JPH0418560A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、極めて高感度な感光性ポリイミド樹脂組成物
に関するものである。

［従来の技術］ 従来、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜などには、
耐熱性が優れ、また卓越した電気的特性、機械的特性な
どを有するポリイミド樹脂が用いられているが、近年半
導体素子の高集積化、大型化、封止樹脂パッケージの薄
型化、小型化、半田リフローによる表面実装方式への移
行などにより耐熱サイクル性、耐熱ショック性等の著し
い向上の要求があり、更に高性能なポリイミド樹脂が必
要とされるようになってきた。

一方、ポリイミド樹脂自身に感光性を付与する技術が最
近注目を集めてきた。

これらの感光性を付与したポリイミド樹脂を使用すると
、付与していないポリイミド樹脂に比較してパターン作
成工程の簡素化効果があるだけでなく、毒性の強いエツ
チング液を使用しなくてすむので、安全、公害上も優れ
ており、ポリイミド樹脂の感光性化は重要な技術となる
ことが期待されている。

感光性ポリイミド樹脂としては、例えば下式（Ａ）で示
されるような構造のエステル基で感光性基を付与したポ
リイミド前駆体組成物（例えば特公昭５５−４１４２２
号、特開昭６０−２２８５３７号公報）あるいは下式（
Ｂ） で示されるような構造のポリアミック酸に化学線により
２量化、または重合可能な炭素−炭素二重結合およびア
ミノ基または、その四級化塩を含む化合物を添加した組
成物（例えば特公昭５９−５２８２２号公報）などが知
られている。

これらは、いずれも適当な有機溶剤に溶解し、ワニス状
態で塗布、乾燥した後、フォトマスクを介して紫外線照
射ル、現像、リンス処理して所望のパターンを得、さら
に加熱処理することによりポリイミド被膜としている。

しかし、かかる従来の組成物は、次のような欠点を有し
ている。すなわち、（Ａ）に示す組成物においては、ま
ずテトラカルボン酸二無水物と感光基を有するアルコー
ルをエステル化反応させ、次にジアミンとアミド化反応
を行ない製造するという著しく複雑な工程を経るため、
低分子量でかつイオン性不純物の多いものしか得られな
かった。

しかし、エステル結合は強い結合力を有するためスプレ
ー現像（現像液を激しく噴きつけて急速に短時間に現像
する方法）可能という長所をもつ。

ところが逆に結合力が強すぎるため、４００°Ｃ以上の
高温でも感光基の除去が完全にはできず、ポリイミド皮
膜が黒化し、皮膜物性（強度、伸び等）が低下するとい
う短所にもなった。一方、（Ｂ）に示す組成物において
は、ポリアミック酸に感光剤を添加混合するだけでよい
ため、製造工程は著しく簡単であるが、ポリアミック酸
と感光剤とのイオン結合力が著しく弱いため、パドル現
像（現像液を静止した被現像皮膜に滴下して現像する方
法）しなければならず、やや時間を要する。さらに現像
時にクラックの発生や膜減りが生じやすく、また解像度
が低いなどの短所を有する。一方、結合力が弱いために
加熱により感光基が除去され易く、ポリイミド皮膜の皮
膜物性が優れるという長所になる。しかし゛ながら、（
Ａ）、（Ｂ）のいずれもその露光感度は２００〜４００
ｍＪ　／　ｃｍ２（超高圧水銀灯、ポリイミド厚み１０
μｍ）であり、最近の技術の進歩に伴う高感度化の要求
には不充分なものになってきた。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的とするところは、著しく高感度でかつ現像
時の膜減りが少なく、さらに皮膜特性の優れる感光性樹
脂組成物を提供するにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、（Ａ）芳香族トリ及び／又はテトラカルボン
酸無水物及び／又はその誘導体と、芳香族ジアミン及び
／又はその誘導体とを、化学線により重合可能な炭素−
炭素二重結合を含むアミド化合物中で反応させ、該アミ
ド化合物を溶媒としたポリアミック酸溶液に、 （Ｂ）下記式［）で示されるアミノアク１ル一ト化合物
と、 （式中、Ｘは−Ｈ又は−ＣＨ５基、 Ｙは−ＣＨ３又は−ＣＨ２ＣＨ３基） （Ｃ）吸収極大波長（λｍａｘ）が３３０〜５００ｎ　
ｍである増感剤を配してなることを特徴とする感光性樹
脂組成物である。

し作用］ 本発明において用いる芳香族トリ及び／又はテトラカル
ボン酸無水物及び／又はその誘導体とは下記式（！Ｉ　
）で示されるもので （Ｒ５：芳香族厚状基） 例えば、トリメリット酸無水物、ビロメｊノ・ソト酸二
無水物、ベンゼン−１，２，３，４−テトラカルボン酸
二無水物、３．３’　、４．４’−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物、２．２’　、３．３’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３．３′、４
′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタ
レン−２，３，６゜７−テトラカルボン酸二無水物、ナ
フタレン−１，，２，５゜６−テトラカルボン酸二無水
物、ナフタレン−１，２，４５−テトラカルボン酸二無
水物、ナフタレン−１，４，５８−テトラカルボン酸二
無水物、ナフタレン−１、２，６゜７−テトラカルボン
酸二無水物、４，８−ジメチル−１，２゜３．５，６．
７−ヘキサヒトロナフタレンー１．２，５．６−テトラ
カルボン酸二無水物、４，８−ジメチル−１，２，３，
５，６゜７−ヘキサヒトロナフタレンー２．３，６．７
−テトラカルボン酸二無水物、２．６−シクロロナフタ
レンー１　、４．５゜８−テトラカルボン酸二無水物、
２，７−シクロロナフタレンー］、　、　４　、５　、
８−テトラカルボン酸二無水物、２．３゜６．７−チト
ラクロロナフタレンー１．４，５．８−テトラカルボン
酸二無水物、１，４，５．８−テトラクロロナフタレン
−２，３，６，７−テトラカルボン酸二無水１勿、３．
３′。

４．４′−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、２゜
２’　、３．３’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水
物、２．３．３’　、４′−ジフェニルテトラカルボン
酸二無水物、３．３”、４．４″〜ｐ−テルフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、２．２′’　、３．３”−Ｐ
−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３．３
″、４″−ｐ−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物
、２．２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）−ブ
ロバンニ無水物、２．２−ビス（３゜４−ジカルボキシ
フェニル）−プロパンニ無水物、ビス（２，３−ジカル
ボキシフェニル）エーテルニ無水物、ビス（３，４−ジ
カルボキシフェニル）エーテルニ無水物、ビス（２，３
−ジカルボキシフェニル）メタンニ無水物、ビス（３，
４−ジカルボキシフェニル）メタンニ無水物、ビス（２
，３〜ジカルボキシフエニル）スルホンニ無水物、ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホンニ無水物、
１．１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン
ニ無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニ
ル）エタンニ無水物、ペリレン−２，３，８゜９−テト
ラカルボン酸二無水物、ペリレン−３，４，９゜ｌＯ−
テトラカルボン酸二無水物、ペリレン−４，５，１０゜
１１−テトラカルボン酸二無水物、ペリレン−５，６，
１１゜１２−テトラカルボン酸二無水物、フェナンスレ
ン−１，２，７，８−テトラカルボン酸二無水物、フェ
ナンスレン−１，２，６，７−テトラカルボン酸二無水
物、フェナンスレン−１，，２，９，１０−テトラカル
ボン酸二無水物、シクロペンタン−１，２，３，４−テ
トラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−
テトラカルボン酸二無水物、ピロリジン−２，３，４，
５−テトラカルボン酸二無水物、チオフェン−２、３、
４、５−テトラカルボン酸二無水物なとがあげられるが
、これらに限定されるものではない。また、使用にあた
っては、１種類でも２種類以上の混合物でもかまわない
。

本発明において用いる芳香族ジアミン及び／又はその誘
導体とは下記式（ＩＩＩ　）で示されるもので、（ＣＯ
ＯＨ）工 Ｈ２Ｎ　　Ｒｅ　−ＮＨ２”・”・（ＩＩＩ　）（Ｒ８
；芳香族環状基、ｍ＝ｏ〜２） ｍ＝０のジアミンやｍ＝１のジアミノカルボン酸、ｍ＝
２のジアミノジカルボン酸などが用いられ、アミン成分
は１種類でも、２種類以上の混合物でもかまねない。用
いられるアミンの種類としては例えばｍ−フェニレン−
ジアミン、１−イソプロビルー２．４−フェニレン−ジ
アミン、ｐ−フェニレン−ジアミン、４，４′−ジアミ
ノ−ジフェニルプロパン、３．３’−ジアミノ−ジフェ
ニルプロパン、４，４′−ジアミノジフェニルエタン、
３，３′−ジアミノ−ジフェニルエタン、４．４′−ジ
アミノ−ジフェニルメタン、３．３′−ジアミノ−ジフ
ェニルメタン、４．４−ジアミノ−ジフェニルスルフィ
ド、３．３′−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、４．
４′−ジアミノ−ジフェニルスルホン、３．３′−ジア
ミノ−ジフェニルスルホン、４．４′−ジアミノ−ジフ
ェニルエーテル、３．３′−ジアミノーシフユニルエー
テル、ベンジジン、３．３′〜ジアミノ−ビフェニル、
３．３′−ジメチル−４，４′−ジアミノ−ビフェニル
、３，３′−ジメトキシ−ベンジジン、４．４″−ジア
ミノ−ｐ−テルフェニル、３．３”−ジアミノ−ｐ−テ
ルフェニル、ビス（ｐ〜ルアミノシクロヘキシル）メタ
ン、ビス（ｐ−β−アミノ−ｔ−ブチルフェニル）エー
テル、ビス（ｐ−β−メチル−δ−アミノペンチル）ベ
ンゼン、ｐ−ビス（２−メチル−４−アミノ−ペンチル
）ベンゼン、ｐ−ビス（１，１−ジメチル−５−アミ、
ノーペンチル）ベンゼン、１．５−ジアミノ−ナフタレ
ン、２，６−ジアミ、ノーナフタレン、２，４−ビス（
β−アミノ−ｔ−ブチル）トルエン、２．４−ジアミノ
−トルエン、ｍ−キシレン−２，５−ジアミン、ｐ−キ
シレン−２，５−ジアミン、■−キシリレンージアミン
、ｐ−キシリレン−シアミン、２．６−ジアミツービリ
ジン、２．５−ジアミノ−ピリジン、２，５−ジアミノ
−１，３，４−オキサジアゾール、１．４−ジアミノ−
シクロヘキサン、ピペラジン、メチレン−ジアミン、エ
チレン−ジアミン、プロピレン−ジアミン、２．２−ジ
メチル−プロピレン−ジアミン、テトラメチレン−ジア
ミン、ペンタメチレン−ジアミン、ヘキサメチレン−ジ
アミン、２，５−ジメチル−へキサメチレン−ジアミン
、３−メトキシ−へキサメチレン−ジアミン、ヘグタメ
チレンージアミン、２，５−ジメチル−へブタメチレン
−ジアミン、３−メチル−へブタメチレン−ジアミン、
４，４−ジメチル−へブタメチレン−ジアミン、オクタ
メチレン−ジアミン、ノナメチレン−ジアミン、５−メ
チル−ノナメチレン−ジアミン、２．５−ジメチル−ノ
ナメチレン−ジアミン、デカメチレン−ジアミン、１，
１０−ジアミノ−１，１０−ジメチル−デカン、２．１
１−ジアミノ−トチカン、１，１２−ジアミノ−オクタ
デカン、２，１２−ジアミノ−オクタデカン、２．１７
−ジアミノシロキサン、ジアミノシロキサン、２，６−
ジアミツー４−カルボキシリックベンゼン、３，３′−
ジアミノ−４，４′−ジカルボキシリックベンジジンな
どがあげられるが、これらに限定されるものではない。

本発明で用いる化学線により重合可能な炭素−炭素二重
結合を含むアミド化合物としては、例えばＮ−メチルア
クリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、ペーメチル
メタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアクリルアミ１”、Ｎ、Ｎ−ジエチルアク
リルアミド、Ｎ、Ｎ−ジブチルアクリルアミド、Ｎ−ア
クリロイルピペリジン、Ｎ−アクリロイルモルホリン、
Ｎ、Ｎ′−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ’−ジエ
チルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチル
メタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタ
クリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドンなどがあげられる
が、これらに限定されるものではない。また使用にあた
っては１種類でも、２種類以上の混合物でもかまわない
。

本発明になるポリアミック酸は、式（ＩＩ　）の酸無水
物と、式（ＨＩ　）のジアミンを、化学線により重合可
能な炭素−炭素二重結合を含むアミド化合物中で製造す
ることを特徴とするものである。従来から反応系溶媒と
して該アミド化合物を用いるということは全く行われて
いなかった。従来の反応系溶媒は、その官能基が酸無水
物類及びジアミン類と反応しないダイポールモーメント
を有する有機極性溶媒であった。

系に対し不活性であり、かつ生成物に対して溶媒である
こと以外に、この有機極性溶媒は反応成分の少なくとも
一方、好ましくは両者に対して溶媒でなければならなか
った。

この種の溶媒として代表的なものは、Ｎ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ
−ジエチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルアセトアミ
ド、Ｎ、Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルフォスホアミド、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン、ピリジン、ジメチルスルホン、テ
トラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホ
ン、メチルホルムアミド、ドアセチル−２−ピロリドン
、ジエチレングリコール千ツメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル等があり、これらの溶媒
は単独又は組合せて使用される。この他にも溶媒として
組合せて用いられるものとして、ベンゼン、ベンゾニト
リル、ジオキサン、ブチロラクトン、メチルセロソルブ
、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、キシレン、ト
ルエン、シクロヘキサン等の非溶媒が、原料の分散媒、
反応調節剤、あるいは生成物からの溶媒の揮散調節剤、
皮膜平滑剤などとして併用されていた。従来の反応系溶
媒は、光に対して感応性を有していなかった。そのため
、従来の感光性樹脂の製造にあたっては、光に対する感
光性成分を特に添加していた。しかし、多蓋の反応系溶
媒に希釈されてしまうため、感光基濃度の向上には限界
があった。

本発明による該アミド化合物は、アミド結合を含むため
、ポリアミック酸に対する溶解性に優れる。さらに該ア
ミド組成物を溶媒とする方法によれば、溶媒自身が１圓
％感光性であるため、感光基濃度は茗しく高く、よって
光感度も若しく高くすることができるようになった。ま
た、本発明による感光性樹脂の製造方法はそれぞれの成
分を添加混合するだけである六め、蕃しく簡単て、品質
のバラツキも著しく少ないものとなった。

本発明で用いるアミノアクリレート化合物は、光反応を
促進させるために添加するもので、その例としては、Ｎ
、Ｎ−ジメチルアミンエチルメタクリレート、Ｎ、Ｎ−
ジメチルアミノエチルアクリレート−Ｎ、Ｎ−ジエチル
アミノエチルメタクリレート、Ｎ　、　Ｎ−ジェルアミ
ノエチルアクリレートが挙げられる。

また使用にあたっては、１種類でも２種類以上の混合物
でもかまわない。さらにより光反応を促進させるため、
アミン基を有しないアクリレート（メタアクリレート）
化合物を併用することもできる。

本発明で用いる増感剤は、３３０〜５００ｎｍに吸収極
大波長（λｍａｘ　）を持つ化合物である。λｍａｘが
３３０ｎｍ以下であると、ポリアミック酸そのものに光
が吸収されてしまい光反応ができないので好ましくない
。また、５００ｎｍ以上であると可視光で光反応してし
まい作業場所をシールドルームにするなどのことが必要
となり、その取扱い性が低下するので好ましくない。本
発明の増感剤は例えば○ などが挙げられるが、これに限定されるものではない。

また、使用にあたっては１種類でも２種類以上の混合物
でも構わない。

本発明による感光性樹脂組成物には、接着助剤やレベリ
ング剤その他各種充填剤を汗加してもよい。

本発明による感光性樹脂組成物の使用方法は、ます、該
組成物を適当な支持体、例えばシリコンウェハーやセラ
ミック、アルミ基板などに塗布する。塗布方法は、スピ
ンナーを用いた回転塗布、スプレーコーターを用いた噴
霧塗布、浸漬、印刷、ロールコーティングなどで行なう
。次に、６０〜８０°Ｃの低温でプリベークして塗膜を
乾燥後、所望のパターン形状に化学線を照射する。化学
線としては、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光線などが使
用できるが、２００〜５００ｎｍの波長のものが好まし
い。

次に、未照射部を現像液で溶解除去することによりレリ
ーフパターンを得る。現像液としては、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミドなどや、メタノール、イソプロ
ピルアルコール、水などを単独または混合して使用する
。現像方法としては、スプレー、パドル、浸漬、超音波
などの方式が可能である。

次に、現像によって形成したレリーフパターンをリンス
する。リンス液としては、メタノール、エタノール、イ
ソプロピルアルコール、酢酸ブチルなとを使用する。次
に加熱処理を行ない、イミド環を形成し、耐熱性に富む
最終パターンを得る。

本発明による感光性樹脂組成物は、半導体用途のみなら
ず、多層回路の層間絶縁膜やフレキシブル鋼張板のカバ
ーコート、ソルダーレジスト膜や液晶配向膜などとして
も有用である。

以下実施例により本発明を具体的に説明する。

実施例１ ３．３’　、４．４′−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水＠　２９０ｇ　（０，９ｍｏ！−）と、４，４
′−ジアミノジフェニルエーテル２００ｇ　（１，Ｏｍ
ｏｌ）をＮ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド２５１０ｇに
投入し、２０℃で６時間反応させた。

得られたポリアミック酸溶液６１２重量部（固形分で１
００重量部）に、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミンエチルメタク
リレート２０重置部とミヒラーケトン（λＩＩＩａｘ　
３６５ｎｍ）　５重量部を添加し室温で溶解した。得ら
れた組成物をシリコンウェハー上にスピンナーで塗布し
、乾燥機により６０°Ｃで１時間乾燥し、約ｌＯμｍの
フィルムを得た。

このフィルムにコダック社製フォトグラフィックステッ
プタブレットＮｏ２．２１ステツプ（本グレースケール
では、段数が一段増加するごとに透過光量が前段の１／
ｆ２に減少するので現像後の残存段階が大きいものほど
感度が良い）を重ね、１０１００Ｏ／ａｍ２の紫外線を
照射し、次いでＮ−メチル−２−ピロリドン６０重量部
と、メタノール４０重量部からなる現像液を用いて現像
、さらにイソプロピルアルコールでリンスをしたところ
１８段までパターンが残存し、高感度であることが判っ
た。又、クラックの発生もなく、かつ膜厚の減少もほと
んど認められなかった。

次に、別途アルミ板上に塗布し全面露光し、現像、リン
スの各工程を行い、さらに１５０．２５０．３５０°Ｃ
で各々３０分間加熱硬化した後、アルミ板をエツチング
で除去し、フィルムを得た。

得られたフィルムの引張ｇｆｆ１度（ＪＩＳ　Ｋ−６７
６０）は１６Ｋｇ／ｍｍ２と大きく（大きい方が良い）
、熱分解開始温度（ＴＧＡ）は４００°Ｃと高かった（
高い方が良い）。

さらにこのポリイミドフィルムを、１２５°Ｃ１５時間
イオン性不純物を熱水抽出し、イオン性不純物量を測定
した。Ｎａイオンは、０．ｌｐｐｍ、　ＣＩイオンは、
０．３ｐｐｍであり高純度であることがわかった。

得られた感光性樹脂組成物は高感度であり、かつ現像時
にクラックの発生や膜減りも生ぜず、さらに硬化したポ
リイミドフィルムの引張り強度、耐熱性に優れ、イオン
性不純物も極めて少ないという非常に優れた効果が同時
に得られた。

比較例１ 実施例１で用いたミヒラーケトンの代りに３．３−ジメ
チル−４−メトキシベンゾフェノンを使用したが、この
増感剤のλｍａｘが２９６ｎｍであるために、効率よく
光開始反応ができず、現像時に全てパターンが流れてし
まい、実用性のないことが判明した。

比較例２ 実施例１で用いたミヒラーケトンの代りにテトラフェニ
ルポルフィリン亜鉛錯体を使用したが、この増感剤の＾
ｍａｘが６５０ｎｍであるために、作業中に光反応して
しまい、現像によりパターンを得ることができなかった
。

比較例３ 実施例１で用いたＮ、Ｎ−ジメチルアクリルアミドの代
りにＮ−メチル−２−ピロリドンを使用し、他は全て同
様に配合し、同様に評価したが、ステップタブレット段
数は８段しかなく低感度であり、またクラックの発生が
認められ、実用性のないことがわかった。

比較例４ 実施例１で用いたＮ、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタク
リレートの代りにテトラエチレングリコールジメタクリ
レートを使用し、他は全て同様に配合し、同様に評価し
たが、ステップタブレット段数は９段しかなく低感度で
あり、またクラックの発生が認められ、実用性の低いこ
とがわかった。

比較例５ ３．３′、４．４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物２９０ｇと、２−ヒ１−ロキシエチルメタクリ
レート２４４ｇをγ−ブチロラクトンに溶解後、触媒と
してピリジンを１５０ｇ添加し、２０°Ｃて２４時間反
応させ、エステル化物を得た。次にアミド化触媒として
ジシクロへキシルカルボジイミド３７０ｇを添加後、４
，４′−ジアミノジフェニルエーテル２００ｇを添加し
、２０°Ｃで８時間反応させた。次に、このスラリー状
物を濾別し、濾液を３５０リツト）しのエタノールに激
しく撹拌しながら滴下して重合物を析出させた後、１２
時間静置した。沈澱物を濾別し、乾煙し、粉砕した。得
られたポリマーの分子量は６５００で予想よりかなり小
さなものであった。そこで再度同様の方法でポリマーを
合成したが、この場合も分子量は１．１．　ＯＯＯにと
どまった。この方法は、工程が長時間で煩雑であるだけ
でなく、バラツキの大きなものであることがわかった。

次に、このポリマーをＮ−メチル−２−ピロリドンに溶
解し、実施例１と同様の増感剤を添加し、感光性樹脂組
成物を得た後、同様に評価したが、ステヅブタブレット
は４段しかなく、低感度であった。次に実施例と同様に
して、フィルムを得た。

得られたフィルムの引張り強度は１ｋｇ／＋＋＋［［＋
２と極めて小さく、熱分解開始温度も３５０°Ｃと小さ
かった。

さらにイオン性不純物量は、ｊ＼・ａイオンが、３．５
ｐｐｍ、Ｃ１イオンが、６　、８ｐｐｍも含まれ、実用
性の低いことがわかった。

能な炭素−炭素二重結合を含むアミド化合物を溶媒とし
て用いるという特殊な方法により製造されたもので、溶
媒自身が１００％感光性であるために、感光基濃度が著
しく高く、よって露光感度を従来タイプの感光性樹脂組
成物に比べ１０倍以上に向上させることができるように
なった。

特許出願人　　住友ベークライト株式会社［発明の効果
］ 本発明による感光性樹脂組成物は、ポリアミック酸に優
れた溶解能を持つ、化学線により重合可手続補正書崎式
） ％式％ ］　事件の表示 平成２年特許願第１２１１７６号 ２、発明の名称 感光性樹脂組成物 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住　所　東京都千代田区内幸町１丁目２番２号４、補正
命令の日付 以上

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）芳香族トリ及び／又はテトラカルボン酸無水物及
   び／又はその誘導体と、芳香族ジアミン及び／又はその
   誘導体とを、化学線により重合可能な炭素−炭素二重結
   合を含むアミド化合物中で反応させ、該アミド化合物を
   溶媒としたポリアミック酸溶液に、下記式〔 I 〕で示
   されるアミノアクリレート化合物 ▲数式、化学式、表等があります▼……〔 I 〕 （式中、Ｘは−Ｈ又は−ＣＨ＿３基、 Ｙは−ＣＨ＿３又は−ＣＨ＿２ＣＨ＿３基）と、吸収極
   大波長（λｍａｘ）が３３０〜５００ｎｍである増感剤
   を配してなることを特徴とする感光性樹脂組成物。