JPH04186301A - レンズおよびその製造方法 - Google Patents
レンズおよびその製造方法Info
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- JPH04186301A JPH04186301A JP31716990A JP31716990A JPH04186301A JP H04186301 A JPH04186301 A JP H04186301A JP 31716990 A JP31716990 A JP 31716990A JP 31716990 A JP31716990 A JP 31716990A JP H04186301 A JPH04186301 A JP H04186301A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、複写機その他の装置に用いられる光学系のレ
ンズおよびその製造方法に関する。
ンズおよびその製造方法に関する。
例えばCCD (charae Coupled De
vice ) ノ画素に対応させて用いるマイクロレン
ズの製造方法は、従来は例えば第3図に示すようなイオ
ン交換法によるものかあった(第1従来例)。すなわち
同図に示す製造方法は、まず同図(a)においてガラス
基板1を洗浄し、同図(b)においてガラス基板1上に
マイクロレンズのパターンが形成されたMo、W等のメ
タルマスク2が載置され、同図(C)においてメタルマ
スク2に被覆されず露出しているガラス基板1の表面を
HCj 、 HNo、系の酸で80℃で2時間位処理し
て、ガラス基板1からNa、に、Ca等のイオンを離脱
させ、同図(d)においてガラス基板1を水洗して乾燥
させる。次に同図(e)において、後に形成されるレン
ズを所望の屈折率にするために必要な金属イオンとイオ
ン交換するなめに、ガラス基板1をメタルマスク2側を
下にしてその金属イオンの溶融塩3中に550〜600
°Cで1時間位入れ。
vice ) ノ画素に対応させて用いるマイクロレン
ズの製造方法は、従来は例えば第3図に示すようなイオ
ン交換法によるものかあった(第1従来例)。すなわち
同図に示す製造方法は、まず同図(a)においてガラス
基板1を洗浄し、同図(b)においてガラス基板1上に
マイクロレンズのパターンが形成されたMo、W等のメ
タルマスク2が載置され、同図(C)においてメタルマ
スク2に被覆されず露出しているガラス基板1の表面を
HCj 、 HNo、系の酸で80℃で2時間位処理し
て、ガラス基板1からNa、に、Ca等のイオンを離脱
させ、同図(d)においてガラス基板1を水洗して乾燥
させる。次に同図(e)において、後に形成されるレン
ズを所望の屈折率にするために必要な金属イオンとイオ
ン交換するなめに、ガラス基板1をメタルマスク2側を
下にしてその金属イオンの溶融塩3中に550〜600
°Cで1時間位入れ。
このときのイオン添加量を10〜20モル%程度にして
いる。このようにしてイオン交換されてカラス基板1内
に拡散した拡散イオンか後で溶出しないよう、同図(f
)において拡散イオン4の溶出防止処理が行われる。次
に同図(g)において酸による溶解もしくは研磨等によ
りメタルマスク2を除去し、同図(h)において拡散イ
オン4の活性化(イオン結合の促進)を図るために60
0〜650℃で2時間位加熱し、同図(i)において徐
冷することにより歪みを除去してマイクロレンズ5がガ
ラス基板1内に形成される。
いる。このようにしてイオン交換されてカラス基板1内
に拡散した拡散イオンか後で溶出しないよう、同図(f
)において拡散イオン4の溶出防止処理が行われる。次
に同図(g)において酸による溶解もしくは研磨等によ
りメタルマスク2を除去し、同図(h)において拡散イ
オン4の活性化(イオン結合の促進)を図るために60
0〜650℃で2時間位加熱し、同図(i)において徐
冷することにより歪みを除去してマイクロレンズ5がガ
ラス基板1内に形成される。
その他の従来のマイクロレンズの製造方法としては、光
感応性カラスの溶解と部分残留部をホトリソグラフィの
手法により形成するもの(第2従来例)や、工・ゾチン
グによってマイクロレンズをパターン形成するもの(第
3従来例)が大部分である。
感応性カラスの溶解と部分残留部をホトリソグラフィの
手法により形成するもの(第2従来例)や、工・ゾチン
グによってマイクロレンズをパターン形成するもの(第
3従来例)が大部分である。
C発明が解決しようとする課題フ
しかしなから、上記従来のマイクロレンズの製造方法に
おいては製造工程か長く、材料が高価で・あり、高価な
装置を使用しなければならないという問題がある。
おいては製造工程か長く、材料が高価で・あり、高価な
装置を使用しなければならないという問題がある。
たとえば前記第1従来例のイオン交換法による製造方法
においては、イオン注入もしくは拡散後に加熱により拡
散イオンの活性化を図る必要があり、この拡散の程度と
拡がりによりマイクロレンズの焦点距離とレンズのサイ
ズか決定される。拡散と構法がりの副脚は加熱温度とイ
オン交換時の処理条件で決定され、このため加熱温度分
布の均一性、昇温、降温の安定性、さらに、イオン交換
の酸処理の均一性と液管理および洗浄と繁雑な工程パラ
メータがある。また屈折率制御のためのイオン添加量も
10〜20モル%程度入れており、これは炭酸塩や硝酸
塩の形で550〜600°C程度の溶融塩中で置換する
が、カラス基板に亀裂やヘアクラックが起こるので注意
か・必要である。また、ガラス基板のカラス転移点以下
でかつ近傍の温度で行うため温度の設定精度が要求され
る。さらにガラス基板が変形する場合や、溶融塩のフラ
ックス効果でガラスが溶ける場合かある。このような工
程の為に、高温処理やイオン注入機、拡散炉、溶融炉等
を必要とし、プロセスが長く、高価なものになってしま
う。
においては、イオン注入もしくは拡散後に加熱により拡
散イオンの活性化を図る必要があり、この拡散の程度と
拡がりによりマイクロレンズの焦点距離とレンズのサイ
ズか決定される。拡散と構法がりの副脚は加熱温度とイ
オン交換時の処理条件で決定され、このため加熱温度分
布の均一性、昇温、降温の安定性、さらに、イオン交換
の酸処理の均一性と液管理および洗浄と繁雑な工程パラ
メータがある。また屈折率制御のためのイオン添加量も
10〜20モル%程度入れており、これは炭酸塩や硝酸
塩の形で550〜600°C程度の溶融塩中で置換する
が、カラス基板に亀裂やヘアクラックが起こるので注意
か・必要である。また、ガラス基板のカラス転移点以下
でかつ近傍の温度で行うため温度の設定精度が要求され
る。さらにガラス基板が変形する場合や、溶融塩のフラ
ックス効果でガラスが溶ける場合かある。このような工
程の為に、高温処理やイオン注入機、拡散炉、溶融炉等
を必要とし、プロセスが長く、高価なものになってしま
う。
また前記第2従来例の光感応性ガラスを用いたレンズの
製造方法においては、材料が高価である他、光感応性が
あるのでその取扱いに制限が多い。
製造方法においては、材料が高価である他、光感応性が
あるのでその取扱いに制限が多い。
また前記第3従来例のエツチングによるレンズ製造方法
においては、エツチング工程のプロセスと焼成工程等工
程が長い。
においては、エツチング工程のプロセスと焼成工程等工
程が長い。
さらに前記第1、第2、第3従来例のいずれの製造方法
においてもレンズのカラー化は不可能であり、そのため
マイクロレンズで集光したものをカラーフィルタを通し
て光センサで検知するようにしている。そしてカラーフ
ィルタは有機色素を有機ゲルに分散したもので作成して
いるため、光透過効率か悪いめで照度を大きくする必要
があった。
においてもレンズのカラー化は不可能であり、そのため
マイクロレンズで集光したものをカラーフィルタを通し
て光センサで検知するようにしている。そしてカラーフ
ィルタは有機色素を有機ゲルに分散したもので作成して
いるため、光透過効率か悪いめで照度を大きくする必要
があった。
そこで本発明は、このような問題点を解決することを課
題としている。
題としている。
上記課題を解決するために、本発明によるレンズおよび
その製造方法は、次のような構成としたものである。
その製造方法は、次のような構成としたものである。
(1)透明基板上の所定位置に半球面状に盛上がるよう
にゲル状材料を付着させて形成したことを特徴とするレ
ンズ。
にゲル状材料を付着させて形成したことを特徴とするレ
ンズ。
(2)透明基板上に所定のパターンを形成し、このパタ
ーンの空隙部にゲル状材料を半球面状に盛上がるように
付着させ、前記ゲル状材料を固化させて前記パターンを
除去することを特徴とするレンズの製造方法。
ーンの空隙部にゲル状材料を半球面状に盛上がるように
付着させ、前記ゲル状材料を固化させて前記パターンを
除去することを特徴とするレンズの製造方法。
このような構成のレンズおよびその製造方法によれば、
透明基板上に所定のパターンを形成し、このパターンの
空隙部にゲル状材料を半球面状に盛上がるように付着さ
せ、前記ゲル状材料を固化させてパターンを除去するこ
とによりレンズを形成するようにしたなめ、レンズの製
造工程において高温処理やイオン注入機、拡散炉、溶融
炉等を必要とせず、簡易なプロセスでコストかかからす
容易に作成が可能である。
透明基板上に所定のパターンを形成し、このパターンの
空隙部にゲル状材料を半球面状に盛上がるように付着さ
せ、前記ゲル状材料を固化させてパターンを除去するこ
とによりレンズを形成するようにしたなめ、レンズの製
造工程において高温処理やイオン注入機、拡散炉、溶融
炉等を必要とせず、簡易なプロセスでコストかかからす
容易に作成が可能である。
以下、本発明の実施例について図面に基ついて説明する
。第1図は本発明によるレンズおよびその製造方法の一
実施例を示す図である。
。第1図は本発明によるレンズおよびその製造方法の一
実施例を示す図である。
本実施例は、まず同図(a)において、例えばTEOS
rs i (OC2Hs ) 4]に15モル96C
s+とH2O,アルコールを加えてゲル状のシリカガラ
ス10を作成する。このとき、均質化させるために超音
波を利用して撹拌するとともに、シリカ10をゲル状で
80℃で5時間以上熟成する。アルコールは表面張力を
小さくするために用いられる4次に同図(b)において
カラス基板11を洗浄し、同図(c)においてカラス基
板11の表面をArブラスマまたは03処理を行うか、
二のことにより後の工程で行われるゲル状のシリカカラ
ス10とカラス基板11の表面との付着力を増大させる
ことかできる。後述するマスクパターンにおけるマイク
ロレンズの大きさか小さい程この処理か必要で、この処
理を行わない場合にはゲル状のシリカカラス10をガラ
ス基板11の表面に付着させることができない、また、
後工程め一次園化時のけ着力も不足することになる。
rs i (OC2Hs ) 4]に15モル96C
s+とH2O,アルコールを加えてゲル状のシリカガラ
ス10を作成する。このとき、均質化させるために超音
波を利用して撹拌するとともに、シリカ10をゲル状で
80℃で5時間以上熟成する。アルコールは表面張力を
小さくするために用いられる4次に同図(b)において
カラス基板11を洗浄し、同図(c)においてカラス基
板11の表面をArブラスマまたは03処理を行うか、
二のことにより後の工程で行われるゲル状のシリカカラ
ス10とカラス基板11の表面との付着力を増大させる
ことかできる。後述するマスクパターンにおけるマイク
ロレンズの大きさか小さい程この処理か必要で、この処
理を行わない場合にはゲル状のシリカカラス10をガラ
ス基板11の表面に付着させることができない、また、
後工程め一次園化時のけ着力も不足することになる。
次に同図(d)において、ガラス基板11上に有機ホト
レジスト(たとえはノボラック系)により、製造しよう
とするマイクロレンズのマスクパターン12を形成する
。マイクロレンズが10μm程度の微小な場合には、マ
スクパターン12形成後に03処理を行うことで、ゲル
状のシリカガラス10をガラス基板11上に付着させる
ことかできる。同図(e)に示すようにゲル状のシリカ
カラスlOをガラス基板11上に付着させる方法として
は、ゲルのロールコータ−塗布またはスピンナーの方法
を用いることかできる。有機ホトレジストは椀水効果を
有しているため、ゲル10はカラス基板11上に凝集し
て半球面状に盛り上かって1寸着する。ン欠に同図(f
)において、ゲル10を150°Cで1時間位かけて加
熱することにより一次固化させる。このときゲル10は
脱水するので、半球面状のものか収縮してその曲率が小
さくなるが、レンズの曲率か大きなものが必要なときは
、同図(g)に示すようにさらにその上にゲル10を新
たに付着させる。そして同図(h)に示すように、再び
ゲル10を150℃で1時間位かけて加熱することによ
り二次固化させる。このような操作を繰返すことにより
、所望の曲率のレンズを得ることができる。最後に同図
(i)に示すように有機レジストを有機溶媒で除去した
後、300〜500℃で1時間焼成固化する(アニール
)ことで、ゲルから吸着水、水和物−5結合水を離脱せ
しめて透明レンズ13が得られる。ところでこの状態で
はシラノール基(SiOH)は残っているので、絶縁性
等が問題になるときはこの上に保護llI!S iO□
まなはStN、5iON等を0.5〜1μm程度製膜す
ることで解決することかできる。
レジスト(たとえはノボラック系)により、製造しよう
とするマイクロレンズのマスクパターン12を形成する
。マイクロレンズが10μm程度の微小な場合には、マ
スクパターン12形成後に03処理を行うことで、ゲル
状のシリカガラス10をガラス基板11上に付着させる
ことかできる。同図(e)に示すようにゲル状のシリカ
カラスlOをガラス基板11上に付着させる方法として
は、ゲルのロールコータ−塗布またはスピンナーの方法
を用いることかできる。有機ホトレジストは椀水効果を
有しているため、ゲル10はカラス基板11上に凝集し
て半球面状に盛り上かって1寸着する。ン欠に同図(f
)において、ゲル10を150°Cで1時間位かけて加
熱することにより一次固化させる。このときゲル10は
脱水するので、半球面状のものか収縮してその曲率が小
さくなるが、レンズの曲率か大きなものが必要なときは
、同図(g)に示すようにさらにその上にゲル10を新
たに付着させる。そして同図(h)に示すように、再び
ゲル10を150℃で1時間位かけて加熱することによ
り二次固化させる。このような操作を繰返すことにより
、所望の曲率のレンズを得ることができる。最後に同図
(i)に示すように有機レジストを有機溶媒で除去した
後、300〜500℃で1時間焼成固化する(アニール
)ことで、ゲルから吸着水、水和物−5結合水を離脱せ
しめて透明レンズ13が得られる。ところでこの状態で
はシラノール基(SiOH)は残っているので、絶縁性
等が問題になるときはこの上に保護llI!S iO□
まなはStN、5iON等を0.5〜1μm程度製膜す
ることで解決することかできる。
このように本実施例は、マイクロしンズの製造工程にお
いて従来のような高温処理やイオン注入機、拡散炉、溶
融炉等の高価な装置が不要なため、簡易なプロセスで低
コストのマイクロレンズを得ることができる。またゲル
状シリカを用いることでマイクロレンズのサイズ邦よび
曲率を自由に操作することができ、任意の仕様を設定す
ることができる。またシリカガラス(後のレンズ)の屈
折率を大きくしたい場合には、別表に示すようなイオン
半径の大きい金属イオンをゲル中に添加することで得ら
れ、例えばCs“イオンを15モル%程度ゲル中に添加
することにより屈折率n0が1.8〜2.0のレンズが
得られる。そしてこの屈折率を変化させることにより、
半球面形状の曲率のみでは得られない焦点距離を実現す
ることができる。上述したように屈折率は、ゲル中に添
加する金属イオンの種類と大きさ、濃度により決定する
ことができる。さらに、イオン添加量も従来法に比較し
て高濃度に自由配合が可能であり、従来のイオン交換法
のようにイオン半径が大きすき。
いて従来のような高温処理やイオン注入機、拡散炉、溶
融炉等の高価な装置が不要なため、簡易なプロセスで低
コストのマイクロレンズを得ることができる。またゲル
状シリカを用いることでマイクロレンズのサイズ邦よび
曲率を自由に操作することができ、任意の仕様を設定す
ることができる。またシリカガラス(後のレンズ)の屈
折率を大きくしたい場合には、別表に示すようなイオン
半径の大きい金属イオンをゲル中に添加することで得ら
れ、例えばCs“イオンを15モル%程度ゲル中に添加
することにより屈折率n0が1.8〜2.0のレンズが
得られる。そしてこの屈折率を変化させることにより、
半球面形状の曲率のみでは得られない焦点距離を実現す
ることができる。上述したように屈折率は、ゲル中に添
加する金属イオンの種類と大きさ、濃度により決定する
ことができる。さらに、イオン添加量も従来法に比較し
て高濃度に自由配合が可能であり、従来のイオン交換法
のようにイオン半径が大きすき。
ると溶融塩中でも拡散係数が小さくて濃度に限界がある
というようなことはない。
というようなことはない。
第2図は本発明の他の実施例について示すもめである。
本実施例はマイクロレンズをカラー着色させることによ
りカラーセンサに用いられるようにするものである。す
なわち同図(a)において前記一実施例におけると同1
m、17)ゲル状のシリカガラス10にカラー発色団と
してイオン発色材料を添加し、金属イオンを選ぶことで
各種各色の発色が可能である。たとえばCr’“により
黄色、Co”+により青色、U6“により橙色、CdS
eにより赤色等を発色させることができる。次に同図(
b)においてカラス基板11上に有機ホトレジストによ
りマイクロレンズのマスクパターン12を設けるが、こ
のマスクパターン12はたとえばまず黄色のレンズ位置
のみにレンズ寸法の孔12aが形成されたものを設ける
。そして同図(c)において黄色イオン発色団が添加さ
れたゲル10をその孔12aから臨くガラス基板11の
表面に半球面状に吐着させる、次に、同図(d)めよう
にマスクパターン12を有機溶媒で除去した後、ゲル1
0を150’Cで1時間位加熱することにより仮固化さ
せる。次に同図(e)のように、たとえば青色のレンズ
位置のみに孔12bか形成されたマスクパターン12を
カラス基板11上に設けて、青色イオン発色団が添加さ
れたゲルlOをその孔12bから臨くカラス基板11の
表面に吐着させる。そして同図(f)のようにマスクパ
ターン12を溶媒で除去した後、ゲル10を前記と同様
に加熱して仮固化させる。次に同図(g)のように、た
とえば橙色のレンズ位置のみに孔12cが形成されたマ
スクパターン12をカラス基板11上に設けて、橙色イ
オン発色団が添加されたゲル10をその孔12cから臨
くガラス基板11の表面に付着させる。そして同図(h
)のようにマスクパターン12を温媒で除去した後、ゲ
ル10を前記と同様に加熱して仮固化させる。そしてI
k後に同図(i)において、550〜600℃で2時間
前熱くアニール)してゲル10に添加したCs+等のイ
オン活性化と同時に、イオン発色団の活性化を行う。ま
たCdSe (赤色)等のようにシリカガラス10中で
イオン結合が前記熱アニールで再結合発色(再熱発色処
理)させることもできるので、化合物発色団も応用する
ことかできる。このようにレンズのカラー化においても
任意にそのイオン発色団が添加でき、さらにR(赤色)
、G(緑色)、B(青色)等のカラー化の形成プロセス
でも仮固化が容易であることから、多種のカラーマイク
ロレンズを同一ガラス基板上に形成することができる。
りカラーセンサに用いられるようにするものである。す
なわち同図(a)において前記一実施例におけると同1
m、17)ゲル状のシリカガラス10にカラー発色団と
してイオン発色材料を添加し、金属イオンを選ぶことで
各種各色の発色が可能である。たとえばCr’“により
黄色、Co”+により青色、U6“により橙色、CdS
eにより赤色等を発色させることができる。次に同図(
b)においてカラス基板11上に有機ホトレジストによ
りマイクロレンズのマスクパターン12を設けるが、こ
のマスクパターン12はたとえばまず黄色のレンズ位置
のみにレンズ寸法の孔12aが形成されたものを設ける
。そして同図(c)において黄色イオン発色団が添加さ
れたゲル10をその孔12aから臨くガラス基板11の
表面に半球面状に吐着させる、次に、同図(d)めよう
にマスクパターン12を有機溶媒で除去した後、ゲル1
0を150’Cで1時間位加熱することにより仮固化さ
せる。次に同図(e)のように、たとえば青色のレンズ
位置のみに孔12bか形成されたマスクパターン12を
カラス基板11上に設けて、青色イオン発色団が添加さ
れたゲルlOをその孔12bから臨くカラス基板11の
表面に吐着させる。そして同図(f)のようにマスクパ
ターン12を溶媒で除去した後、ゲル10を前記と同様
に加熱して仮固化させる。次に同図(g)のように、た
とえば橙色のレンズ位置のみに孔12cが形成されたマ
スクパターン12をカラス基板11上に設けて、橙色イ
オン発色団が添加されたゲル10をその孔12cから臨
くガラス基板11の表面に付着させる。そして同図(h
)のようにマスクパターン12を温媒で除去した後、ゲ
ル10を前記と同様に加熱して仮固化させる。そしてI
k後に同図(i)において、550〜600℃で2時間
前熱くアニール)してゲル10に添加したCs+等のイ
オン活性化と同時に、イオン発色団の活性化を行う。ま
たCdSe (赤色)等のようにシリカガラス10中で
イオン結合が前記熱アニールで再結合発色(再熱発色処
理)させることもできるので、化合物発色団も応用する
ことかできる。このようにレンズのカラー化においても
任意にそのイオン発色団が添加でき、さらにR(赤色)
、G(緑色)、B(青色)等のカラー化の形成プロセス
でも仮固化が容易であることから、多種のカラーマイク
ロレンズを同一ガラス基板上に形成することができる。
なお、本発明はマイクロレンズに限らず、通常の大きさ
のレンズにも適用することかできる。また、前記実施例
においてはゲル状のシリカガラスにS i (OC2H
5) 4を主体としたものについて説明したが、これに
限らず、5in(OH)、、、S i(OR)
(OH) n等を主体とするゲル−n 状材料に本発明を適用してもよい。
のレンズにも適用することかできる。また、前記実施例
においてはゲル状のシリカガラスにS i (OC2H
5) 4を主体としたものについて説明したが、これに
限らず、5in(OH)、、、S i(OR)
(OH) n等を主体とするゲル−n 状材料に本発明を適用してもよい。
以上説明したように本発明によれば、レンズの製造工程
において高温処理やイオン注入機、拡散炉、溶融炉等を
必要とせす、簡易なプロセスでコストがかからす容易に
作成が可能である6まな、ゲル状シリカを用いることで
マイクロレンズのサイズおよび曲率を自由に操作するこ
とかでき、任意の仕様を設定することかできる。また屈
折率をゲル中に添加する金属イオンの種類と大きさ、濃
度により調整することができるため、半球面形状の曲率
のみでは得られない焦点距離を実現することができる。
において高温処理やイオン注入機、拡散炉、溶融炉等を
必要とせす、簡易なプロセスでコストがかからす容易に
作成が可能である6まな、ゲル状シリカを用いることで
マイクロレンズのサイズおよび曲率を自由に操作するこ
とかでき、任意の仕様を設定することかできる。また屈
折率をゲル中に添加する金属イオンの種類と大きさ、濃
度により調整することができるため、半球面形状の曲率
のみでは得られない焦点距離を実現することができる。
さらに、レンズのカラー化においても任意にそのイオン
発色団が添加でき、さらにR(赤色)、G(緑色)、B
〈青色)等のカラー化の形成プロセスでも仮固化が容易
であることから、多種のカラーマイクロしンズを同一カ
ラス基板上に形成することができる。
発色団が添加でき、さらにR(赤色)、G(緑色)、B
〈青色)等のカラー化の形成プロセスでも仮固化が容易
であることから、多種のカラーマイクロしンズを同一カ
ラス基板上に形成することができる。
(以下余白)
第1図(a)〜(i)は本発明によるしシスの製造方法
の一実施例を工程順に示す図、第2図(a)〜(i)は
本発明によるレンズの製造方法の他の実施例を工程順に
示す図、第3図<a)〜(i)は従来のレンズの製造方
法を工程順に示す図である。 10・・・・・・シリカカラス(ゲル状材料)11・・
・・・・ガラス基板 12・・・・・・マスクパターン 特許出願友 株式会社 リ コ −
の一実施例を工程順に示す図、第2図(a)〜(i)は
本発明によるレンズの製造方法の他の実施例を工程順に
示す図、第3図<a)〜(i)は従来のレンズの製造方
法を工程順に示す図である。 10・・・・・・シリカカラス(ゲル状材料)11・・
・・・・ガラス基板 12・・・・・・マスクパターン 特許出願友 株式会社 リ コ −
Claims (3)
- (1)透明基板上の所定位置に半球面状に盛上がるよう
にゲル状材料を付着させて形成したことを特徴とするレ
ンズ。 - (2)透明基板上に所定のパターンを形成し、このパタ
ーンの空隙部にゲル状材料を半球面状に盛上がるように
付着させ、前記ゲル状材料を固化させて前記パターンを
除去することを特徴とするレンズの製造方法。 - (3)前記ゲル状材料にイオン半径の異る金属イオンを
用いることによりレンズの屈折率を変化できることを特
徴とする請求項(1)記載のレンズまたは請求項(2)
記載のレンズの製造方法。(4)前記ゲル状材料にイオ
ン発色材を添加することによりレンズのカラー化を行う
ことを特徴とする請求項(1)記載のレンズまたは請求
項(2)記載のレンズの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31716990A JPH04186301A (ja) | 1990-11-21 | 1990-11-21 | レンズおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31716990A JPH04186301A (ja) | 1990-11-21 | 1990-11-21 | レンズおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04186301A true JPH04186301A (ja) | 1992-07-03 |
Family
ID=18085229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31716990A Pending JPH04186301A (ja) | 1990-11-21 | 1990-11-21 | レンズおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04186301A (ja) |
-
1990
- 1990-11-21 JP JP31716990A patent/JPH04186301A/ja active Pending
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