JPH04188616A - 熱処理拡散炉装置 - Google Patents
熱処理拡散炉装置Info
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- JPH04188616A JPH04188616A JP31360890A JP31360890A JPH04188616A JP H04188616 A JPH04188616 A JP H04188616A JP 31360890 A JP31360890 A JP 31360890A JP 31360890 A JP31360890 A JP 31360890A JP H04188616 A JPH04188616 A JP H04188616A
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- exhaust duct
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- semiconductor substrate
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Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の製造に使用する熱処理拡散炉装置
に関する。
に関する。
従来、この種の拡散炉装置は、第２図の縦断面図に示す
ように、石英の反応管１の炉口部に熱排気ダクト３を有
し、熱排気ダクト３内を半導体基板が通過して反応管１
内へ入る様になっていた。
ように、石英の反応管１の炉口部に熱排気ダクト３を有
し、熱排気ダクト３内を半導体基板が通過して反応管１
内へ入る様になっていた。
２はヒーターである。
上述した従来の拡散炉装置は、熱排気ダクトにより反応
管内のガスと熱排気ダクト前面の大気も同時に吸引して
いる為、半導体基板が通過する際、反応管内に酸素の巻
き込みが生じ、半導体基板上に不必要の自然酸化膜を形
成してしまう欠点がある。
管内のガスと熱排気ダクト前面の大気も同時に吸引して
いる為、半導体基板が通過する際、反応管内に酸素の巻
き込みが生じ、半導体基板上に不必要の自然酸化膜を形
成してしまう欠点がある。
本発明は、炉口に熱排気ダクトを有する反応管内で半導
体基板の熱処理を行なう熱処理拡散炉装置において、前
記熱排気ダクトの前面に窒素雰囲気のバッファーを設け
たものである。
体基板の熱処理を行なう熱処理拡散炉装置において、前
記熱排気ダクトの前面に窒素雰囲気のバッファーを設け
たものである。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図である。
熱排気ダクト３の前面にバッファー４を有し、バッファ
ー４内は窒素パージノズル５より窒素をパージすること
により窒素雰囲気に保たれる。それによって半導体基板
が熱排気ダクト３を通過する際に酸素を巻き込むのを防
止する。
ー４内は窒素パージノズル５より窒素をパージすること
により窒素雰囲気に保たれる。それによって半導体基板
が熱排気ダクト３を通過する際に酸素を巻き込むのを防
止する。
以上説明したように本発明は、窒素雰囲気のバッファー
を熱排気ダクト前面に設けることにより、酸素を反応管
内に巻き込むのを防止し、半導体基板上への自然酸化膜
の形成を低減できる効果がある。
を熱排気ダクト前面に設けることにより、酸素を反応管
内に巻き込むのを防止し、半導体基板上への自然酸化膜
の形成を低減できる効果がある。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図、第２図は従来の
拡散炉装置の縦断面図である。 ］・・・反応管、２・・・ヒーター、３・・・熱排気ダ
クト、４・・・バッファー、５・・・窒素パージ用ノズ
ル。
拡散炉装置の縦断面図である。 ］・・・反応管、２・・・ヒーター、３・・・熱排気ダ
クト、４・・・バッファー、５・・・窒素パージ用ノズ
ル。
Claims (1)
- 炉口に熱排気ダクトを有する反応管内で半導体基板の熱
処理を行なう熱処理拡散炉装置において、前記熱排気ダ
クトの前面に窒素雰囲気のバッファーを設けたことを特
徴とする熱処理拡散炉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31360890A JPH04188616A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 熱処理拡散炉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31360890A JPH04188616A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 熱処理拡散炉装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04188616A true JPH04188616A (ja) | 1992-07-07 |
Family
ID=18043370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31360890A Pending JPH04188616A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 熱処理拡散炉装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04188616A (ja) |
-
1990
- 1990-11-19 JP JP31360890A patent/JPH04188616A/ja active Pending
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