JP3132736B2 - 感光性樹脂の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高感度の感光性樹脂の
製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体素子の表面保護膜、層間絶
縁膜等には、耐熱性が優れ、また卓越した電気絶縁性、
機械強度等を有するポリイミドが用いられているが、ポ
リイミドパターンを作成する繁雑な工程を簡略化する為
にポリイミド自身に感光性を付与する技術が最近注目を
集めている。例えば、下記式

【０００３】

【化２】

【０００４】で示されるような構造のエステル基で感光
性基を付与したポリイミド前駆体組成物（例えば特公昭
５５−４１４２２号公報）等が知られている。これら
は、いずれも適当な有機溶剤に溶解し、ワニス状態で塗
布、乾燥した後、フォトマスクを介して紫外線照射し、
現像、リンス処理して所望のパターンを得、更に加熱処
理することによりポリイミド皮膜としている。感光性を
付与したポリイミドを使用するとパターン作成工程の簡
素化効果があるだけでなく、毒性の強いエッチング液を
使用しなくてすむので安全でかつ公害の点でも優れてお
り、ポリイミドの感光性化は、今後一層重要な技術とな
ることが期待されている。

【０００５】エステル基を導入する方法としては、まず
酸二無水物と感光性基を含有するアルコール化合物を反
応させ、更に酸クロライドにしてジアミンと共重合する
方法（特公昭５５−４１４２２号公報）が報告されてい
る。またカルボジイミド類を縮合剤とする方法（特開昭
６０−２２８５３７号公報）も知られている。このカル
ボジイミド類を用いて合成した樹脂は、含塩素量が数ｐ
ｐｍ以下と少ないという利点を有するが、以下のような
問題点を残している。

【０００６】一般にカルボジイミド類はアミノ酸からペ
プチドを合成する際に用いられる縮合剤である。カルボ
ン酸に対する反応性が良く、また副生成物のウレアにつ
いても濾過で簡単に取り除けるという利点がある。しか
し、強力な脱水作用があるがゆえにカルボジイミドの蒸
気あるいは液体が皮膚に付着すると激しい炎症を起す。
また常温では塊状であるため使用に際し細かく砕くかあ
るいは溶解して使用しなければならず非常に危険であ
る。また別の問題としては、カルボジイミド類を用いて
合成した樹脂は分子量が小さいため、感光性樹脂に用い
た場合、感度が上らないという欠点がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はイオン
性不純物を含まない高感度な感光性樹脂を極めて安全な
方法で製造する方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】テトラカルボン酸二無水
物と式（１）で示されるアクリル基又はメタクリルを有
するアルコール化合物からなるジエステル−ビス−カル
ボン酸とジアミンとの縮合剤としてカルボニルジイミダ
ゾール類を用いる感光性樹脂の製造方法である。

【０００９】

【化３】

【００１０】

【作用】本発明におけるカルボニルジイミダゾール類は
ペプチド合成に用いられる脱水縮合剤である。その反応
はホスゲンあるいは塩化チオニルと同じように行うこと
できる。ホスゲンあるいは塩化チオニルはカルボン酸と
反応し、酸クロライドを形成するが、本発明のカルボニ
ルジイミダゾール類もカルボン酸と同様に反応し、カル
ボン酸イミダゾール化合物中間体を作る。次にアミノ基
あるいは水酸基と反応し、それぞれアミド結合あるいは
エステル結合を形成する。このカルボニルジイミダゾー
ル類とカルボン酸からなる中間体のカルボン酸イミダゾ
ール化合物は、酸クロライドより反応性はやや劣るが、
カルボジイミド類と比べると非常に優れている。その取
り扱いは、カルボジイミド類と比べると非常に安全で、
また副生成物であるイミダゾール類はホスゲンや塩化チ
オニルから発生する塩酸などと違って毒性が低いという
利点がある。

【００１１】本発明は従来、ペプチド合成用の試薬であ
るカルボニルジイミダゾール類を、テトラカルボン酸二
無水物と式（１）で示されるアクリル基又はメタクリル
基を有するアルコール化合物からなるジエステル−ビス
−カルボン酸と、ジアミンとからなる感光性樹脂を得る
際に用いるのであるが、カルボジイミド類を用いて合成
する方法（特開昭６０−２２８５３７号公報）より非常
に高分子量な樹脂を得られるという特徴を有する。その
結果、本発明の感光性樹脂は高感度になる。その理由は
次のように考えられる。即ちカルボジイミド類を用いた
場合、まずカルボン酸と反応してＯ−アシルイソ尿素が
生成し、更にもう１分子のカルボン酸と反応して対称無
水物となり、この無水物がアミンと反応してアミド結合
を形成する。しかしこの反応において、反応系中に塩基
性の強いアミンが存在すると、副反応としてＯ−アシル
イソ尿素が転位して反応性のないアシル尿素が副生す
る。従ってこの場合、後で加えたアミン自身が副反応の
原因となり、アシル尿素ができ、末端反応は停止してし
まい、高分子量化は非常に困難となる。しかしながら、
本発明のカルボニルジイミダゾール類を用いて反応した
場合、カルボジイミド類のような副反応はなく、その結
果高分子量の樹脂が得られる。

【００１２】本発明において用いることができるカルボ
ニルジイミダゾール類としては

【００１３】

【化４】

【００１４】等が上げられるが、これらに限定されるも
のではない。

【００１５】次に本発明の具体的な製造方法について述
べる。テトラカルボン酸二無水物と式（１）で示される
アクリル基又はメタクリル基を有するアルコール化合物
を非プロトン性極性溶媒に懸濁する。その後ピリジンを
加え、室温で１０時間反応させる。次に非プロトン性極
性溶媒に溶解したカルボニルジイミダゾールを約３０分
かけて滴下した後、ジアミンを加え室温で５時間反応を
行う。反応混合物を水やメタノールあるいはエタノール
等の貧溶媒に滴下し、生成物を析出させ、濾別し乾燥し
て、感光性樹脂を得る。

【００１６】本発明において用いられるテトラカルボン
酸二無水物は、芳香族テトラカルボン酸二無水物又はそ
の誘導体が主に使用される。例えば、ピロメリット酸二
無水物、ベンゼン−１，２，３，４−テトラカルボン酸
二無水物、３，3'，４，4'−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物、２，2'，３，3'−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物、２，３，3'，4'−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−２，３，
６，７−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−１，
２，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−
１，２，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレ
ン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物、ナフ
タレン−１，２，６，７−テトラカルボン酸二無水物、
４，８−ジメチル−１，２，３，５，６，７−ヘキサヒ
ドロナフタレン−１，２，５，６−テトラカルボン酸二
無水物、４，８−ジメチル−１，２，３，５，６，７−
ヘキサヒドロナフタレン−２，３，６，７−テトラカル
ボン酸二無水物、２，６−ジクロロナフタレン−１，
４，５，８−テトラカルボン酸二無水物、２，７−ジク
ロロナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二
無水物、２，３，６，７−テトラクロロナフタレン−
１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物、１，４，
５，８−テトラクロロナフタレン−２，３，６，７−テ
トラカルボン酸二無水物、３，3'，４，4'−ジフェニル
テトラカルボン酸二無水物、２，2'，３，3'−ジフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、２，３，3'，4'−ジフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物、３，3"，４，4"−ｐ−
テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，2"，３，
3"−ｐ−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，
３，3"，4"−ｐ−テルフェニルテトラカルボン酸二無水
物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）−
プロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキ
シフェニル）−プロパン二無水物、ビス（２，３−ジカ
ルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（３，４−
ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（２，
３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビ
ス（２，３−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水
物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二
無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニ
ル）エタン二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボ
キシフェニル）エタン二無水物、ペリレン−２，３，
８，９−テトラカルボン酸二無水物、ペリレン−３，
４，９，10−テトラカルボン酸二無水物、ペリレン−
４，５，10，11，テトラカルボン酸二無水物、ペリレン
−５，６，11，12−テトラカルボン酸二無水物、フェナ
ンスレン−１，２，７，８−テトラカルボン酸二無水
物、フェナンスレン−１，２，６，７−テトラカルボン
酸二無水物、フェナンスレン−１，２，９，10−テトラ
カルボン酸二無水物、シクロペンタン−１，２，３，４
−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，
６−テトラカルボン酸二無水物、ピロリジン−２，３，
４，５−テトラカルボン酸二無水物、チオフェン−２，
３，４，５−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。また、使用にあ
たっては、１種類でも２種類以上の混合物でもかまわな
い。芳香族トリカルボン酸又はその誘導体、トリメリッ
ト酸無水物などを混合してもよい。

【００１７】本発明において用いられるジアミンは、芳
香族ジアミン及び／又はその誘導体が使用される。例え
ばｍ−フェニレン−ジアミン、１−イソプロピル−２，
４−フェニレン−ジアミン、ｐ−フェニレン−ジアミ
ン、４，4'−ジアミノ−ジフェニルプロパン、３，3'−
ジアミノ−ジフェニルプロパン、４，4'−ジアミノ−ジ
フェニルエタン、３，3'−ジアミノ−ジフェニルエタ
ン、４，4'−ジアミノ−ジフェニルメタン、３，3'−ジ
アミノ−ジフェニルメタン、４，4'−ジアミノ−ジフェ
ニルスルフィド、３，3'−ジアミノ−ジフェニルスルフ
ィド、４，4'−ジアミノ−ジフェニルスルホン、３，3'
−ジアミノ−ジフェニルスルホン、４，4'−ジアミノ−
ジフェニルエーテル、３，3'−ジアミノ−ジフェニルエ
ーテル、ベンジジン、３，3'−ジアミノ−ビフェニル、
３，3'−ジメチル−４，4'−ジアミノ−ビフェニル、
３，3'−ジメトキシ−ベンジジン、４，4"−ジアミノ−
ｐ−テルフェニル、３，3"−ジアミノ−ｐ−テルフェニ
ル、ビス（ｐ−アミノ−シクロヘキシル）メタン、ビス
（ｐ−β−アミノ−ｔ−ベチルフェニル）エーテル、ビ
ス（ｐ−β−メチル−δ−アミノペンチル）ベンゼン、
ｐ−ビス（２−メチル−４−アミノ−ペンチル）ベンゼ
ン、ｐ−ビス（１，１−ジメチル−５−アミノ−ペンチ
ル）ベンゼン、１，５−ジアミノ−ナフタレン、２，６
−ジアミノナフタレン、２，４−ビス（β−アミノ−ｔ
−ブチル）トルエン、２，４−ジアミノ−トルエン、ｍ
−キシレン−２，５−ジアミン、ｐ−キシレン−２，５
−ジアミン、ｍ−キシリレン−ジアミン、ｐ−キシリレ
ン−ジアミン、２，６−ジアミノ−ピリジン、２，５−
ジアミノ−ピリジン、２，５−ジアミノ−１，３，４−
オキサジアゾール、１，４−ジアミノ−シクロヘキサ
ン、ピペラジン、メチレン−ジアミン、エチレン−ジア
ミン、プロピレン−ジアミン、２，２−ジメチル−プロ
ピレン−ジアミン、テトラメチレン−ジアミン、ペンタ
メチレン−ジアミン、ヘキサメチレン−ジアミン、２，
５−ジメチル−ヘキサメチレン−ジアミン、３−メトキ
シ−ヘキサメチレン−ジアミン、ヘプタメチレン−ジア
ミン、２，５−ジメチル−ヘプタメチレン−ジアミン、
３−メチル−ヘプタメチレン−ジアミン、４，４−ジメ
チル−ヘプタメチレン−ジアミン、オクタメチレン−ジ
アミン、ノナメチレン−ジアミン、５−メチル−ノナメ
チレン−ジアミン、２，５−ジメチル−ノナメチレン−
ジアミン、デカメチレン−ジアミン、１，10−ジアミノ
−１，10−ジメチル−デカン、２，11−ジアミノ−ドデ
カン、１，12−ジアミノ−オクタデカン、２，12−ジア
ミノ−オクタデカン、２，17−ジアミノ−アイコサン、
ジアミノシロキサン、２，６−ジアミノ−４−カルボキ
シリックベンゼン、３，3'−ジアミノ−４，4'−ジカル
ボキシリックベンジジン等が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。更に、式（２）で示されるジア
ミノシロキサンを用いることもできる。また使用にあた
っては、１種類でも２種類以上の混合物でもかまわな
い。

【００１８】

【化５】

【００１９】本発明において用いられるアクリル又はメ
タクリル基を有するアルコール化合物は、芳香族テトラ
カルボン酸又はその誘導体と反応し、アクリル又はメタ
クリル基を有したジカルボン酸化合物を作り、更にジア
ミンと縮合することによってポリアミドを形成する。こ
こで、このアルコール化合物は、エステル結合でポリア
ミド側鎖に結合し、更にこれらのアクリル又はメタクリ
ル基が光架橋反応することにより、ネガ型の感光性樹脂
の原料となる。アクリル又はメタクリル基を有するアル
コール化合物において、アクリル又はメタクリル基数
（式（１）中のｐ）は、１〜５が好ましい。Ｐが０では
アクリル又はメタクリルを含まないため光架橋反応が進
行しないので好ましくない。又Ｐが６以上では工業的に
製造することが難しいばかりでなく、分子量が大きくな
り、ポリアミド酸との相溶性が低下するので好ましくな
い。

【００２０】アクリル又はメタクリル基を有するアルコ
ール化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールト
リアクレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールアクリレートジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレートメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタメタクリレート、グリセロー
ルジアクリレート、グリセロールジメタクリレート、グ
リセロールアクリレートメタクリレート、トリメチロー
ルプロパンジアクリレート、１，３−ジアクリロイルエ
チル−５−ヒドロキシエチルイソシアヌレート、１，３
−ジメタクリレート−５−ヒドロキシエチルイソシアヌ
レート、エチレングリコール変性ペンタエリスリトール
トリアクリレート、プロピレングリコール変性ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパ
ンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリ
レート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレート、２−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、ポリエチレングリコール変性メタクリレート、ポリ
エチレングリコール変性アクリレート、ポリプロピレン
グリコール変性アクリレート、ポリプロピレングリコー
ル変性メタクリレート等が挙げられるが、これらに限定
されるものではない。これらの使用にあたっては１種類
でも２種類以上の混合物でもかまわない。

【００２１】本発明において、非プロトン性極性溶媒
は、アクリル又はメタクリル基を有するアルコール化合
物とカルボニルジイミダゾール、更にポリアミドを溶解
又は懸濁するために使用される。この非プロトン性極性
溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメルフォスホアミド、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、ピリジン、ジメチルスルホン、テトラメチレン
スルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン、メチルホ
ルムアミド、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、γ−ブチロラクトンを、単独又は
組合せて使用される。この他にも溶媒として組合せて用
いられるものとし、ベンゼン、ベンゾニトリル、ジオキ
サン、キシレン、トルエン、シクロヘキサン等の非極性
溶媒等も使用することができる。

【００２２】本発明の感光性樹脂の使用方法としては、
得られた樹脂を非プロトン性極性溶媒等に溶解させ、ワ
ニス化して用いる。溶解に使用する溶媒としては、非プ
ロトン性極性溶媒の他にも炭素−炭素二重結合を含むア
ミド化合物等も使用できる。この炭素−炭素二重結合を
含むアミド化合物としては、例えばＮ−メチルアクリル
アミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタク
リルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミ
ド、Ｎ−アクリロイルピペリジン、Ｎ−アクリロイルモ
ルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ
−ジエチルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
エチルメタクリルアミド等が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。

【００２３】更に本発明で得られる感光性樹脂は、使用
に際し、通常感度を向上する目的で光増感剤を添加する
ことが望ましい。本発明で用いる増感剤は、特に３３０
〜５００ｎｍに吸収極大波長（λｍａｘ）を持つ化合物
が好ましい。λｍａｘが３３０ｎｍ以下であると、ポリ
アミドそのものに光が吸収されてしまい光反応ができな
いので好ましくない。また、５００ｎｍ以上であると可
視光で光反応してしまい、作業場所をシールドルームに
するなどのことが必要となり、その取扱い性が低下する
ので好ましくない。

【００２４】本発明の増感剤は、例えば、

【００２５】

【化６】

【００２６】

【化７】

【００２７】

【化８】

【００２８】

【化９】

【００２９】等が挙げられるが、これに限定されるもの
ではない。また、使用にあたっては１種類でも２種類以
上の混合物でも構わない。

【００３０】本発明による感光性樹脂組成物には、この
他に感光助剤、開始剤、接着助剤、安定剤、禁止剤やレ
ベリング剤その他各種充填剤を添加してもよい。

【００３１】本発明により得られた感光性樹脂組成物の
使用方法は、まず、該組成物を適当な支持体、例えばシ
リコンウエハーやセラミック、アルミ基板などに塗布す
る。塗布方法は、スピンナーを用いた回転塗布、スプレ
ーコーターを用いた噴霧塗布、浸漬、印刷、ロールコー
ティング等で行なう。次に、６０〜８０℃の低温でプリ
ベークして塗膜を乾燥後、所望のパターン形状に化学線
を照射する。化学線としては、Ｘ線、電子線、紫外線、
可視光線等が使用できるが、２００〜５００ｎｍの波長
のものが好ましい。

【００３２】次に、未照射部を現像液で溶解除去するこ
とによりレリーフパターンを得る。現像液としては、Ｎ
−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラク
トン、ジメチルスルホキシド、ジアルキルグリコールエ
ーテル、テトラヒドロフラン等が使用でき、またそれら
にメタノール、イソプロピルアルコール、水、アルカリ
水溶液等を混合して使用してもよい。現像方法として
は、スプレー、パドル、浸漬、超音波等の方式が可能で
ある。

【００３３】次に、現像によって形成したレリーフパタ
ーンをリンスする。リンス液としては、キシレン、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸ブ
チル、水等を使用する。次に加熱処理を行ない、イミド
環を形成し、耐熱性に富む最終パターンを得る。

【００３４】

【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例１ ３，3'，４，4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物３２２．２ｇ（１．０モル）をグリセロールジメタ
クリレート４５６．５ｇ（２．０モル）をγ−ブチロラ
クトンに懸濁し、ピリジン１６６．１ｇ（２．１モル）
を加え、室温で１０時間反応させた。その後、γ−ブチ
ロラクトン４００ｇに溶解した１，1'−カルボニルジイ
ミダゾール３２４．４ｇ（２．０モル）を約３０分かけ
て滴下した。次に４，4'−ジアミノジフェニルエーテル
を２００．２ｇ（１．０モル）を加え、室温で５時間反
応を行った。反応混合物をエタノールに再沈し、固形物
を濾集し、エタノールで洗浄後、４８時間減圧乾燥し
た。分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフィー
にて測定したところ、数平均分子量２４０００、重量平
均分子量５８０００と高かった。更に、この得られたポ
リマー１００ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２００
ｇに溶解し、更にこれに重合禁止剤としてメチルエーテ
ルハイドロキノン０．１ｇと光増感剤としてミヒラーケ
トン（λｍａｘ ３６５ｎｍ）８ｇ、アクリルモノマー
としてトリメチロールプロパントリアクリレート１０ｇ
を添加し、室温で溶解した。得られた組成物をシリコン
ウエハー上にスピンナーで塗布し、乾燥機により７０℃
で１時間乾燥し、約１０μｍ厚のフィルムを得た。この
フィルムに凸版印刷製解像度測定用マスク（凸版テスト
チャートＮo.１）を重ね、４５０ｍＪ／ｃｍ² の紫外線
を照射し、次いでＮ−メチルピロリドン５０重量％、キ
シレン５０重量％の現像液で現像したところ、解像度２
１μｍのパターンが形成された。 実施例２ 実施例１のグリセロールジメタクレートをペンタエリス
リトールトリアクリレート５９６．６ｇ（２．０モル）
に変え、反応仕込比、反応条件を実施例１と全く同様に
行なったところ、数平均分子量１１０００、重量平均分
子量３２０００の分子量のポリマーを得た。このポリマ
ーに実施例１と同様に増感剤、開始剤、禁止剤、アクリ
ルモノマーを加え、パターニング評価したところ、４０
０ｍＪ／ｃｍ² の紫外線照射で、解像度２６μｍのパタ
ーンが形成された。 実施例３ 実施例１のグリセロールジメタクリレートを２−ヒドロ
キシエチルメタクレート２６０．２ｇ（２．０モル）に
変え、反応仕込比、反応条件を実施例１と全く同様に行
なったところ、数平均分子量２２０００、重量平均分子
量５７０００の分子量のポリマーを得た。このポリマー
に実施例１と同様に増感剤、開始剤、禁止剤、アクリル
モノマーを加え、パターニング評価したところ、７００
ｍＪ／ｃｍ² の紫外線照射で、解像度２４μｍのパター
ンが形成された。

【００３５】比較例１ ３，3'，４，4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物３２２．２ｇ（１．０モル）とグリセロールジメタ
クリレート４５６．５ｇ（２．０モル）をγ−ブチロラ
クトンに溶解し、ピリジン１６６．１ｇ（２．１モル）
を加え、室温で１０時間反応させた。その後、反応系を
１０℃以下に保ちながら、γ−ブチロラクトン４００ｇ
に溶解したジシクロカルボジイミド４１２．６ｇ（２．
０モル）を約２０分かけて滴下した。次に、４，4'−ジ
アミノジフェニルエーテルを２００．２ｇ（１．０モ
ル）加え、室温で５時間反応させ、以下実施例１と同様
の処理を行なったところ、得られたポリマーは数平均分
子量７０００、重量平均分子量１４０００と低いもので
あった。次に、このポリマーに実施例１と同様に増感
剤、開始剤、禁止剤、アクリルモノマーを加え、パター
ニング評価したところ、１２００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線
照射で、解像度１８μｍのパターンが形成された。 比較例２ 比較例１のグリセロールジメタクリレートをペンタエリ
スリトールトリアクリレート５９６．６ｇ（２．０モ
ル）に変え、比較例１と同様にジシクロカルボジイミド
と４，4'−ジアミノジフェニルエーテルを分割せずに添
加し、反応を行なった。ゲルパーミエーションクロマト
グラフィーで得られたポリマーを分析したところ、分子
量の分布に３峰性を示し、高分子量化がうまく進行しな
かった。このポリマーに実施例１と同様に増感剤、開始
剤、禁止剤、アクリルモノマーを加え、組成物を作成し
たところ、５日目にゲル化してしまい、実用性の低いこ
とがわかった。

【００３６】

【発明の効果】本発明によれば、従来の方法では得るこ
とのできなかった、アクリル又はメタクリル基をエステ
ル結合した高分子量ポリアミドを得ることがてきる。更
にこれから得られる感光性樹脂組成物は高感度という特
徴を有している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08G 73/10 - 73/12 G03F 7/038 501 G03F 7/038 504 G03F 7/075 511

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 テトラカルボン酸二無水物と式（１）で
   示されるアクリル基又はメタクリルを有するアルコール
   化合物からなるジエステル−ビス−カルボン酸とジアミ
   ンとの縮合剤としてカルボニルジイミダゾール類を用い
   ることを特徴とする感光性樹脂の製造方法。 【化１】