JPH04198153A - 光学活性化合物およびその製造方法、並びに液晶化合物の製造方法 - Google Patents
光学活性化合物およびその製造方法、並びに液晶化合物の製造方法Info
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 49
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- UZDDXUMOXKDXNE-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylphenyl)ethanamine Chemical compound CC(N)C1=CC=C(C)C=C1 UZDDXUMOXKDXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 4
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- WTUCTMYLCMVYEX-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(F)(F)F WTUCTMYLCMVYEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- -1 (substituted) benzene Chemical class 0.000 abstract description 13
- ACIXMJXBKXOEBP-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-4,4,4-trifluorobutanoic acid Chemical compound CCCCOC(C(F)(F)F)CC(O)=O ACIXMJXBKXOEBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- OCJKUQIPRNZDTK-UHFFFAOYSA-N ethyl 4,4,4-trifluoro-3-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)CC(=O)C(F)(F)F OCJKUQIPRNZDTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001347 alkyl bromides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 2
- ZWEDFBKLJILTMC-UHFFFAOYSA-N ethyl 4,4,4-trifluoro-3-hydroxybutanoate Chemical compound CCOC(=O)CC(O)C(F)(F)F ZWEDFBKLJILTMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 1-bromobutane Chemical compound CCCCBr MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 1-butanol Substances CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTCUCQWIICFPOD-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylethanamine Chemical compound C1=CC=C2C(C(N)C)=CC=CC2=C1 RTCUCQWIICFPOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWUXRPDIWDOFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-4,4,4-trifluorobutan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C(F)(F)F)CCO DWUXRPDIWDOFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPZPFOIOJPBNKK-UHFFFAOYSA-N 4-(4-dodecoxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 HPZPFOIOJPBNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKJXAQYPOTYDLO-UHFFFAOYSA-N 4-methylphenethylamine Chemical compound CC1=CC=C(CCN)C=C1 VKJXAQYPOTYDLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004367 Lipase Substances 0.000 description 1
- 102000004882 Lipase Human genes 0.000 description 1
- 108090001060 Lipase Proteins 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N alpha-methyl toluene Natural products CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 235000019421 lipase Nutrition 0.000 description 1
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、新規は光学活性化合物およびその製造方法、
並びに液晶化合物の製造方法に関するものである。
並びに液晶化合物の製造方法に関するものである。
[従来の技術]
従来、強誘電性液晶化合物を得る中間体として、光学活
性化合物、3−アルキルオキシ−4゜4.4−トリフル
オロブタノールが有用な化合物として知られている。
性化合物、3−アルキルオキシ−4゜4.4−トリフル
オロブタノールが有用な化合物として知られている。
しかし、光学活性3−アルキルオキシ−4,4,4−ト
リフルオロブタノールに関しては、その光学活性体を得
る方法として、特開平2−129136号公報により、
リパーゼによる選択的加水分解法が報告されているが、
この方法は得られる化合物の光学純度、反応条件等を考
慮すると工業的に有効な方法であるとはいえない。
リフルオロブタノールに関しては、その光学活性体を得
る方法として、特開平2−129136号公報により、
リパーゼによる選択的加水分解法が報告されているが、
この方法は得られる化合物の光学純度、反応条件等を考
慮すると工業的に有効な方法であるとはいえない。
また、光学活性3−アルキルオキシ−4,4゜4−トリ
フルオロブタノールの製造方法において、出発原料とし
て光学活性3−アルキルオキシ−4,4,4−トリフル
オロブタン酸を用いて合成する方法が考えられるが、現
在までに、光学活性3−アルキルオキシ−4,4,4−
トリフルオロブタン酸は得られていない。
フルオロブタノールの製造方法において、出発原料とし
て光学活性3−アルキルオキシ−4,4,4−トリフル
オロブタン酸を用いて合成する方法が考えられるが、現
在までに、光学活性3−アルキルオキシ−4,4,4−
トリフルオロブタン酸は得られていない。
また、現在知られている3−アルキルオキシ−4,4,
4−トリフルオロブタン酸は、下記の反応式で示される
経路により合成するものであり、この方法により得られ
る3−アルキルオキシ−4,4,4−4リフルオロブタ
ン酸はラセミ体であり、光学活性体ではない。
4−トリフルオロブタン酸は、下記の反応式で示される
経路により合成するものであり、この方法により得られ
る3−アルキルオキシ−4,4,4−4リフルオロブタ
ン酸はラセミ体であり、光学活性体ではない。
I
Q OH
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、この様な従来技術に鑑みて完成されたもので
あり、本発明の第1の目的は、光学活性3−アルキルオ
キシ−4,4,4−トリフルオロブタン酸とその製造方
法、および光学活性3−アルキルオキシ−4,4,4−
1リフルオロブタノール等の光学活性化合物の工業的に
有利な製造方法を提供することにある。
あり、本発明の第1の目的は、光学活性3−アルキルオ
キシ−4,4,4−トリフルオロブタン酸とその製造方
法、および光学活性3−アルキルオキシ−4,4,4−
1リフルオロブタノール等の光学活性化合物の工業的に
有利な製造方法を提供することにある。
また、本発明の第2の目的は、上記の光学活性化合物か
ら誘導させて合成する液晶化合物の工業的に有利な製造
方法を提供することにある。
ら誘導させて合成する液晶化合物の工業的に有利な製造
方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
即ち、本発明は、下記一般式(I)
(式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
Coは不斉炭素原子を示す。) で表わされる光学活性化合物、および下記−数式(式中
、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基を示す。
Coは不斉炭素原子を示す。) で表わされる光学活性化合物、および下記−数式(式中
、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基を示す。
)
で表わされる(±)−3−アルキルオキシ−4゜4.4
−トリフルオロブタン酸に、光学活性1−(p−)リル
)エチルアミンを作用させ光学分割することを特徴とす
る前記−数式(I)で表わされる光学活性化合物の製造
方法である。
−トリフルオロブタン酸に、光学活性1−(p−)リル
)エチルアミンを作用させ光学分割することを特徴とす
る前記−数式(I)で表わされる光学活性化合物の製造
方法である。
また、本発明は、下記−数式(II)
7F。
ROCHCH2COOH(II )
(式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基を
示す。) で表わされる(±)−3−アルキルオキシ−4゜4.4
−トリフルオロブタン酸に、光学活性1−(p−トリル
)エチルアミンを作用させ光学分割することにより下記
−数式(I) 冒・ ROCHCH,C0OH(I ) * (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
Coは不斉炭素原子を示す。) で表わされる光学活性化合物を得た後、該光学活性化合
物を還元することを特徴とする下記−数式(III) !1・ ROCHCH2CH20H(III )ネ (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
Coは不斉炭素原子を示す。) で表わされる光学活性化合物の製造方法である。
示す。) で表わされる(±)−3−アルキルオキシ−4゜4.4
−トリフルオロブタン酸に、光学活性1−(p−トリル
)エチルアミンを作用させ光学分割することにより下記
−数式(I) 冒・ ROCHCH,C0OH(I ) * (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
Coは不斉炭素原子を示す。) で表わされる光学活性化合物を得た後、該光学活性化合
物を還元することを特徴とする下記−数式(III) !1・ ROCHCH2CH20H(III )ネ (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
Coは不斉炭素原子を示す。) で表わされる光学活性化合物の製造方法である。
さらに、本発明は、置換基を有してもよいベンゼン、シ
クロヘキサン、ピリミジン、ピラジン。
クロヘキサン、ピリミジン、ピラジン。
ピリジンおよびナフタレン環の中から選ばれた2環以上
の環構造を有する化合物と、下記−数式([) %式%) (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
Coは不斉炭素原子を示す。) で表わされる光学活性化合物とを反応させることを特徴
とする液晶相を有する液晶化合物の製造方法である。
の環構造を有する化合物と、下記−数式([) %式%) (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
Coは不斉炭素原子を示す。) で表わされる光学活性化合物とを反応させることを特徴
とする液晶相を有する液晶化合物の製造方法である。
本発明者等は、前記−数式(I)で表わされる光学活性
化合物である光学活性な3−アルキルオキシ−4,4,
4−1−リフルオロブタン酸を得るために鋭意検討した
結果、前記−数式(II)で表わされる(±)−3−ア
ルキルオキシ−4,4゜4−トリフルオロブタン酸に光
学活性1−(p−トリル)エチルアミンを作用させ、生
成したジアステレオマー塩を溶媒に対する溶解度の差に
より光学分割する方法で、−数式(I)で表わされる光
学活性化合物である光学活性3−アルキルオキシ−4,
4,4−トリフルオロブタン酸を、高収率かつ高純度で
製造できることを見出した。すなわち、本発明は、まず
、トリフルオロアセト酢酸エチルを出発原料として合成
した(±)−3−アルキルオキシ−4,4,4−)リフ
ルオロブタン酸に光学活性1−(p−トリル)エチルア
ミンを作用させることを特徴とする(±)−3−アルキ
ルオキシ−4,4,4−トリフルオロブタン酸の光学分
割方法を提供する。
化合物である光学活性な3−アルキルオキシ−4,4,
4−1−リフルオロブタン酸を得るために鋭意検討した
結果、前記−数式(II)で表わされる(±)−3−ア
ルキルオキシ−4,4゜4−トリフルオロブタン酸に光
学活性1−(p−トリル)エチルアミンを作用させ、生
成したジアステレオマー塩を溶媒に対する溶解度の差に
より光学分割する方法で、−数式(I)で表わされる光
学活性化合物である光学活性3−アルキルオキシ−4,
4,4−トリフルオロブタン酸を、高収率かつ高純度で
製造できることを見出した。すなわち、本発明は、まず
、トリフルオロアセト酢酸エチルを出発原料として合成
した(±)−3−アルキルオキシ−4,4,4−)リフ
ルオロブタン酸に光学活性1−(p−トリル)エチルア
ミンを作用させることを特徴とする(±)−3−アルキ
ルオキシ−4,4,4−トリフルオロブタン酸の光学分
割方法を提供する。
以下、本発明の実施態様を順を追って説明する。
まず、ラセミ体の(±)−3−アルキルオキシ−4,4
,4−トリフルオロブタン酸の製造は、出発原料として
トリフルオロアセト酢酸エチルを用いる。これを水素化
ホウ素ナトリウムで還元して、4,4.4−1リフルオ
ロ−3−ヒドロキシブタン酸を得る。次いで、酸化銀の
存在下でアルキルブロマイドを作用させ、3−アルキル
オキシ−4,4,4−)リフルオロブタン酸エチルとし
た後、加水分解して(±)−3−アルキルオキシ−4,
4,4−)リフルオロブタン酸を得る。このとき、アル
キルブロマイドのアルカン部分の炭素原子数を変化させ
ることにより、一般式(I)で表わされる光学活性化合
物のRを幅広(変更することが可能である。
,4−トリフルオロブタン酸の製造は、出発原料として
トリフルオロアセト酢酸エチルを用いる。これを水素化
ホウ素ナトリウムで還元して、4,4.4−1リフルオ
ロ−3−ヒドロキシブタン酸を得る。次いで、酸化銀の
存在下でアルキルブロマイドを作用させ、3−アルキル
オキシ−4,4,4−)リフルオロブタン酸エチルとし
た後、加水分解して(±)−3−アルキルオキシ−4,
4,4−)リフルオロブタン酸を得る。このとき、アル
キルブロマイドのアルカン部分の炭素原子数を変化させ
ることにより、一般式(I)で表わされる光学活性化合
物のRを幅広(変更することが可能である。
次に、光学分割法について説明する。
(±)−3−アルキルオキシ−4,4,4−トリフルオ
ロブタン酸と光学活性1−(p−トリル)エチルアミン
を反応させジアステレオマー塩とする。ここで用いられ
る光学活性1−(p−トリル)エチルアミンの量は、酸
に対して等モル量以上であれば特に限定されるものでは
ないが、特に酸1モルに対して1.0〜1.2モル量が
好適である。
ロブタン酸と光学活性1−(p−トリル)エチルアミン
を反応させジアステレオマー塩とする。ここで用いられ
る光学活性1−(p−トリル)エチルアミンの量は、酸
に対して等モル量以上であれば特に限定されるものでは
ないが、特に酸1モルに対して1.0〜1.2モル量が
好適である。
この様にして得られたジアステレオマー塩を溶媒に加熱
溶解させ過飽和溶液とした後、徐冷して難溶性のジアス
テレオマー塩を析出させる。
溶解させ過飽和溶液とした後、徐冷して難溶性のジアス
テレオマー塩を析出させる。
ここで用いる溶媒としては、目的のジアステレオマー塩
を析出させるものであれば特に制限はない。具体的には
、水、又はメタノール、エタノール、2−プロパツール
などのアルコール類、又は ・アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類、又は酢酸メチル、酢酸エチルな
どのエステル類、又はベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素類、又は塩化メチレン、クロロホル
ム。
を析出させるものであれば特に制限はない。具体的には
、水、又はメタノール、エタノール、2−プロパツール
などのアルコール類、又は ・アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類、又は酢酸メチル、酢酸エチルな
どのエステル類、又はベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素類、又は塩化メチレン、クロロホル
ム。
四塩化炭素などのハロゲン化炭素類、又はペンタン、ヘ
キサン、シクロヘキサンなどの飽和脂肪族炭化水素類、
およびテトラヒドロフランなどを好適な例として挙げる
ことができる。これらの溶媒iよ、単独でも良いが必要
に応じて適当な比率で混合して使用しても良い。
キサン、シクロヘキサンなどの飽和脂肪族炭化水素類、
およびテトラヒドロフランなどを好適な例として挙げる
ことができる。これらの溶媒iよ、単独でも良いが必要
に応じて適当な比率で混合して使用しても良い。
得られたジアステレオマー塩の結晶は濾過・分離した後
、必要に応じて再結晶した後、塩に等モル以上の強塩基
と水を加える。次いで、適当な有機溶媒で光学活性1−
(p−トリル)エチルアミンを抽出し取り除いた後、強
酸を加えて酸性にし、適当な有機溶媒で抽出して光学活
性な(+)−または(−)−3−アルキルオキシ−4,
4゜4−トリフルオロブタン酸を得る。
、必要に応じて再結晶した後、塩に等モル以上の強塩基
と水を加える。次いで、適当な有機溶媒で光学活性1−
(p−トリル)エチルアミンを抽出し取り除いた後、強
酸を加えて酸性にし、適当な有機溶媒で抽出して光学活
性な(+)−または(−)−3−アルキルオキシ−4,
4゜4−トリフルオロブタン酸を得る。
光学分割剤(光学活性1−(p−トリル)エチルアミン
)は回収が可能であり、また(+)一体と(−)一体を
選ぶことにより、それらに対応した(+)なら(+)の
、(−)なら(=)の(+)−または(−)−3−アル
キルオキシ−、4.4−トリフルオロブタン酸が得られ
る。
)は回収が可能であり、また(+)一体と(−)一体を
選ぶことにより、それらに対応した(+)なら(+)の
、(−)なら(=)の(+)−または(−)−3−アル
キルオキシ−、4.4−トリフルオロブタン酸が得られ
る。
続いて、この光学活性な(+)−または(−)−3−ア
ルキルオキシ−4.4.4−トリフルオロブタン酸をリ
チウムアルミニウムハイドライドで還元することにより
、ラセミ化することなしに一般式(III)で表わされ
る光学活性化合物である光学活性な(+)−または(−
)−3−アルキルオキシ−4.4.4−トリフルオロブ
タノールを製造することができる。この時、(+)−3
−アルキルオキシ−4.4.4−1−リフルオロブタン
酸からは(+)−3−アルキルオキシ−4,4。
ルキルオキシ−4.4.4−トリフルオロブタン酸をリ
チウムアルミニウムハイドライドで還元することにより
、ラセミ化することなしに一般式(III)で表わされ
る光学活性化合物である光学活性な(+)−または(−
)−3−アルキルオキシ−4.4.4−トリフルオロブ
タノールを製造することができる。この時、(+)−3
−アルキルオキシ−4.4.4−1−リフルオロブタン
酸からは(+)−3−アルキルオキシ−4,4。
4−トリフルオロブタノールが、(−)−3−アルキル
オキシ−4.4.4−1リフルオロブタン酸からは(−
)−3−アルキルオキシ−4.4。
オキシ−4.4.4−1リフルオロブタン酸からは(−
)−3−アルキルオキシ−4.4。
4−トリフルオロブタノールが得られる。
以下に本発明で製造することができる一般式(I)およ
び一般式(III)で表わされる光学活性化合物の例を
示す。
び一般式(III)で表わされる光学活性化合物の例を
示す。
!1・
(+)−または(−)− CH.OCHCH2
COOH?1・ (+)−または(−)− C2H,OCHCH2C
OOH冒・ (+)−または(−)− C3H,OCHCH2C
OOH7F・ (+)−または(−)− C4H.OCHCH2C
OOH?1・ (+)−または(−)− C.H.、OCHCH2
CODHυ。
COOH?1・ (+)−または(−)− C2H,OCHCH2C
OOH冒・ (+)−または(−)− C3H,OCHCH2C
OOH7F・ (+)−または(−)− C4H.OCHCH2C
OOH?1・ (+)−または(−)− C.H.、OCHCH2
CODHυ。
(+)−または(−)−C,H,30CHCH2COO
1(ヅ。
1(ヅ。
(+)−または(−)−C7H+50CHCHzC:O
OH?F3 (+)−または(−) −CaHI 70CHCH2C
OOHヅ・ (+)−または(−)−C9H,,0CHCH2COO
Hυ。
OH?F3 (+)−または(−) −CaHI 70CHCH2C
OOHヅ・ (+)−または(−)−C9H,,0CHCH2COO
Hυ。
(+)−または(−)−Cl0H210CHCH2CO
OH?1゜ (+)−または(1−CItHzzOCHCHzCOO
Hυ゛ (+)−または(−)−C,□H250CHCH2C0
0Hυ。
OH?1゜ (+)−または(1−CItHzzOCHCHzCOO
Hυ゛ (+)−または(−)−C,□H250CHCH2C0
0Hυ。
(+)−または(−)−C,3H270CHCH2CO
OHυ。
OHυ。
(+)−または(−)−C,4H2909HCH2CO
OHυ・ (+)−または(−)−CH,0CHCH2CH20H
υ。
OHυ・ (+)−または(−)−CH,0CHCH2CH20H
υ。
(+)−または(−)−C2H50CHCH2CH20
Hυ。
Hυ。
(+)−または(−)−C,H70CHC:H2CH2
OHF゛ (+)−または(−)−C4H80CHCH2CH20
HV。
OHF゛ (+)−または(−)−C4H80CHCH2CH20
HV。
(+)−または(−)−C,H,,0CHCH2CH2
0Hυ。
0Hυ。
(+)−または(−)−C6H130C)Ic:H2C
H2OHF・ (+)−または(−)−C,H,,0CHCH2CH2
0HV。
H2OHF・ (+)−または(−)−C,H,,0CHCH2CH2
0HV。
(+)−または(−)−C,H,?0CHCH2CH2
0H?1・ (+)−または(−)−(1:、IH230CHC:H
2C8208次に、上記の方法により得られた光学活性
3−アルキルオキシ−4,4,4−トリフルオロブタノ
ールを用いて、液晶相を有する液晶化合物を製造する方
法について説明する。
0H?1・ (+)−または(−)−(1:、IH230CHC:H
2C8208次に、上記の方法により得られた光学活性
3−アルキルオキシ−4,4,4−トリフルオロブタノ
ールを用いて、液晶相を有する液晶化合物を製造する方
法について説明する。
■エステル化による製造方法
光学活性3−アルキルオキシ−4,4,4−トリフルオ
ロブタノールと、カルボン酸を有する他の化合物とエス
テル化することによりメソーゲン骨格を導入し液晶化合
物を製造する。
ロブタノールと、カルボン酸を有する他の化合物とエス
テル化することによりメソーゲン骨格を導入し液晶化合
物を製造する。
この場合のエステル化においては、DCC(ジシクロへ
キシルカルボジイミド)などの縮合剤を用いる方法、カ
ルボン酸を酸クロライドに変換し、塩基の存在下で反応
させる方法などがある。
キシルカルボジイミド)などの縮合剤を用いる方法、カ
ルボン酸を酸クロライドに変換し、塩基の存在下で反応
させる方法などがある。
■エーテル化による製造方法
まず、光学活性3−アルキルオキシ−4,4,4−トリ
フルオロブタノールを、p−トルエンスルホン酸クロリ
ドと作用させトシレートとした後、それに水酸基を有す
る他の化合物と塩基の存在下で、エーテル化反応させる
ことによりメソーゲン骨格を導入し液晶化合物を製造す
る。
フルオロブタノールを、p−トルエンスルホン酸クロリ
ドと作用させトシレートとした後、それに水酸基を有す
る他の化合物と塩基の存在下で、エーテル化反応させる
ことによりメソーゲン骨格を導入し液晶化合物を製造す
る。
また、他の化合物が別にもう1つの活性な置換基を持つ
場合(例えば、水酸基あるいはカルボキシル基など)は
、適当な保護基(例えば、ベンジル基、アセチル基、メ
チル基、エチル基など)で保護し、トシレートと反応さ
せた後に保護基を脱離させ、他の化合物とエステル化あ
るいはメチルオキシ化することにより液晶化合物を製造
することが可能である。
場合(例えば、水酸基あるいはカルボキシル基など)は
、適当な保護基(例えば、ベンジル基、アセチル基、メ
チル基、エチル基など)で保護し、トシレートと反応さ
せた後に保護基を脱離させ、他の化合物とエステル化あ
るいはメチルオキシ化することにより液晶化合物を製造
することが可能である。
ここで導入させるメソーゲン骨格とは、置換基を有して
もよいベンゼン、シクロヘキサン、ピリミジン、ピラジ
ン、ピリジンおよびナフタレン環の中から選ばれた2環
以上の環構造を有するものである。
もよいベンゼン、シクロヘキサン、ピリミジン、ピラジ
ン、ピリジンおよびナフタレン環の中から選ばれた2環
以上の環構造を有するものである。
上記の環の種類を適宜組み合わせて2個以上用いればよ
く、また環と環とは単結合である場合のるいは一部〇〇
−等で結合されていてもよい。
く、また環と環とは単結合である場合のるいは一部〇〇
−等で結合されていてもよい。
その具体例を示すと、例えば、
等が挙げられる。
[実施例コ
以下、実施例により本発明について更に詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない
。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない
。
実施例1
光学活性3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブタ
ン酸の製造 下記の反応工程式に従い、光学活性3−ブトキシ−4,
4,4−トリフルオロブタン酸を合成した。
ン酸の製造 下記の反応工程式に従い、光学活性3−ブトキシ−4,
4,4−トリフルオロブタン酸を合成した。
工程1)
工程2)
AgzO(ラセミ体)
工程3)
工程1)
4.4.4−トリフルオロ−3−ヒドロキシブタン酸エ
チルの製造 水素化ホウ素ナトリウム1.89g (50,0mmo
l)を蒸留水25mj!に懸濁させた溶液にトリフルオ
ロアセト酢酸エチル18.43g (100,1mmo
l)を滴下し室温で19時間撹拌した。反応終了後、6
M塩酸25m1’を加え、ジエチルエーテルで抽出した
。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を常圧で留去し
、減圧蒸留で4.4.4−トリフルオロ−3−ヒドロキ
シブタン酸エチルを得た。bp122〜130℃(93
mmHg)。収量12.50g、収率67%。
チルの製造 水素化ホウ素ナトリウム1.89g (50,0mmo
l)を蒸留水25mj!に懸濁させた溶液にトリフルオ
ロアセト酢酸エチル18.43g (100,1mmo
l)を滴下し室温で19時間撹拌した。反応終了後、6
M塩酸25m1’を加え、ジエチルエーテルで抽出した
。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を常圧で留去し
、減圧蒸留で4.4.4−トリフルオロ−3−ヒドロキ
シブタン酸エチルを得た。bp122〜130℃(93
mmHg)。収量12.50g、収率67%。
工程2)
h−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブタン酸の製
造 窒素下、4,4.4−トリフルオロ−3−ヒドロキシブ
タン酸エチル15.18g (81,56n+mol)
とブチルブロマイド27.62g (201,6mmo
l)の乾′燥D M F 100+mf!溶液に、酸化
銀46.72g (201,6mmo 1 )を加え、
60℃で24時間、室温で72時間撹拌した。反応終了
後、反応液をセライト濾過し、蒸留水150mf!を加
え、ジエチルエーテルで抽出し、エーテル層を水洗して
、溶媒を留去した。
造 窒素下、4,4.4−トリフルオロ−3−ヒドロキシブ
タン酸エチル15.18g (81,56n+mol)
とブチルブロマイド27.62g (201,6mmo
l)の乾′燥D M F 100+mf!溶液に、酸化
銀46.72g (201,6mmo 1 )を加え、
60℃で24時間、室温で72時間撹拌した。反応終了
後、反応液をセライト濾過し、蒸留水150mf!を加
え、ジエチルエーテルで抽出し、エーテル層を水洗して
、溶媒を留去した。
次に、メタノール60m1と水酸化カリウム22.86
g (407,4mmol)の飽和水溶液を加え、60
℃で16時間撹拌した。反応終了後、溶媒を留去し6M
塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧蒸留で3−ブトキシ−4,4
,4−トリフルオロブタン酸を得た。
g (407,4mmol)の飽和水溶液を加え、60
℃で16時間撹拌した。反応終了後、溶媒を留去し6M
塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧蒸留で3−ブトキシ−4,4
,4−トリフルオロブタン酸を得た。
bp 110〜127℃(20mmHg) 、収量12
.40g、収率71%。
.40g、収率71%。
工程3)
3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブタン酸の光
学分割 (±213−ブトキシー4,4.4−トリフルオロブタ
ン酸 12.40g (57,91mmol)と(−)
−1=(p−トリル)エチルアミン7.83g (57
,93mmo 1 )をヘキサン58mj+に溶解させ
6日間放置し塩を晶出させた。この塩を濾取し、ヘキサ
ン43mj)、イソプロピルアルコール0.5mi+に
より再結晶な行った。得られた塩は、収量3.12g、
収率31%(ラセミ体の半量を 100%とした場合)
。mp 129〜131℃。[(23r、=+ 7.0
’ (c 3.01 、クロロホルム)であった。
学分割 (±213−ブトキシー4,4.4−トリフルオロブタ
ン酸 12.40g (57,91mmol)と(−)
−1=(p−トリル)エチルアミン7.83g (57
,93mmo 1 )をヘキサン58mj+に溶解させ
6日間放置し塩を晶出させた。この塩を濾取し、ヘキサ
ン43mj)、イソプロピルアルコール0.5mi+に
より再結晶な行った。得られた塩は、収量3.12g、
収率31%(ラセミ体の半量を 100%とした場合)
。mp 129〜131℃。[(23r、=+ 7.0
’ (c 3.01 、クロロホルム)であった。
この塩を1M水酸化ナトリウム水溶液に溶解させ、ジエ
チルエーテルでアミンを抽出して取り除き、次に2M塩
酸を加えて酸性としジエチルエーテルでカルボン酸を抽
出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧蒸留で(
−)−3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブタン
酸を得た。bpllo 〜122℃(26mmHg)
、収量1.90g、収率31%、 [a] =−1
5,9’ (c 1.01. CHCfa)。
チルエーテルでアミンを抽出して取り除き、次に2M塩
酸を加えて酸性としジエチルエーテルでカルボン酸を抽
出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧蒸留で(
−)−3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブタン
酸を得た。bpllo 〜122℃(26mmHg)
、収量1.90g、収率31%、 [a] =−1
5,9’ (c 1.01. CHCfa)。
得られた(−)−3−ブトキシ−4,4,4−トリフル
オロブタン酸を(−)−1−(1−ナフチル)エチルア
ミンとのジアステレオマーアミドにして高速液体クロマ
トグラフィーにより光学純度を決定した。光学純度 9
8%ee+(カラム; Inertsil SIL、溶
出液;酢酸エチル:ヘキサン=l:5、流速; 1 n
+j!/ min 、検出波長; UV 254%m
) また、上記操作において、(−)−1−(p−トリル)
エチルアミンの代わりに(+)−1−(p−トリル)エ
チルアミンを用いることにより、(+)−3−ブトキシ
−4,4,4−トリフルオロブタン酸を得た。
オロブタン酸を(−)−1−(1−ナフチル)エチルア
ミンとのジアステレオマーアミドにして高速液体クロマ
トグラフィーにより光学純度を決定した。光学純度 9
8%ee+(カラム; Inertsil SIL、溶
出液;酢酸エチル:ヘキサン=l:5、流速; 1 n
+j!/ min 、検出波長; UV 254%m
) また、上記操作において、(−)−1−(p−トリル)
エチルアミンの代わりに(+)−1−(p−トリル)エ
チルアミンを用いることにより、(+)−3−ブトキシ
−4,4,4−トリフルオロブタン酸を得た。
実施例2
光学活性3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブタ
ノールの製造 υ・ CH,(CH2)、0CHCH,CH,OH窒素下、水
素化リチウムアルミニウム285mg (7、51mm
ol)を乾燥エーテル4mρに溶解し、そこに(−)−
3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブタン酸10
66mg (4,98mmol)を乾燥エーテル7mj
)に溶解したものを氷冷しながら滴下し室温で13時間
攪拌した。反応終了後、水冷下、酢酸エチル2mj?を
加え、つづいて0.5M硫酸8.5mp、6M硫#14
.5rni)を加えた。ジエチルエーテルで抽出し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧蒸留で(−)−3−
ブトキシ−4,4,4−)リフルオロ−1−ブタノール
を得た。bp80〜90℃(22mmHg)。収量83
3mg、 [a] ”−41,5° (c 1.
01、クロロホルム) 実施例3 以下の反応工程式に従い、光学活性4− (3−ブトキ
シ−4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)フェニル
−4′−ドデシルオキシビフェニル−4−カルボキシレ
ートを製造した。
ノールの製造 υ・ CH,(CH2)、0CHCH,CH,OH窒素下、水
素化リチウムアルミニウム285mg (7、51mm
ol)を乾燥エーテル4mρに溶解し、そこに(−)−
3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブタン酸10
66mg (4,98mmol)を乾燥エーテル7mj
)に溶解したものを氷冷しながら滴下し室温で13時間
攪拌した。反応終了後、水冷下、酢酸エチル2mj?を
加え、つづいて0.5M硫酸8.5mp、6M硫#14
.5rni)を加えた。ジエチルエーテルで抽出し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧蒸留で(−)−3−
ブトキシ−4,4,4−)リフルオロ−1−ブタノール
を得た。bp80〜90℃(22mmHg)。収量83
3mg、 [a] ”−41,5° (c 1.
01、クロロホルム) 実施例3 以下の反応工程式に従い、光学活性4− (3−ブトキ
シ−4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)フェニル
−4′−ドデシルオキシビフェニル−4−カルボキシレ
ートを製造した。
工程1)
工程2)
工程3)
工程4)
工程1)
p−トルエンスルホン酸3−ブトキシ−4,4,4−ト
リフルオロブチルエステルの製造窒素下、(−)−3−
ブトキシ−4,4,4−トリフルオロ−1−ブタノール
573mg (2,86mmol)を乾燥ピリジン0.
9mj)に溶解させ、水冷下、p−トルエンスルホン酸
クロリド818mg (4,29mmol)を加え、水
浴中で5時間撹拌した。反応終了後、氷水、続いて2N
塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、p−トルエンスル
ホン酸3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブチル
エステルを得た。収量952mg。収率94%。
リフルオロブチルエステルの製造窒素下、(−)−3−
ブトキシ−4,4,4−トリフルオロ−1−ブタノール
573mg (2,86mmol)を乾燥ピリジン0.
9mj)に溶解させ、水冷下、p−トルエンスルホン酸
クロリド818mg (4,29mmol)を加え、水
浴中で5時間撹拌した。反応終了後、氷水、続いて2N
塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、p−トルエンスル
ホン酸3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブチル
エステルを得た。収量952mg。収率94%。
工程2〕
ベンジルp−(3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオ
ロブチルオキシ)フェニルエーテルの製造 窒素下、ヒドロキノンモノベンジルエーテル614B
(3,07mmol)を乾iDMF5mfに溶解させ、
そこに60%水素化ナトリウム165mg (4,13
mmol)を加え室温で20分間撹拌した。続いてp−
トルエンスルホン酸3−ブトキシ−4,4,4−トリフ
ルオロブチルエステル949mg (2,68mmol
)と乾燥DMF5mji’を加え130℃で12時間、
室温で12時間撹拌した。反応終了後、溶媒を留去し蒸
留水を加えジエチルエーテルで抽出した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、カラムクロマトグラフィー(展開溶
媒 酢酸エチル:ヘキサン= 1 : 10)により精
製した。収量771mg、収率75%。
ロブチルオキシ)フェニルエーテルの製造 窒素下、ヒドロキノンモノベンジルエーテル614B
(3,07mmol)を乾iDMF5mfに溶解させ、
そこに60%水素化ナトリウム165mg (4,13
mmol)を加え室温で20分間撹拌した。続いてp−
トルエンスルホン酸3−ブトキシ−4,4,4−トリフ
ルオロブチルエステル949mg (2,68mmol
)と乾燥DMF5mji’を加え130℃で12時間、
室温で12時間撹拌した。反応終了後、溶媒を留去し蒸
留水を加えジエチルエーテルで抽出した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、カラムクロマトグラフィー(展開溶
媒 酢酸エチル:ヘキサン= 1 : 10)により精
製した。収量771mg、収率75%。
[α] 418 = −93,3° (c 1.01
2、クロロホルム)。[al o =−46,4° (
c 1.012、クロロホルム)。
2、クロロホルム)。[al o =−46,4° (
c 1.012、クロロホルム)。
工程3)
(−)−p−(3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオ
ロブチルオキシ)フェノールの製造ベンジルp−(3−
ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)フ
ェニルエーテル766mg (2,OOmmol)に5
%パラジウムカーボン93Bを加えたものを、乾燥メタ
ノール3mi+と乾燥エーテル2mRに溶解させ、接触
水素添加装置を使用し、室温、常圧、水素下で24時間
撹拌した。反応終了後、パラジウムカーボンをセライト
濾過で濾別し、溶媒を留去して、(−)−p−(3−ブ
トキシ−4,4,4−)リフルオロブチルオキシ)フェ
ノールを得た。収量573mg0収率98%。
ロブチルオキシ)フェノールの製造ベンジルp−(3−
ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブチルオキシ)フ
ェニルエーテル766mg (2,OOmmol)に5
%パラジウムカーボン93Bを加えたものを、乾燥メタ
ノール3mi+と乾燥エーテル2mRに溶解させ、接触
水素添加装置を使用し、室温、常圧、水素下で24時間
撹拌した。反応終了後、パラジウムカーボンをセライト
濾過で濾別し、溶媒を留去して、(−)−p−(3−ブ
トキシ−4,4,4−)リフルオロブチルオキシ)フェ
ノールを得た。収量573mg0収率98%。
工程4)
4−(3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブチル
オキシ)フェニル−4′−ドデシルオキシビフェニル−
4−カルボキシレートの製造4′−ドデシルオキシビフ
ェニル−4−カルボン酸289mg (0,75mmo
l)に塩化チオニル1.2mj7を加え、90℃で1.
5時間加熱還流した。反応終了後、過剰の塩化チオニル
を留去した後、水冷下、乾燥ベンゼン3mf!と(−)
−p−(3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブチ
ルオキシ)フェノール183mg (0,63mmol
)を加え、室温で30分間撹拌した。続いて、水冷下、
トリエチレンジアミン 115mg (1,03+++
mol)と乾燥ベンゼン1 mi)を加え、室温で30
分間、50℃で5時間、室温で13時間、70℃で2時
間撹拌反応させた。反応終了後、3M塩酸5mJおよび
蒸留水5m1)を加えベンゼンで抽出した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、薄層クロマトグラフィー(展開溶
媒 酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で精製した。収量
126mg、収率31%。
オキシ)フェニル−4′−ドデシルオキシビフェニル−
4−カルボキシレートの製造4′−ドデシルオキシビフ
ェニル−4−カルボン酸289mg (0,75mmo
l)に塩化チオニル1.2mj7を加え、90℃で1.
5時間加熱還流した。反応終了後、過剰の塩化チオニル
を留去した後、水冷下、乾燥ベンゼン3mf!と(−)
−p−(3−ブトキシ−4,4,4−トリフルオロブチ
ルオキシ)フェノール183mg (0,63mmol
)を加え、室温で30分間撹拌した。続いて、水冷下、
トリエチレンジアミン 115mg (1,03+++
mol)と乾燥ベンゼン1 mi)を加え、室温で30
分間、50℃で5時間、室温で13時間、70℃で2時
間撹拌反応させた。反応終了後、3M塩酸5mJおよび
蒸留水5m1)を加えベンゼンで抽出した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、薄層クロマトグラフィー(展開溶
媒 酢酸エチル:ヘキサン=1:5)で精製した。収量
126mg、収率31%。
相転移温度(”C)
Cry、 :結晶相
S3:未同定相
SmC’ :カイラルスメクチックC相 ゝSmA
:スメクチックA相 Iso、 : @方相 [発明の効果] 以上説明した様に、本発明の製造方法により光学活性な
(+)−または(−)−3−アルキルオキシ−4,4,
4−トリフルオロブタン酸、および(+)−または(−
)−3−アルキルオキシ−4,4,4−トリフルオロブ
タノールを効率良く、また高い光学純度で得ることが可
能になった。また、この本発明の製造方法は工業的に大
量生産が可能な方法である。
:スメクチックA相 Iso、 : @方相 [発明の効果] 以上説明した様に、本発明の製造方法により光学活性な
(+)−または(−)−3−アルキルオキシ−4,4,
4−トリフルオロブタン酸、および(+)−または(−
)−3−アルキルオキシ−4,4,4−トリフルオロブ
タノールを効率良く、また高い光学純度で得ることが可
能になった。また、この本発明の製造方法は工業的に大
量生産が可能な方法である。
さらに、本発明によれば、得られた該光学活性化合物を
原料として合成することにより液晶化合物を製造するこ
とができ、この製造方法も工業的に有利な方法である。
原料として合成することにより液晶化合物を製造するこ
とができ、この製造方法も工業的に有利な方法である。
出願人 山川薬品工業株式会社
〃 キャノン株式会社
代理人 渡 辺 徳 廣
Claims (4)
- (1)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
C^*は不斉炭素原子を示す。)で表わされる光学活性
化合物。 - (2)下記一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基を
示す。) で表わされる(±)−3−アルキルオキシ−4,4,4
−トリフルオロブタン酸に、光学活性1−(p−トリル
)エチルアミンを作用させ光学分割することを特徴とす
る下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
C^*は不斉炭素原子を示す。)で表わされる光学活性
化合物の製造方法。 - (3)下記一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基を
示す。) で表わされる(±)−3−アルキルオキシ−4,4,4
−トリフルオロブタン酸に、光学活性1−(p−トリル
)エチルアミンを作用させ光学分割することにより下記
一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
C^*は不斉炭素原子を示す。)で表わされる光学活性
化合物を得た後、該光学活性化合物を還元することを特
徴とする下記 一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
C^*は不斉炭素原子を示す。)で表わされる光学活性
化合物の製造方法。 - (4)置換基を有してもよいベンゼン、シクロヘキサン
、ピリミジン、ピラジン、ピリジンおよびナフタレン環
の中から選ばれた2環以上の環構造を有する化合物と、
下記一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、Rは炭素原子数1〜14の直鎖状アルキル基、
C^*は不斉炭素原子を示す。)で表わされる光学活性
化合物とを反応させることを特徴とする液晶相を有する
液晶化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32240190A JPH04198153A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 光学活性化合物およびその製造方法、並びに液晶化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32240190A JPH04198153A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 光学活性化合物およびその製造方法、並びに液晶化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04198153A true JPH04198153A (ja) | 1992-07-17 |
Family
ID=18143255
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32240190A Pending JPH04198153A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 光学活性化合物およびその製造方法、並びに液晶化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04198153A (ja) |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP32240190A patent/JPH04198153A/ja active Pending
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