JPH04197442A - 窒素酸化物除去用触媒の製造方法 - Google Patents
窒素酸化物除去用触媒の製造方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
どをはじめ各種工場の固定燃焼装置から排出される排ガ
ス中に含有される窒素酸化物(以下NOxとする)の除
去用触媒の製造方法に関する。特にNOxおよび硫黄酸
化物(主として二酸化硫黄、以下SOxとする)を同時
に含有する排ガス中にアンモニアを還元剤として加え、
接触的に反応させることにより効率よくNOxを無害な
窒素と水とに分解し、NOx還元除去反応と同時に生じ
る二酸化硫黄(SO2)の三酸化硫黄(SO3)への酸
化反応を実質的に抑制し、かつ、耐冬性に優れた性能を
有する触媒の製造方法を提供するものである。
法および接触還元法などがあるが、接触還元法が排ガス
処理量が大きく、かつ排水処理も不用であり、技術的な
らびに経済的にも有利である。
水素、水素あるいは一酸化炭素を用いる非選択的還元法
と還元剤としてアンモニアを用いる選択的還元法とがあ
る。後者の場合、高濃度の酸素を含む排ガスでもNOx
を選択的に除去でき、また使用する還元剤も少量ですむ
ため経済的でもあり、極めて有利な方法である。
媒の備えるべき特質としては、第一に、排ガス中には酸
素、SOx、炭酸ガス、水蒸気、ハロゲン化合物、炭化
水素類等が含まれているが、それらの共存ガスの影響を
受けないこと、第二に、広範囲の温度領域でしかも高空
間速度で充分な高性能を示すこと、第三に、排ガス中に
共存している煤塵にはバナジウム、ニッケル、鉄等の重
金属や、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属が含ま
れているが、これ等の煤塵が付着しても触媒が被覆され
ないこと、第四に、排ガスの中の二酸化硫黄(SO2)
を二酸化硫黄(503)に酸化する能力が実質的にない
こと、すなわち排ガス中に含まれているS02は触媒上
で酸化されてS03となり触媒上に蓄積して脱硝活性が
低下したり、また還元剤として添加しているアンモニア
と反応して、硫酸アンモニウム、酸性硫酸アンモニウム
を生成してこれが煙道や熱交換器等の諸設備に蓄積し、
それを閉塞して円滑な操業を妨げる等の欠点がないこと
である。従って、極力SO2からSO3への酸化を抑制
する触媒が望まれる。
のようにSOxの含有量の多い排ガスを対象とする場合
、S02酸化活性が低くかつ脱硝活性の高い触媒が強く
望まれているところである。
をもたらす一方、S02酸化活性を高める大きな原因と
なっていることは既によく知られている。
O2酸化能を抑制することが可能であるが、しかし同時
に脱硝活性を犠牲にせざるをえない。ここに触媒中の酸
化バナジウムを減少させても脱硝活性を低下させない種
々の触媒組成物や、触媒の調整方法が従来から提案され
ている。
形成されたチタンと、ケイ素および/またはジルコニウ
ムとからなる二元ないし三元系複合酸化物にバナジウム
酸化物、タングステン酸化物およびスズ酸化物をある特
定比になるように担持した触媒が開示されている。また
、特開昭60−90,043号公報には、チタンと、ジ
ルコニウムおよび/またはケイ素とからなる含水酸化物
中に硫酸、または硫酸アンモニウムを存在させた状態で
熱処理して得られた含硫黄複合酸化物に、バナジウム酸
化物、タングステン酸化物等を担持させた触媒が提案さ
れている。
窒素酸化物除去用触媒よりも更に脱硝性能に優れ、しか
もS02酸化能力の低い窒素酸化物除去用触媒の製造方
法を提供することにある。
、四塩化チタン、硫酸チタン等の可溶性チタン化合物と
、可溶性ケイ素化合物および/またはシリカゾルとを出
発原料として用い、アンモニアによる中和反応によって
得られる共沈物スラリーをpHが8.5以上のアルカリ
性の状態で20時間以上熟成せしめた後、これを洗浄し
、乾燥し、次いで焼成して得られるチタンとケイ素から
なる二元系複合酸化物と、バナジウム酸化物およびタン
グステン酸化物とを触媒成分として用いることにより、
SO2酸化活性が低く、かつNOx除去性能の優れた触
媒が得られることを見い出し、本発明を完成するに至っ
た。
触的に反応せしめて選択還元する触媒を製造する方法に
おいて、可溶性チタン化合物と、可溶性ケイ素化合物お
よび/またはシリカゾルとを出発原料として用い、水性
媒体中で該出発原料をアンモニアによって中和せしめて
共沈物を得、該共沈物スラリーをpH8,5以上の範囲
で20時間以上熟成せしめた後、これを洗浄し、乾燥し
、次いで焼成して得られるチタンおよびケイ素からなる
二元系複合酸化物を触媒A成分とし、バナジウム酸化物
を触媒B成分とし、タングステン酸化物を触媒C成分と
して用いてなり、その組成がそれぞれA成分は82〜9
7重量%、B成分は0゜3〜3重量%およびC成分は3
〜15重量%の範囲、さらにA成分の組成が原子百分率
でチタン70〜90%、ケイ素30〜10%の範囲に調
整されてなることを特徴とする窒素酸化物除去用触媒の
製造方法を提供する。
(以下、TiO2−8i02と略記する)は、例えば田
部造三(触媒、第17巻、N03゜72頁(1975年
))によっても周知のように、固体酸として知られ、構
成するおのおの単独の酸化物には見られない顕著な酸性
を示し、また高表面積を有する。すなわち、TiO2−
3i02は、酸化チタンおよび酸化ケイ素を単に混合し
たものではなく、チタンおよびケイ素がいわゆる二元系
複合酸化物を形成することによりその特異な物性が発現
するものと認められることのできるものである。
くてS02酸化性能が低(、かつ耐久性に優れた触媒が
得られることは、特開昭52−122.293号公報に
既に開示されている。
々検討した結果、四塩化チタン、硫酸チタン等の可溶性
チタン化合物と、可溶性ケイ素化合物および/またはシ
リカゾルとを混合し、これにアンモニア水を加えて水性
媒体中で共沈ゲルを生成せしめ、該共沈物スラリーをp
H8,5以上のアルカリ性の状態で0〜50℃の温度、
好ましくは10〜40℃で20時間以上熟成した後、乾
燥し、焼成して得られたTiO2−3i02を触媒成分
として使用することにより、驚くべきことに、脱硝活性
が高く、しかもSO2酸化活性が極めて低い触媒が得ら
れることを見い出した。
2共沈ゲルの熟成時において、共沈物スラリーのpHが
大きくなるほど、さらにまたアルカリ性の状態で長時間
熟成するほど、S02酸化活性が低くなると同時に脱硝
活性も高くなる傾向にあることが知見された。
してはpHが8.5以上、好ましくは9以上の範囲で2
0時時間以上、好ましくは30〜50時間熟成すること
が好ましい結果を与えることが判明した。この範囲以外
、例えばpHが8.5未満で、かつ熟成時間が20時間
未満の場合、S02酸化活性が高くなり、脱硝活性も低
下し、好ましい結果を与えない。
知られているが、本発明によるTiO2−8i02はそ
の固体酸分布が最適化され、このことか完成触媒に対し
て好ましい性能を与えるものと考えられる。
、−原子百分率でチタン70〜90%好ましくは70〜
85%およびケイ素30〜10%、好ましくは15〜3
0%の範囲である。この範囲以外、例えばチタンが90
%を越えかつケイ素が10%未満の場合、得られる触媒
のS02酸化活性が増大して好ましくない。また、チタ
ンが70%未満で、ケイ素が30%を越える場合、脱硝
活性が悪くなり、好ましくない。
では非晶質もしくは非晶質に近い構造を有していること
が好ましく、その比表面積として80m27g以上、特
に100〜200m2/gり、(好ましい。
製するに原して、その出発原料としてのチタン源として
は、可溶性チタン化合物、例えば塩化チタン類、硫酸チ
タンなどの無機性チタン化合物およびシュウ酸チタン、
テトライソプロピルチタネートなどの有機性チタン化合
物などから選ぶことができ、またケイ素源としては、可
溶性ケイ素化合物、例えばシリカゾル、四塩化ケイ素な
ど無機性ケイ素化合物およびエチルシリケート類、メチ
ルシリケート類などの有機ケイ素化合物などが好適に使
用される。
うに実施される。まず、硫酸チタン水溶液とシリカゾル
をTiO25i02のモル比が所定量になるように混合
し、チタンおよびケイ素を酸化物換算して1〜100g
/j)、好ましくは1〜50g/j)の濃度とし10〜
50℃、好ましくは10〜40℃に保つ。その中へ攪拌
下、中和剤としてアンモニア水を滴下し、TiO2−8
i02共沈ゲルを生成せしめ、次いで該TiO2−3i
02ゲルスラリーのpHを8.5以上、好ましくは9以
上に保持した状態で、20時間以上、さらに好ましくは
30〜50時間熟成した後洗浄し、100〜250℃、
好ましくは100〜200℃で5〜10時間、好ましく
は5〜8時間乾燥する。次いで空気雰囲気下400〜7
00℃、好ましくは450〜650℃で5〜10時間、
好ましくは5〜8時間焼成してTiO2−5i02を得
る。
触媒B成分(バナジウム酸化物)および触媒C成分(タ
ングステン酸化物)の出発原料としては、それぞれバナ
ジウムおよびタングステンの酸化物、水酸化物、無機酸
塩類、有機酸塩類等、特にアンモニウム塩、シュウ酸塩
、硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化合物等から適宜選ばれる
。
成分が82〜97重量%、好ましくは87〜95重量%
、触媒B成分が0.3〜3重量%、好ましくは0.5〜
3重量%、触媒C成分が3〜15重量%、好ましくは5
〜10重量%の範囲である。触媒B成分が3重量%を越
えた範囲では、得られる触媒の802酸化率が高くなり
好ましくない。また、触媒C成分が上記範囲以外では、
脱硝活性が低下したり、触媒の原料コストが高くなるた
めに3〜15重量%の上記範囲が好ましい。
タノールアミンもしくはシュウ酸の水溶液に所定量のメ
タバナジン酸アンモニウムおよびパラタングステン酸ア
ンモニウムを溶解させ、得られたバナジウム、タングス
テンを含む水溶液に前記の方法で予め調製されたTiO
25i02の粉体を成形助剤とともに加え、混合し、混
練し、押し出し成形機でハニカム状に成形する。次いで
得られた成形物を50〜120℃で乾燥後、300〜7
00℃、好ましくは400〜650℃で1〜10時間、
好ましくは2〜6時間空気流通下で焼成して触媒を得る
。また、別法としてTiO2−8i02の粉体を予めハ
ニカム状に成形し、焼成した後に、バナジウム、タング
ステンを含む水溶液を含浸担持させる方法も採用できる
。また、さらに担体を使用することも可能である。担体
としては、例えば、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミ
ナ、ベントナイト、ケイソウ土、シリコンカ−バイド、
チタニア、ジルコニア、マグネシア、コープイライト、
ムライト、軽石、活性炭、無機繊維などを用いることが
できる。触媒成分の担持は混練法、浸漬法、含浸性等公
知の方法はいずれも用いることができる。
状、円筒状、板状、リボン状、波板状、パイプ状、ドー
ナツ状、格子状、その他一体化成形されたものが適宜選
ばれる。
成としては、通常5Ox50〜2000ppm、酸素1
〜20容量%、炭酸ガス1〜15容量%、水蒸気5〜1
5容量%、煤塵0. 1〜30g/m3およびNOx
(主にNo)100〜2000ppmの程度に含有する
ものである。通常のボイラー排ガスはこの範囲に入るが
、特にガス組成は限定しない。本発明の触媒は、例えば
S08を含まない含N Ox排ガス、およびハロゲン化
合物を含む含NOx排ガス等の特殊な排ガスをも処理す
ることができるからである。
ラー排ガスの処理を対象とする場合、具備すべき触媒性
能としては、高脱硝活性およびS02酸化性能の低減に
加えてさらにダストにより触媒が摩耗しないことが強く
要求される。
イプ状に一体化成形された本発明の触媒を500℃以上
の高温で熱処理することにより、触媒の耐摩耗性が著し
く向上することが知見された。これは、触媒成分として
用いられているTiO2−8i02が高温熱処理により
複合酸化物の一部が脱水縮合し、その結果、触媒の硬化
が促進されて耐摩耗性が向上したものと考えられる。
えると活性成分である酸化バナジウムがンンタリングす
るために好ましくない。したがって、耐摩耗性が特に要
求される石炭焚用触媒として、一体化成形された触媒の
熱処理温度は500〜650℃の範囲が好適である。
なるが、まずアンモニア(NH3)の添加量は、N O
x 1容量部に対して0.5〜3容量部が好ましい。例
えばボイラーの排ガス組成ではNOxのうちの大部分が
Noであるので、NOとNH3のモル比1:1の近辺が
特に好ましい。過剰のNH3を極力抑える必要がある場
合は、NH3/Noのモル比を1以下として使用するこ
とが好ましい。次に、反応温度は150〜500℃、特
に250〜450℃が好ましく、空間速度は1゜000
−100.000hr−1、特に3.000〜30,0
00hr−1の範囲が好適である。圧力は特に限定はな
いが0.01〜10kg/cm2の範囲が好ましい。
、移動床、流動床等の反応器が適用できる。
に説明するか、本発明は、これらの実施例のみに限定さ
れるものではない。
水溶液を用いた。
so4 1100g/Ω上記硫酸チタニル
溶液67.3j)に水280pを添加して希釈した硫酸
チタニル水溶液にスノーテックス0(8産化学工業(株
)製シリカゾル:5i02として20〜21重量%含有
)15.8kgを加えた。これを温度30℃に保持しつ
つ、よく攪拌しながらアンモニア水を徐々に滴下し、T
iO25i02ゲルを生成せしめた。さらにpHを9.
2に保持して25℃の温度で30時間TiO25i02
ゲルを熟成した。このようにして得られたTiO2−3
i02ゲルを濾過し、洗浄後、150℃で10時間乾燥
し、次いで550℃で5時間空気雰囲気下で焼成した。
=4(モル比)であった。ここで、得られた粉体を以降
TS−1と呼ぶ。
れにパラタングステン酸アンモニウム2゜09kgを加
え溶解させ、ついでメタバナジン酸アンモニウム0.1
84kgを溶解させ均一な溶液とした。次いで、この溶
液とTS−1の16kgをニーダ−を用いて適量の水を
添加しつつよく混合し、混練した後、押し出し成型機で
格子状(ハニカム状)(ピッチ7mm、肉厚1.0mm
)に成型した。次いで、50℃で乾燥後450℃で5時
間空気流通下で焼成した。得られた完成触媒の組成は酸
化物としての重量比でTS−1:V2O5:WO3−8
9,2: 0.8 : 10であった。
11.6で40時間熟成する以外は実施例1と同様の方
法で同組成の触媒を調製した。
8.5で20時間熟成する以外は実施例1と同様の方法
で同組成の触媒を調製した。
温度を530℃で焼成する以外は、実施例1と同様の方
法で同組成の触媒を調製した。
温度を600℃で焼成する以外は、実施例1と同様の方
法で同組成の触媒を調製した。
が8.0で20時間熟成する以外は、全て実施例1と同
様の方法で同組成の触媒を調製した。
が8.5で18時間熟成する以外は、全て実施例1と同
様の方法で同組成の触媒を調製した。
記組、成の合成ガスを温度380℃、空間速度5,50
0hr’にて接触させ、脱硝率およびso2酸化率を求
めた。
% N2 残 部NH350
0ppm 脱硝率およびS02酸化率は、それぞれ次式により求め
た。
触媒の摩耗率を求めた。
)、長さ100mmの試験片に切り出し、試験片の空孔
に、石炭フライアッシュ50 g/m3を含む空気を2
3ONm3/hrの流通で常温にて導入し、30分後の
触媒の摩耗率を次式により求めた。
いと同時に802酸化率も極めて低い優れた性能を示す
ことが判る。
成された触媒は耐摩耗性が向上し、多量のダストを含む
石炭焚用触媒として好適であることが判る。
式会社
Claims (2)
- (1)窒素酸化物をアンモニアと共に接触的に反応せし
めて選択還元する触媒を製造する方法において、可溶性
チタン化合物と、可溶性ケイ素化合物および/またはシ
リカゾルとを出発原料として用い、水性媒体中で該原料
をアンモニアによって中和せしめて共沈物を得、該共沈
物スラリーをpHが8.5以上の範囲で20時間以上熟
成せしめた後、これを洗浄し、乾燥し、次いで焼成して
得られるチタンおよびケイ素からなる二元系複合酸化物
を触媒A成分とし、バナジウム酸化物を触媒B成分とし
、タングステン酸化物を触媒C成分として用いてなり、
その組成がそれぞれA成分は82〜97重量%、B成分
は0.3〜3重量%およびC成分は3〜15重量%の範
囲、さらにA成分の組成が原子百分率でチタン70〜9
0%、ケイ素30〜10%の範囲に調整されてなること
を特徴とする窒素酸化物除去用触媒の製造方法。 - (2)窒素酸化物をアンモニアと共に接触的に反応せし
めて選択還元する触媒を製造する方法において、可溶性
チタン化合物と、可溶性ケイ素化合物および/またはシ
リカゾルとを出発原料として用い、水性媒体中で該原料
をアンモニアによって中和せしめて共沈物を得、該共沈
物スラリーをpH8.5以上の範囲で20時間以上熟成
せしめた後、これを洗浄し、乾燥し、次いで焼成して得
られるチタンおよびケイ素からなる二元系複合酸化物を
触媒A成分とし、バナジウム酸化物を触媒B成分とし、
タングステン酸化物を触媒C成分として用いてなり、そ
の組成がそれぞれA成分は82〜97重量%、B成分は
0.3〜3重量%およびC成分は3〜15重量%の範囲
、さらにA成分の組成が原子百分率でチタン70〜90
%、ケイ素30〜10%の範囲に調整されてなり、かつ
当該触媒組成物が一体化成形され500〜650℃の範
囲の温度で熱処理されてなることを特徴とする窒素酸化
物除去用触媒の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2332271A JP2825343B2 (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | 窒素酸化物除去用触媒の製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH04197442A true JPH04197442A (ja) | 1992-07-17 |
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ID=18253081
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2332271A Expired - Lifetime JP2825343B2 (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | 窒素酸化物除去用触媒の製造方法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2825343B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114308114A (zh) * | 2020-09-30 | 2022-04-12 | 大连理工大学 | 一种脱硝催化剂及其制备方法、应用 |
CN114515587A (zh) * | 2022-03-28 | 2022-05-20 | 南京工业大学 | 一种多层次结构碳化硅催化膜的制备方法 |
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---|---|---|---|---|
US9463453B2 (en) | 2012-07-04 | 2016-10-11 | Mitsubishi Hitachi Power Systems, Ltd. | Method for producing NOx removal catalyst for high-temperature exhaust gas |
-
1990
- 1990-11-29 JP JP2332271A patent/JP2825343B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN114308114A (zh) * | 2020-09-30 | 2022-04-12 | 大连理工大学 | 一种脱硝催化剂及其制备方法、应用 |
CN114308114B (zh) * | 2020-09-30 | 2023-02-10 | 大连理工大学 | 一种脱硝催化剂及其制备方法、应用 |
CN114515587A (zh) * | 2022-03-28 | 2022-05-20 | 南京工业大学 | 一种多层次结构碳化硅催化膜的制备方法 |
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JP2825343B2 (ja) | 1998-11-18 |
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