combinations Of Printed Boards (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Multi-Conductor Connections (AREA)
- Connections Effected By Soldering, Adhesion, Or Permanent Deformation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は電気的接続部材および電気回路部材に関し、特
に電気的接続部材および電気回路部品が電気的接続部材
を介して基体に接続されてなる電気回路部材に関する。
に電気的接続部材および電気回路部品が電気的接続部材
を介して基体に接続されてなる電気回路部材に関する。
[背景の技術]
従来は框体、回路基板等の基体と電気回路部品との接続
はコネクタ一方法、圧着端子方法、はんだ付は方法、ワ
イヤボンディング方法、TAB(ティグ オウトメイテ
エド ボンディング: TapeAutomated
Bonding)方法、CCB (コンドロールド コ
ラアブスト ボンディング: Controlledc
ollapsed Bonding)方法、異方性導電
膜を用いる方法等が公知である。ところが、これらの方
法においては、隣接する接続部同士が接触しないように
する為の最小ピッチが比較的大きい為、接続部同士のピ
ッチに小さいものが要求される場合には対応できないと
いう問題があった。更に、このような方法では配線が長
(なる為に抵抗値の増大、浮遊容量の増大を招くために
電気的特性上問題があった。特に高周波電気回路では顕
著であった。
はコネクタ一方法、圧着端子方法、はんだ付は方法、ワ
イヤボンディング方法、TAB(ティグ オウトメイテ
エド ボンディング: TapeAutomated
Bonding)方法、CCB (コンドロールド コ
ラアブスト ボンディング: Controlledc
ollapsed Bonding)方法、異方性導電
膜を用いる方法等が公知である。ところが、これらの方
法においては、隣接する接続部同士が接触しないように
する為の最小ピッチが比較的大きい為、接続部同士のピ
ッチに小さいものが要求される場合には対応できないと
いう問題があった。更に、このような方法では配線が長
(なる為に抵抗値の増大、浮遊容量の増大を招くために
電気的特性上問題があった。特に高周波電気回路では顕
著であった。
このような問題点を解決すべく、絶縁保持体中に複数の
導電部材を相互に絶縁して保持させた構成をなす電気的
接続部材、又は絶縁保持体の内部及び/又は保持体面上
で配線されており、接続導電部材の両端が前記保持体の
両面に保持体の面と同一もしくは突出して露出している
構成をなす電気的接続部材を用いて電気回路部品同士を
電気的に接続する方法が提案されている(特開昭63−
222437号公報、特開昭63−224235号公報
等)。
導電部材を相互に絶縁して保持させた構成をなす電気的
接続部材、又は絶縁保持体の内部及び/又は保持体面上
で配線されており、接続導電部材の両端が前記保持体の
両面に保持体の面と同一もしくは突出して露出している
構成をなす電気的接続部材を用いて電気回路部品同士を
電気的に接続する方法が提案されている(特開昭63−
222437号公報、特開昭63−224235号公報
等)。
第6図(a) 、 (b)は、このような1つの電気的
接続部材を用いた電気回路部品間の電気的接続を示す模
式図であり、図中1は電気的接続部材、2゜3は接続す
べき電気回路部品を示す。電気的接続部材1は、金属又
は合金からなる複数の棒状の導電部材4を、各々の導電
部材4同士を電気的に絶縁して、電気的絶縁材料からな
る薄板上の保持体5中に保持した構成をなし、導電部材
4の両端を各々バンブ8及び9として電気回路部品2及
び3側に突出しである(第6図(a)参照)。
接続部材を用いた電気回路部品間の電気的接続を示す模
式図であり、図中1は電気的接続部材、2゜3は接続す
べき電気回路部品を示す。電気的接続部材1は、金属又
は合金からなる複数の棒状の導電部材4を、各々の導電
部材4同士を電気的に絶縁して、電気的絶縁材料からな
る薄板上の保持体5中に保持した構成をなし、導電部材
4の両端を各々バンブ8及び9として電気回路部品2及
び3側に突出しである(第6図(a)参照)。
そして、一方の電気回路部品2の接続部6と導電部材4
のバンブ8とを、また、他方の電気回路部品3の接続部
7と導電部材4のバンブ9とを各々例えば熱圧着、超音
波加熱法等によって金属化および/又は合金化する事に
より接続し、電気回路部品2,3同士を電気的に接続す
る(第6図(b)参照)。
のバンブ8とを、また、他方の電気回路部品3の接続部
7と導電部材4のバンブ9とを各々例えば熱圧着、超音
波加熱法等によって金属化および/又は合金化する事に
より接続し、電気回路部品2,3同士を電気的に接続す
る(第6図(b)参照)。
ところで上記電気的接続部材1を製造する方法として、
第7図(a)〜(e)に示す方法が提案されている。こ
の方法は、まず、導電材製の銅箔10上に前記保持体5
となる感光性樹脂11を塗布する(第7図(a)参照)
。次に、後工程で前記導電部材4を埋設する所定の位置
を露光、現像することにより、感光性樹脂11に穴12
を形成してlF5 i 10を露出させる。次いで、温
度を上げて感光性樹脂11を硬化させる(第7図(b)
参照)。そして穴12内の近傍の銅箔10のエツチング
を行ない穴12の下部に凹部13を形成する(第7図(
C)参照)。
第7図(a)〜(e)に示す方法が提案されている。こ
の方法は、まず、導電材製の銅箔10上に前記保持体5
となる感光性樹脂11を塗布する(第7図(a)参照)
。次に、後工程で前記導電部材4を埋設する所定の位置
を露光、現像することにより、感光性樹脂11に穴12
を形成してlF5 i 10を露出させる。次いで、温
度を上げて感光性樹脂11を硬化させる(第7図(b)
参照)。そして穴12内の近傍の銅箔10のエツチング
を行ない穴12の下部に凹部13を形成する(第7図(
C)参照)。
その後、銅i1Dに対する金等のめつき処理を行なう事
により、凹部13及び穴12内に導電部材4を充填して
いき、凹部13内に前記バンブ9を形成し、また感光性
樹脂11の上面にバンブ8を形成する(第7図(d)参
照)。
により、凹部13及び穴12内に導電部材4を充填して
いき、凹部13内に前記バンブ9を形成し、また感光性
樹脂11の上面にバンブ8を形成する(第7図(d)参
照)。
その後、銅箔10を金属エツチングによって除去する事
により、前記電気的接続部材1が完成する(第7図(e
)参照)。
により、前記電気的接続部材1が完成する(第7図(e
)参照)。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記の第6図に示す様な熱圧着、超音波
加熱法等によって金属化および/又は合金化する事によ
り、電気回路部品の接続部と導電部材のバンブとを接続
する方法では、接続時に電気回路部品が熱に曝されるた
め低耐熱性のものでは接続できないという問題がある。
加熱法等によって金属化および/又は合金化する事によ
り、電気回路部品の接続部と導電部材のバンブとを接続
する方法では、接続時に電気回路部品が熱に曝されるた
め低耐熱性のものでは接続できないという問題がある。
ところで、高温加熱によらず比較的低温の接着により電
気的接続を図る方法が既に公知になっている(特開昭6
3−151031号公報)。この方法は紫外線硬化樹脂
が塗布された回路基板の電極とバンブ付き半導体素子の
電極とを位置決め、圧着し、紫外線を照射して樹脂の硬
化収縮を利用することにより電気的接続を行なうが、こ
の方法では樹脂の配合が難しく、所望の樹脂を得るのに
技術的な課題が多い。
気的接続を図る方法が既に公知になっている(特開昭6
3−151031号公報)。この方法は紫外線硬化樹脂
が塗布された回路基板の電極とバンブ付き半導体素子の
電極とを位置決め、圧着し、紫外線を照射して樹脂の硬
化収縮を利用することにより電気的接続を行なうが、こ
の方法では樹脂の配合が難しく、所望の樹脂を得るのに
技術的な課題が多い。
また、接続部に樹脂が含有され易いために接続抵抗値が
大きくなったり、熱膨張係数の差が太き(なるために品
質上の問題が生じたりする。
大きくなったり、熱膨張係数の差が太き(なるために品
質上の問題が生じたりする。
さらに、隣接する接続部間に樹脂が存在するため熱膨張
係数の差が大きいために、剥れが生じたり、クラックが
生じ易すがったりする等の品質上の問題が生じたりする
。
係数の差が大きいために、剥れが生じたり、クラックが
生じ易すがったりする等の品質上の問題が生じたりする
。
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、接
続部に比較的容易な方法で形成された導電性接着層を有
する電気的接続部材を用いることにより、低温で容易に
電気回路部品同士を接続することが可能な電気的接続部
材および電気回路部材を提供することを目的とする。
続部に比較的容易な方法で形成された導電性接着層を有
する電気的接続部材を用いることにより、低温で容易に
電気回路部品同士を接続することが可能な電気的接続部
材および電気回路部材を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
即ち、本発明は、電気的絶縁材からなる保持体と、該保
持体に相互に絶縁状態に装備され露出した複数の導電部
材とを有し、該露出した保持体の両方の面の導電部材上
に、超微粒金属粉体又は金属化されたセラミック粉体の
一方又は両方を含有する接着性樹脂溶液から電気泳動法
によって共析形成された導電性接着層を有し、該導電性
接着層が前記保持体の面と同一かもしくは突出して露出
していることを特徴とする電気的接続部材である。
持体に相互に絶縁状態に装備され露出した複数の導電部
材とを有し、該露出した保持体の両方の面の導電部材上
に、超微粒金属粉体又は金属化されたセラミック粉体の
一方又は両方を含有する接着性樹脂溶液から電気泳動法
によって共析形成された導電性接着層を有し、該導電性
接着層が前記保持体の面と同一かもしくは突出して露出
していることを特徴とする電気的接続部材である。
また、本発明は、電気的絶縁材からなる保持体と、該保
持体に相互に絶縁状態に装備され露出した複数の導電部
材とを有し、該露出した保持体の両方の面の導電部材上
に超微粒金属粉体又は金属化されたセラミック粉体の一
方又は両方を含有する接着性樹脂溶液から電気泳動法に
よって共析形成された導電性接着層を有し、該導電性接
着層が前記保持体の面と同一かもしくは突出している電
気的接続部材と、 少なくとも1以上の接続部を有し、該接続部において前
記電気的接続部材の保持体の一方の面において露出して
いる導電性接着層のうちの少なくとも1つの一端が接着
により電気的に接続されている少なくとも1以上の電気
回路部品と、少なくとも1以上の接続部を有し、該接続
部において前記電気的接続部材の保持体の他方の面にお
いて露aしている導電性接着層のうちの少なくとも1つ
の一端が接着により電気的に接続されている少なくとも
1以上の電気回路部品とを有することを特徴とする電気
回路部材である。
持体に相互に絶縁状態に装備され露出した複数の導電部
材とを有し、該露出した保持体の両方の面の導電部材上
に超微粒金属粉体又は金属化されたセラミック粉体の一
方又は両方を含有する接着性樹脂溶液から電気泳動法に
よって共析形成された導電性接着層を有し、該導電性接
着層が前記保持体の面と同一かもしくは突出している電
気的接続部材と、 少なくとも1以上の接続部を有し、該接続部において前
記電気的接続部材の保持体の一方の面において露出して
いる導電性接着層のうちの少なくとも1つの一端が接着
により電気的に接続されている少なくとも1以上の電気
回路部品と、少なくとも1以上の接続部を有し、該接続
部において前記電気的接続部材の保持体の他方の面にお
いて露aしている導電性接着層のうちの少なくとも1つ
の一端が接着により電気的に接続されている少なくとも
1以上の電気回路部品とを有することを特徴とする電気
回路部材である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の電気的接続部材は、電気的絶縁材からなる保持
体と、該保持体に相互に絶縁状態に装備され露出した複
数の導電部材とを有する電気的接続部材からなり、前記
露出した保持体の両方の面の導電部材上に、超微粒金属
粉体又は金属化されたセラミック粉体の一方又は両方を
含有する接着性樹脂溶液から電気泳動法によって共析形
成された導電性接着層を有し、前記導電性接着層が前記
保持体の面と同一かもしくは突出して露出した構成から
なるものである。
体と、該保持体に相互に絶縁状態に装備され露出した複
数の導電部材とを有する電気的接続部材からなり、前記
露出した保持体の両方の面の導電部材上に、超微粒金属
粉体又は金属化されたセラミック粉体の一方又は両方を
含有する接着性樹脂溶液から電気泳動法によって共析形
成された導電性接着層を有し、前記導電性接着層が前記
保持体の面と同一かもしくは突出して露出した構成から
なるものである。
この導電性接着層は通常固体状であるが、本発明はこれ
に限定されず、例えば加熱されてゲル状或いはゾル状に
なったものなどを用いる場合も含む。
に限定されず、例えば加熱されてゲル状或いはゾル状に
なったものなどを用いる場合も含む。
本発明の電気的接続部材においては、複数の導電部材の
うちの所定の導電部材が相互に導通するように保持体の
内部及び/又は保持体面上で配線されていることが好ま
しい。
うちの所定の導電部材が相互に導通するように保持体の
内部及び/又は保持体面上で配線されていることが好ま
しい。
また、電気的接続部材の導電部材に形成される導電性接
着層に含有される超微粒金属粉体の平均粒径は0.O1
〜2μm、および金属化されたセラミック粉体の平均粒
径は0゜1〜5μmの範囲が望ましい。また、導電性接
着層に含有される超微粒金属粉体又は金属化されたセラ
ミック粉体の一方又は両方の含有量は30〜80wt%
の範囲が望ましい。
着層に含有される超微粒金属粉体の平均粒径は0.O1
〜2μm、および金属化されたセラミック粉体の平均粒
径は0゜1〜5μmの範囲が望ましい。また、導電性接
着層に含有される超微粒金属粉体又は金属化されたセラ
ミック粉体の一方又は両方の含有量は30〜80wt%
の範囲が望ましい。
次に、本発明の電気回路部材は、上記の電気的接続部材
と、少なくとも1以上の接続部を有し、該接続部におい
て前記電気的接続部材の保持体の一方の面において露出
している導電性接着層のうちの少なくとも1つの一端が
接着により電気的に接続されている少なくとも1以上の
電気回路部品と、少なくとも1以上の接続部を有し、該
接続部において前記電気的接続部材の保持体の他方の面
において露出している導電性接着層のうち少なくとも1
つの一端が接着により電気的に接続されている少なくと
も1以上の電気回路部品とを有するものである。
と、少なくとも1以上の接続部を有し、該接続部におい
て前記電気的接続部材の保持体の一方の面において露出
している導電性接着層のうちの少なくとも1つの一端が
接着により電気的に接続されている少なくとも1以上の
電気回路部品と、少なくとも1以上の接続部を有し、該
接続部において前記電気的接続部材の保持体の他方の面
において露出している導電性接着層のうち少なくとも1
つの一端が接着により電気的に接続されている少なくと
も1以上の電気回路部品とを有するものである。
すなわち、上記の電気的接続部材を用いて、方の電気回
路部品の接続部と電気的接続部材の導電性接着層とを接
着により電気的に接続し、他方の電気回路部品の接続部
と電気的接続部材の導電性接着層とを接着により電気的
に接続してなる電気回路部材である。
路部品の接続部と電気的接続部材の導電性接着層とを接
着により電気的に接続し、他方の電気回路部品の接続部
と電気的接続部材の導電性接着層とを接着により電気的
に接続してなる電気回路部材である。
この本発明の電気回路部材は、低耐熱性の電気回路部品
を比較的低温の接着により接続することができるので、
接続が容易であるとともに、電気回路部品の選択の範囲
が広がり応用範囲が広くなる。
を比較的低温の接着により接続することができるので、
接続が容易であるとともに、電気回路部品の選択の範囲
が広がり応用範囲が広くなる。
また接続部のみを接続するので熱膨張係数の相違による
品質上の問題が回避できるので、品質特性の良い電気回
路部材が得られる。
品質上の問題が回避できるので、品質特性の良い電気回
路部材が得られる。
また、本発明の電気回路部材においては、電気的接続部
材に設けられている複数の導電部材のうちの所定の導電
部材が相互に導通するように保持体の内部及び/又は保
持体面上で配線されていることが好ましい。
材に設けられている複数の導電部材のうちの所定の導電
部材が相互に導通するように保持体の内部及び/又は保
持体面上で配線されていることが好ましい。
さらに、本発明の電気回路部材は、電気回路部品の接続
部が、超微粒金属粉体又は金属化されたセラミック粉体
の一方又は両方を含有した接着性樹脂溶液から電気泳動
法によって共析形成された導電性接着層を有する接続部
を少なくとも1個以上有し、該接続部において、電気的
接続部材の保持体の一方の面において露出している導電
性接着層を有する導電部材のうちの少なくとも1つの一
端が接着により電気的に接続されていることが好ましい
。
部が、超微粒金属粉体又は金属化されたセラミック粉体
の一方又は両方を含有した接着性樹脂溶液から電気泳動
法によって共析形成された導電性接着層を有する接続部
を少なくとも1個以上有し、該接続部において、電気的
接続部材の保持体の一方の面において露出している導電
性接着層を有する導電部材のうちの少なくとも1つの一
端が接着により電気的に接続されていることが好ましい
。
また、電気回路部材の少なくとも1以上の電気回路部品
の接続部を有する面とは反対の面の少なくとも一部分の
金属表面上に、超微粒金属粉体又は金属化されたセラミ
ック粉体の一方又は両方を含有する接着性樹脂溶液から
電気泳動法によって共析形成された導電性接着層を設け
ることにょリ、シールド性の優れた電気回路部材を得る
ことが可能となる。
の接続部を有する面とは反対の面の少なくとも一部分の
金属表面上に、超微粒金属粉体又は金属化されたセラミ
ック粉体の一方又は両方を含有する接着性樹脂溶液から
電気泳動法によって共析形成された導電性接着層を設け
ることにょリ、シールド性の優れた電気回路部材を得る
ことが可能となる。
また、本発明の電気回路部材に用いられる電気回路部品
としては、例えば框体、樹脂回路基板、金属回路基板、
セラミック回路基板、リードフレーム、半導体素子等の
電気回路部品であることが好ましい。
としては、例えば框体、樹脂回路基板、金属回路基板、
セラミック回路基板、リードフレーム、半導体素子等の
電気回路部品であることが好ましい。
[実施例]
以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1
第1図(a) 、 (b)は本発明の電気回路部材の一
実施例を示す模式図である。同図は、電、気回路部品間
に、両方の面に導電性接着層を有する電気的接続部材を
介して電気的接続をしている状態を示し、第1図(a)
は接続前の状態を示し、第1図(b)は接続後の状態を
示す。図中、1は電気的接続部材、3は電気回路部品(
回路基板)、2は電気回路部品(半導体素子)を示す。
実施例を示す模式図である。同図は、電、気回路部品間
に、両方の面に導電性接着層を有する電気的接続部材を
介して電気的接続をしている状態を示し、第1図(a)
は接続前の状態を示し、第1図(b)は接続後の状態を
示す。図中、1は電気的接続部材、3は電気回路部品(
回路基板)、2は電気回路部品(半導体素子)を示す。
ここで第2図(a)〜(g)に基づき電気的接続部材の
製造方法を説明する。
製造方法を説明する。
第2図(a)〜(c)までは、従来の電気的接続部材の
製造方法と同じ工程をとる。
製造方法と同じ工程をとる。
すなわち、まず、基体たる銅板10aを準備し、銅板1
0a上に接着補助剤をスピンナを用いて塗布後、感光性
樹脂であるネガ型のポリイミド樹脂11aをスピンナを
用いて塗布した後、ブリベイクを行う(第2図(a)参
照)。ここで、溶剤の飛散と樹脂自身の硬化とに伴う膜
厚の減少を考慮して、塗布するポリイミド樹脂11aの
膜厚は、製造される保持体の所望の膜厚よりも厚くして
おく。
0a上に接着補助剤をスピンナを用いて塗布後、感光性
樹脂であるネガ型のポリイミド樹脂11aをスピンナを
用いて塗布した後、ブリベイクを行う(第2図(a)参
照)。ここで、溶剤の飛散と樹脂自身の硬化とに伴う膜
厚の減少を考慮して、塗布するポリイミド樹脂11aの
膜厚は、製造される保持体の所望の膜厚よりも厚くして
おく。
次いで、所定パター=7を有するフォトマスク(図示せ
ず)を介して光をポリイミド樹脂11aに照射した(露
光した)後、現像を行う。この際、照射する光のエネル
ギー密度は100〜10000IllJ/Cm2に設定
し、現像時間は4〜30分とする。
ず)を介して光をポリイミド樹脂11aに照射した(露
光した)後、現像を行う。この際、照射する光のエネル
ギー密度は100〜10000IllJ/Cm2に設定
し、現像時間は4〜30分とする。
本実施例では、露光された部分にはポリイミド樹脂11
aが残存し、露光されない部分は現像処理によりポリイ
ミド樹脂11aが除去されて、直径10〜20μm程度
の穴12が形成される。その後、温度を上げてポリイミ
ド樹脂11aの硬化を行う(第2図(b)参照)。
aが残存し、露光されない部分は現像処理によりポリイ
ミド樹脂11aが除去されて、直径10〜20μm程度
の穴12が形成される。その後、温度を上げてポリイミ
ド樹脂11aの硬化を行う(第2図(b)参照)。
ところで、適正な露光条件および現像条件に設定した場
合においても、穴12の銅板10aの表面にポリイミド
樹脂11aの残渣(図示していない)が残る場合がある
。このような場合には、乾式エツチングを施して、銅板
10aを完全に露出させる。
合においても、穴12の銅板10aの表面にポリイミド
樹脂11aの残渣(図示していない)が残る場合がある
。このような場合には、乾式エツチングを施して、銅板
10aを完全に露出させる。
乾式エツチングとしては、例えば0□プラズマエツチン
グを採用でき、この際のエツチング条件の例を示すと次
のようである。
グを採用でき、この際のエツチング条件の例を示すと次
のようである。
高周波型カニ 200〜400W、 02流量:
200 SCCM圧カニ I Torr、 エツチン
グ時間:5〜1o分次に、このような処理がなされた銅
板10aをエツチング液中に浸漬させてエツチングを行
う。
200 SCCM圧カニ I Torr、 エツチン
グ時間:5〜1o分次に、このような処理がなされた銅
板10aをエツチング液中に浸漬させてエツチングを行
う。
穴12の近傍の銅板10aの一部がエツチングされて除
去され、穴12に連通する凹部13が銅板10aに形成
される(第2図(c)参照)。
去され、穴12に連通する凹部13が銅板10aに形成
される(第2図(c)参照)。
次に、銅板10aを共通電極として導電性接着層14を
設ける。導電性接着層14の膜厚はポリイミド樹脂に埋
設されない程度に薄(形成する。導電性接着層14を形
成する工程を下記に示す。
設ける。導電性接着層14の膜厚はポリイミド樹脂に埋
設されない程度に薄(形成する。導電性接着層14を形
成する工程を下記に示す。
ポリエステル系樹脂(商品名FINETEX ES52
5、大日本インキ化学社製)60重量部とポリエステル
系樹脂(商品名FINETEX 525、大日本インキ
化学社製)40重量部、さらに架橋剤(商品名PERM
ASTAT R−5、大日本インキ化学社製)5重量部
、触媒(商品名 Cat PA−20、犬日本インキ化
学社製)2.5重量部の割合で混合し、さらに平均粒径
0.02μmの銅粉体30重量部と平均粒径1 μmの
アルミナの表面にニッケルめっきを0.2μmの厚さに
施した粉体20重量部を混合し、ボールミルにて30時
間分散した後、脱塩水にて15wt%に希釈し、25℃
、pH8,5の条件で基材を陽極とし、対極にステンレ
ス板を用いて、印加電圧100V、処理時間1〜2分の
電着処理を行った。その後、50’C,10分間加熱し
て導電性接着層14を形成した(第2図(d)参照)。
5、大日本インキ化学社製)60重量部とポリエステル
系樹脂(商品名FINETEX 525、大日本インキ
化学社製)40重量部、さらに架橋剤(商品名PERM
ASTAT R−5、大日本インキ化学社製)5重量部
、触媒(商品名 Cat PA−20、犬日本インキ化
学社製)2.5重量部の割合で混合し、さらに平均粒径
0.02μmの銅粉体30重量部と平均粒径1 μmの
アルミナの表面にニッケルめっきを0.2μmの厚さに
施した粉体20重量部を混合し、ボールミルにて30時
間分散した後、脱塩水にて15wt%に希釈し、25℃
、pH8,5の条件で基材を陽極とし、対極にステンレ
ス板を用いて、印加電圧100V、処理時間1〜2分の
電着処理を行った。その後、50’C,10分間加熱し
て導電性接着層14を形成した(第2図(d)参照)。
次に、銅板10aを共通電極として用いた金メツキによ
り、凹部13.穴12に導電材料たる金4aをポリイミ
ド樹脂11aの面より凸にして埋設する(第2図(e)
参照)。
り、凹部13.穴12に導電材料たる金4aをポリイミ
ド樹脂11aの面より凸にして埋設する(第2図(e)
参照)。
次に、銅板10aを共通電極として上記と同様の方法に
より、金48の上に導電性接着層14を形成した(第2
図(f)参照)。導電性接着層14の厚さは1〜100
ルmが好ましい。
より、金48の上に導電性接着層14を形成した(第2
図(f)参照)。導電性接着層14の厚さは1〜100
ルmが好ましい。
最後に、銅は除去するが金4aおよび導電性接着層14
は除去しないようなエッチャントを用いた金属エツチン
グにより、銅板10aを除去して、第2図(g)に示す
ような電気的接続部材1を製造した。
は除去しないようなエッチャントを用いた金属エツチン
グにより、銅板10aを除去して、第2図(g)に示す
ような電気的接続部材1を製造した。
本実施例においては、電気的接続部材1における導電部
材は金4aおよび導電性接着層14であり、保持体はポ
リイミド樹脂11aである。
材は金4aおよび導電性接着層14であり、保持体はポ
リイミド樹脂11aである。
乾式エツチングとしては、上述したような0□プラズマ
エツチングの他に、電子サイクロトロン共鳴(ERC)
プラズマエツチング、またはエキシマレーザ光の照射に
よるレーザエツチングなどを採用してもよい。
エツチングの他に、電子サイクロトロン共鳴(ERC)
プラズマエツチング、またはエキシマレーザ光の照射に
よるレーザエツチングなどを採用してもよい。
また、上記の例では、金めつきはポリイミド樹脂11a
の面より凸になる様に、導電性接着層14の形成条件と
金めっき条件を決定したが、金めつきがポリイミド樹脂
1.1aの面より凹になるようにしてもよい。
の面より凸になる様に、導電性接着層14の形成条件と
金めっき条件を決定したが、金めつきがポリイミド樹脂
1.1aの面より凹になるようにしてもよい。
なお、本実施例では金めつきにより金(導電部材)を充
填する例を示したが、他の方法、例えば蒸着によって行
ってもよい。
填する例を示したが、他の方法、例えば蒸着によって行
ってもよい。
実施例では、導電部材の材料として金を使用したが、実
施例で用いられた金(Au)の他に、Cu、 AgBe
、 Ca、 Mg、 Mo、 Ni、 W、 Fe、
Ti、 In、 Ta、 Zn。
施例で用いられた金(Au)の他に、Cu、 AgBe
、 Ca、 Mg、 Mo、 Ni、 W、 Fe、
Ti、 In、 Ta、 Zn。
Ail、 Sn、 Pb−3n等の金属または合金等も
使用できる。導電部材は、一種の金属及び合金から形成
されていてもよいし、数種類の金属及び合金を混合して
形成されていてもよい。また、金属材料に有機材料また
は無機材料の一方あるいは両方を含有せしめた材料でも
よい。なお導電部材の断面形状は、円形、四角形その他
の形状とすることができるが、応力の過度の集中を避け
るためには角がない形状が望ましい。また、導電部材は
保持体中に垂直に配置する必要はな(、保持体の一方の
面側から保持体の他方の面側に斜行していてもよい。
使用できる。導電部材は、一種の金属及び合金から形成
されていてもよいし、数種類の金属及び合金を混合して
形成されていてもよい。また、金属材料に有機材料また
は無機材料の一方あるいは両方を含有せしめた材料でも
よい。なお導電部材の断面形状は、円形、四角形その他
の形状とすることができるが、応力の過度の集中を避け
るためには角がない形状が望ましい。また、導電部材は
保持体中に垂直に配置する必要はな(、保持体の一方の
面側から保持体の他方の面側に斜行していてもよい。
感光性樹脂として、ポリイミド樹脂を用いたが特に限定
されることはない。感光性樹脂には他の公知の材料を含
有させてもよく、その含有させる材料、および添加方法
は公知の方法で良い。
されることはない。感光性樹脂には他の公知の材料を含
有させてもよく、その含有させる材料、および添加方法
は公知の方法で良い。
さらに、導電性接着層に用いる樹脂はポリエステル系の
他アクリル系、エポキシ系、ポリアミド系、アクリル・
メラミン系、ポリアクリル酸系等の樹脂をベースにして
もよい。
他アクリル系、エポキシ系、ポリアミド系、アクリル・
メラミン系、ポリアクリル酸系等の樹脂をベースにして
もよい。
超微粒金属粉体には、銅に限らずAu、 Ag、 Aj
?Be、 Ca、 Mg、 Mo、 Fe、 Ni、
Co、 Mn、 W、 Cr、 Nb。
?Be、 Ca、 Mg、 Mo、 Fe、 Ni、
Co、 Mn、 W、 Cr、 Nb。
Zr、 Ti、 Ta、 Zn、 Sn、 Pb−3n
等が挙げられる。
等が挙げられる。
また、セラミック粉体は、SiO□、 B2O3,Ag
2O3゜Na2O,K2O,Cab、 ZnO,Bad
、 PbO,5b2o3. AS203LazO3,Z
rO2,P2O5,TiO□、 M80,SiC,Be
d、 BPBN AfN、 B4C,TaC,TiB
、 CrB2. TiN、 5i3Na。
2O3゜Na2O,K2O,Cab、 ZnO,Bad
、 PbO,5b2o3. AS203LazO3,Z
rO2,P2O5,TiO□、 M80,SiC,Be
d、 BPBN AfN、 B4C,TaC,TiB
、 CrB2. TiN、 5i3Na。
Ta2es等のセラミック、ダイヤモンド、ガラスカー
ボン、ボロン等が挙げられる。
ボン、ボロン等が挙げられる。
金属化されたセラミック粉体は、上記セラミックス粉体
上に金属材料を付着したものが用いられる。金属材料を
付着する方法はめつき等の湿式でもよいし、または蒸着
、スパッタリング等の乾式方法でもよい。
上に金属材料を付着したものが用いられる。金属材料を
付着する方法はめつき等の湿式でもよいし、または蒸着
、スパッタリング等の乾式方法でもよい。
また、電気的接続部材の導電部材に形成される導電性接
着層に含有される超微粒金属粉体の平均粒径は0.01
〜2μm、好ましくは0.05〜1.54m、および金
属化されたセラミック粉体の平均粒径は0.1〜5Ii
、m、好ましくは1.5m4仄mの範囲が望ましい。導
電性接着層には、超微粒金属粉体又は金属化されたセラ
ミック粉体の一方又は両方が含有されるが、その含有量
は通常30〜80wt%、好ましくは35〜45wt%
の範囲が望ましい。
着層に含有される超微粒金属粉体の平均粒径は0.01
〜2μm、好ましくは0.05〜1.54m、および金
属化されたセラミック粉体の平均粒径は0.1〜5Ii
、m、好ましくは1.5m4仄mの範囲が望ましい。導
電性接着層には、超微粒金属粉体又は金属化されたセラ
ミック粉体の一方又は両方が含有されるが、その含有量
は通常30〜80wt%、好ましくは35〜45wt%
の範囲が望ましい。
超微粒金属粉体および金属化されたセラミック粉体の両
方が含有される場合には、超微粒金属粉体100重量部
に対して金属化されたセラミック粉体20〜80重量部
の割合に配合した混合粉体が好ましい。
方が含有される場合には、超微粒金属粉体100重量部
に対して金属化されたセラミック粉体20〜80重量部
の割合に配合した混合粉体が好ましい。
次に、本発明の電気的接続部材の製造方法の他の方法を
、第4図(a)〜(h)に示す工程図に基づいて説明す
る。
、第4図(a)〜(h)に示す工程図に基づいて説明す
る。
第4図(a)、(b)は、第2図と同様の工程で行なわ
れる。次に、銅板10aを第2図の場合よりも薄く、わ
ずかにエツチングする(第4図(C)参照)。
れる。次に、銅板10aを第2図の場合よりも薄く、わ
ずかにエツチングする(第4図(C)参照)。
その後、第2図(e) 、 (f)のようにポリイミド
樹脂11a面よりわずかに凸になるように金めつきをし
く第4図(d)参照)、その後導電性接着層14を設け
る(第4図(e)参照)。次に、導電性接着層14と露
出しているポリイミド樹脂11a上に蒸着で金属4bを
形成する(第4図(f)参照)。この金属4bがのちに
共通電極となる。その後、銅板10aをエツチングによ
り除去し、金属4bを共通電極とし、金属4bとは反対
側の金4aに導電性接着層14を設ける(第4図(g)
参照)。その後、共通電極として用いた金属4bを除去
し電気的接続部材1を得る(第4図(h)参照)。
樹脂11a面よりわずかに凸になるように金めつきをし
く第4図(d)参照)、その後導電性接着層14を設け
る(第4図(e)参照)。次に、導電性接着層14と露
出しているポリイミド樹脂11a上に蒸着で金属4bを
形成する(第4図(f)参照)。この金属4bがのちに
共通電極となる。その後、銅板10aをエツチングによ
り除去し、金属4bを共通電極とし、金属4bとは反対
側の金4aに導電性接着層14を設ける(第4図(g)
参照)。その後、共通電極として用いた金属4bを除去
し電気的接続部材1を得る(第4図(h)参照)。
なお、共通電極を設ける工程は銅板1[)aを除去した
後の工程で設けても良い。
後の工程で設けても良い。
次に、第1図(a)、(b)の電気回路部材において、
電気的接続部材1は第2図または第4図に示す様に、金
および導電性接着層からなる複数の導電部材4を各々の
導電部材4同志を、ポリイミドからなる保持体5中に備
えて電気的に絶縁させて構成されており、導電部材4の
一端の導電性接着層14を形成したバンブ8を電気回路
部品2側に露出させ、また導電部材4の他端の導電性接
着層14を形成したバンブ9を回路基板3側に露出させ
ている(第1図(a)参照))。
電気的接続部材1は第2図または第4図に示す様に、金
および導電性接着層からなる複数の導電部材4を各々の
導電部材4同志を、ポリイミドからなる保持体5中に備
えて電気的に絶縁させて構成されており、導電部材4の
一端の導電性接着層14を形成したバンブ8を電気回路
部品2側に露出させ、また導電部材4の他端の導電性接
着層14を形成したバンブ9を回路基板3側に露出させ
ている(第1図(a)参照))。
そして、電気回路部品2のパッシベーション膜16に覆
われていない接続部15と、電気回路部品2側に露出し
た導電部材4の導電性接着層14を形成したバンブ8と
を接着により電気的に接続する。
われていない接続部15と、電気回路部品2側に露出し
た導電部材4の導電性接着層14を形成したバンブ8と
を接着により電気的に接続する。
また、電気回路部品3の接続部17と、電気回路部品3
側に露出した導電部材4の導電性接着層14を形成した
バンブ9とを接着により接続し電気的接続を図る(第1
図(b) ?照)。電気回路部品2の接続部15と、電
気回路部品2側に露出した導電部材4の導電性接着層と
の接続温度、および電気回路部品3の接続部17と、電
気回路部品3側に露出した導電部材4の導電性接着層と
の接続温度は、180°C以下の低温で接続可能であり
、良好な接続が得られた。
側に露出した導電部材4の導電性接着層14を形成した
バンブ9とを接着により接続し電気的接続を図る(第1
図(b) ?照)。電気回路部品2の接続部15と、電
気回路部品2側に露出した導電部材4の導電性接着層と
の接続温度、および電気回路部品3の接続部17と、電
気回路部品3側に露出した導電部材4の導電性接着層と
の接続温度は、180°C以下の低温で接続可能であり
、良好な接続が得られた。
なお、接続の場合、電気回路部品2と電気回路部品3と
の位置決めは必要であるが、電気的接続部材1の導電部
材4のピッチが電気回路部品2の接続部15および電気
回路部品3の接続部17のピ・ソチより小さいために電
気的接続部材1の位置決めは粗略で良い。
の位置決めは必要であるが、電気的接続部材1の導電部
材4のピッチが電気回路部品2の接続部15および電気
回路部品3の接続部17のピ・ソチより小さいために電
気的接続部材1の位置決めは粗略で良い。
また、本実施例では、電気的接続部材1と電気回路部品
2を接続してから、電気的接続部材1と電気回路部品3
を接続したが、その順序は逆であっても同時でもよい。
2を接続してから、電気的接続部材1と電気回路部品3
を接続したが、その順序は逆であっても同時でもよい。
実施例2
第3図(a) 、 (b)は本発明の電気回路部材の他
の実施例を示す模式図である。同図は、実施例1の電気
回路部品3の銅箔からなる接続部17と電気回路部品2
の接続部15上に、実施例1の電気的接続部材の導電性
接着層を設けた方法と同じ方法で導電性接着層14aを
設けたものであり、その他は実施例1と同様の構成から
なるものである。この電気回路部材においては、電気回
路部品2,3に反りがあっても良好な接続が得られる。
の実施例を示す模式図である。同図は、実施例1の電気
回路部品3の銅箔からなる接続部17と電気回路部品2
の接続部15上に、実施例1の電気的接続部材の導電性
接着層を設けた方法と同じ方法で導電性接着層14aを
設けたものであり、その他は実施例1と同様の構成から
なるものである。この電気回路部材においては、電気回
路部品2,3に反りがあっても良好な接続が得られる。
実施例3
第5図(a) 、 (b)は本発明の電気回路部材のさ
らに他の実施例を示す模式図である。同図は、実施例1
の電気回路部品3の銅箔からなる接続部17が設けられ
た面とは反対側の面に、実施例]の電気的接続部材の導
電性接着層を設けた方法と同じ方法で導電性接着層14
bを設しツだものであり、その他は実施例1と同様の構
成からなるものである。
らに他の実施例を示す模式図である。同図は、実施例1
の電気回路部品3の銅箔からなる接続部17が設けられ
た面とは反対側の面に、実施例]の電気的接続部材の導
電性接着層を設けた方法と同じ方法で導電性接着層14
bを設しツだものであり、その他は実施例1と同様の構
成からなるものである。
この電気回路部材においては、良好な接続が可能となり
、さらにシールド効果が良い電気回路部材が得られた。
、さらにシールド効果が良い電気回路部材が得られた。
[発明の効果コ
以上説明した様に、本発明の電気的接続部材を用いた電
気回路部材にあっては、従来よりも狭ピッチ、多ビン接
合が可能なため高密度な電気回路部材を得ることができ
る。また、導電部材の配線長が短くできるため、低抵抗
配線となり、発熱も少なく、また浮遊容量も減少するの
で、信号の遅れが少ない等の電気特性が向上するため、
電気特性が良い電気回路部材が得らる。ことに高周波回
路の場合にこの効果が大きい。
気回路部材にあっては、従来よりも狭ピッチ、多ビン接
合が可能なため高密度な電気回路部材を得ることができ
る。また、導電部材の配線長が短くできるため、低抵抗
配線となり、発熱も少なく、また浮遊容量も減少するの
で、信号の遅れが少ない等の電気特性が向上するため、
電気特性が良い電気回路部材が得らる。ことに高周波回
路の場合にこの効果が大きい。
また、本発明は、導電部材上に、超微粒金属粉体又は金
属化されたセラミック粉体の一方又は両方を含有する接
着性樹脂溶液から電気泳動法によって共析形成された導
電性接着層を設けているので、接続にあっては、接着に
よる電気的接続が行なわれるので、比較的低耐熱性の電
気回路部品でも用いることが可能で、しかも容易に接続
ができるため応用範囲が広い部品および装置が得られる
。さらに、接続部のみを接続するので信頼性の高い良品
質な電気回路部材が得られる。
属化されたセラミック粉体の一方又は両方を含有する接
着性樹脂溶液から電気泳動法によって共析形成された導
電性接着層を設けているので、接続にあっては、接着に
よる電気的接続が行なわれるので、比較的低耐熱性の電
気回路部品でも用いることが可能で、しかも容易に接続
ができるため応用範囲が広い部品および装置が得られる
。さらに、接続部のみを接続するので信頼性の高い良品
質な電気回路部材が得られる。
また、本発明においては、少なくとも1以上の電気回路
部品の接続部を有する面とは反対の面の金属表面上に、
前記導電性接着層を設けているので、シールド効果の良
い電気回路部材が得られ、電気回路部材から外界へ、或
いは外界から電気回路部材へ入る電磁気ノイズを比較的
遮断し易いため非常に良好な電気回路部材が得られる。
部品の接続部を有する面とは反対の面の金属表面上に、
前記導電性接着層を設けているので、シールド効果の良
い電気回路部材が得られ、電気回路部材から外界へ、或
いは外界から電気回路部材へ入る電磁気ノイズを比較的
遮断し易いため非常に良好な電気回路部材が得られる。
第1図(a)、(b)、第3図(a) 、 (b)およ
び第5図(a)、(b)は各々本発明の電気回路部材の
実施例を示す模式図であり、各図の(a)は接続前の状
態、(b)は接続後の状態を示す。第2図(a)〜(g
)は本発明の電気的接続部材の製造方法の一例を示す工
程図、第4図(a)〜(h)は本発明の電気的接続部材
の製造方法の他の例を示す工程図、第6図(a)、(b
)は従来例の電気回路部材を示す模式図であり、(a)
は接続前の状態、(b)は接続後の状態を示す。第7図
(a)〜(e)は従来例の電気的接続部材の製造方法の
一例を示す工程図である。 1・・・電気的接続部材 2,3・・・電気回路部品
4・・・導電部材 4a・・・金4b・・・金
属 5・・・保持体6、7.15.17・・
・接続部 8.9・・・バンブ 1o・・・銅箔10a・・
・銅板 11・・・感光性樹脂11a・・・
ポリイミド樹脂 I2・・・穴13・・・凹部 4a 14b・・・導電性接着層 16・・・パッシベーショ ン膜
び第5図(a)、(b)は各々本発明の電気回路部材の
実施例を示す模式図であり、各図の(a)は接続前の状
態、(b)は接続後の状態を示す。第2図(a)〜(g
)は本発明の電気的接続部材の製造方法の一例を示す工
程図、第4図(a)〜(h)は本発明の電気的接続部材
の製造方法の他の例を示す工程図、第6図(a)、(b
)は従来例の電気回路部材を示す模式図であり、(a)
は接続前の状態、(b)は接続後の状態を示す。第7図
(a)〜(e)は従来例の電気的接続部材の製造方法の
一例を示す工程図である。 1・・・電気的接続部材 2,3・・・電気回路部品
4・・・導電部材 4a・・・金4b・・・金
属 5・・・保持体6、7.15.17・・
・接続部 8.9・・・バンブ 1o・・・銅箔10a・・
・銅板 11・・・感光性樹脂11a・・・
ポリイミド樹脂 I2・・・穴13・・・凹部 4a 14b・・・導電性接着層 16・・・パッシベーショ ン膜
Claims (9)
- (1)電気的絶縁材からなる保持体と、該保持体に相互
に絶縁状態に装備され露出した複数の導電部材とを有し
、該露出した保持体の両方の面の導電部材上に、超微粒
金属粉体又は金属化されたセラミック粉体の一方又は両
方を含有する接着性樹脂溶液から電気泳動法によって共
析形成された導電性接着層を有し、該導電性接着層が前
記保持体の面と同一かもしくは突出して露出しているこ
とを特徴とする電気的接続部材。 - (2)請求項1に記載の電気的接続部材において、複数
の導電部材のうちの所定の導電部材が相互に導通するよ
うに保持体の内部及び/又は保持体面上で配線されてい
ることを特徴とする電気的接続部材。 - (3)前記導電性接着層に含有される超微粒金属粉体の
平均粒径は0.01〜2μmおよび金属化されたセラミ
ック粉体の平均粒径は0.1〜5μmであり、かつ導電
性接着層に含有される超微粒金属粉体又は金属化された
セラミック粉体の一方又は両方の含有量は30〜80w
t%である請求項1または2に記載の電気的接続部材。 - (4)電気的絶縁材からなる保持体と、該保持体に相互
に絶縁状態に装備され露出した複数の導電部材とを有し
、該露出した保持体の両方の面の導電部材上に超微粒金
属粉体又は金属化されたセラミック粉体の一方又は両方
を含有する接着性樹脂溶液から電気泳動法によって共析
形成された導電性接着層を有し、該導電性接着層が前記
保持体の面と同一かもしくは突出している電気的接続部
材と、 少なくとも1以上の接続部を有し、該接続部において前
記電気的接続部材の保持体の一方の面において露出して
いる導電性接着層のうちの少なくとも1つの一端が接着
により電気的に接続されている少なくとも1以上の電気
回路部品と、 少なくとも1以上の接続部を有し、該接続部において前
記電気的接続部材の保持体の他方の面において露出して
いる導電性接着層のうちの少なくとも1つの一端が接着
により電気的に接続されている少なくとも1以上の電気
回路部品と を有することを特徴とする電気回路部材。 - (5)請求項4に記載の電気回路部材において、電気的
接続部材に設けられている複数の導電部材のうちの所定
の導電部材が相互に導通するように保持体の内部及び/
又は保持体面上で配線されていることを特徴とする電気
回路部材。 - (6)電気回路部品の接続部が、超微粒金属粉体又は金
属化されたセラミック粉体の一方又は両方を含有した接
着性樹脂溶液から電気泳動法によって共析形成された導
電性接着層を有する接続部を少なくとも1個以上有し、
該接続部において、電気的接続部材の保持体の一方の面
において露出している導電性接着層を有する導電部材の
うちの少なくとも1つの一端が接着により電気的に接続
されている請求項4または5に記載の電気回路部材。 - (7)少なくとも1以上の電気回路部品の前記接続部を
有する面とは反対の面の少なくとも一部分の金属表面上
に、超微粒金属粉体又は金属化されたセラミック粉体の
一方又は両方を含有する接着性樹脂溶液から電気泳動法
によって共析形成された導電性接着層を有する請求項4
、5または6に記載の電気回路部材。 - (8)前記導電性接着層に含有される超微粒金属粉体の
平均粒径は0.01〜2μmおよび金属化されたセラミ
ック粉体の平均粒径は0.1〜5μmであり、かつ導電
性接着層に含有される超微粒金属粉体又は金属化された
セラミック粉体の一方又は両方の含有量は30〜80w
t%である請求項4乃至7のいずれかの項に記載の電気
回路部材。 - (9)電気回路部品は框体、樹脂回路基板、金属回路基
板、セラミック回路基板、リードフレーム、半導体素子
である請求項4乃至8のいずれかの項に記載の電気回路
部材。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2121496A JP2895570B2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 電気的接続部材および電気回路部材 |
US07/810,444 US5174766A (en) | 1990-05-11 | 1991-12-19 | Electrical connecting member and electric circuit member |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2121496A JP2895570B2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 電気的接続部材および電気回路部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0419972A true JPH0419972A (ja) | 1992-01-23 |
JP2895570B2 JP2895570B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=14812616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2121496A Expired - Fee Related JP2895570B2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 電気的接続部材および電気回路部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2895570B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5454161A (en) * | 1993-04-29 | 1995-10-03 | Fujitsu Limited | Through hole interconnect substrate fabrication process |
WO2019065118A1 (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 半導体デバイスの製造方法および接合部材 |
JP2020174115A (ja) * | 2019-04-10 | 2020-10-22 | 株式会社フジクラ | 多層回路基板 |
-
1990
- 1990-05-11 JP JP2121496A patent/JP2895570B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5454161A (en) * | 1993-04-29 | 1995-10-03 | Fujitsu Limited | Through hole interconnect substrate fabrication process |
WO2019065118A1 (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 半導体デバイスの製造方法および接合部材 |
JPWO2019065118A1 (ja) * | 2017-09-29 | 2020-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 半導体デバイスの製造方法および接合部材 |
JP2020174115A (ja) * | 2019-04-10 | 2020-10-22 | 株式会社フジクラ | 多層回路基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2895570B2 (ja) | 1999-05-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5174766A (en) | Electrical connecting member and electric circuit member | |
US3952404A (en) | Beam lead formation method | |
JP2526007B2 (ja) | 半導体チップへの電気的相互接続を形成するための構造および方法 | |
US5860818A (en) | Electrical connecting member | |
JPH0249385A (ja) | 電気的接続部材及びその製造方法 | |
TW201121376A (en) | Circuit wiring board incorporating heat resistant substrate | |
JP3000877B2 (ja) | 金メッキ電極の形成方法、基板及びワイヤボンディング方法 | |
TW200301554A (en) | Method of producing multilayered circuit board for semiconductor device | |
JP2895569B2 (ja) | 電気的接続部材および電気回路部材 | |
JPH0419972A (ja) | 電気的接続部材および電気回路部材 | |
US6908561B1 (en) | Polymide-to-substrate adhesion promotion in HDI | |
JP2895568B2 (ja) | 電気回路部材 | |
JPH03289010A (ja) | 異方性導電膜の製造方法 | |
JP3349166B2 (ja) | 回路基板 | |
JP3675407B2 (ja) | 電子装置 | |
JP2961221B2 (ja) | 電気的接続部材 | |
JPH06169051A (ja) | リードフレームとその製造方法並びに半導体パッケージ | |
JP2796872B2 (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JP2003121466A (ja) | プローブユニットおよびその製造方法 | |
JPH08316399A (ja) | 電子部品用基板とその製造方法 | |
JP3000225B2 (ja) | 電気的接続部材及びその製造方法 | |
JP3049436B2 (ja) | 電気的接続部材及びその製造方法 | |
JPH03291879A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JPH0495371A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JP2001085450A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |