JPH0418246B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0418246B2
JPH0418246B2 JP60227189A JP22718985A JPH0418246B2 JP H0418246 B2 JPH0418246 B2 JP H0418246B2 JP 60227189 A JP60227189 A JP 60227189A JP 22718985 A JP22718985 A JP 22718985A JP H0418246 B2 JPH0418246 B2 JP H0418246B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
field light
shielding film
dark
reflected
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60227189A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6285809A (ja
Inventor
Kazunori Morinaga
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP22718985A priority Critical patent/JPS6285809A/ja
Publication of JPS6285809A publication Critical patent/JPS6285809A/ja
Publication of JPH0418246B2 publication Critical patent/JPH0418246B2/ja
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、表面に凹凸パターンを有する、組
み立て工程中の半導体集積回路素子等の対象物表
面を、撮影のために照明するパターン認識照明装
置に関する。
[従来の技術] 第3図は従来から使用されているパターン認識
用照明装置を示す縦断面図で、図において1は対
象物である半導体集積回路素子チツプ、2はこの
チツプ1の中心の垂線、3はこの垂線より15°傾
けて配設された光源用ランプ、4はチツプ1とラ
ンプ3間に配設された拡散透過板であるすりガラ
ス板、5は、このすりガラス板4を保持、固定し
ランプ3を囲むランプハウス、6は垂線2に対し
ランプ3と対称に15°傾けて配設されたカメラ装
置、7はチツプ1に当てられ反射しカメラ装置6
に向かう反射光、8は主にこの反射光7が通過す
る反射光域、9はチツプ1の表面で正反射された
光が反射光7の成分となる明視野光、10は主に
この明視野光9が通過する明視野光域、11はチ
ツプ1の表面で乱反射された光の一部が反射光7
の成分となる暗視野光、12は主にその暗視野光
11が通過する暗視野光域である。
次にその動作について説明する。ランプ3から
発せられた光はすりガラス板4に当たり拡散され
る。この拡散された光の一部はチツプ1の表面へ
明視野光9と暗視野光11として向かう。チツプ
1の表面は第4図で示すように微細な凹凸面を有
しているので、その平坦な部分に対しては明視野
光9の正反射された光が、傾斜のある部分に対し
ては暗視野光11の乱反射された光がカメラ装置
6に向かう。これら2種類の光によつてチツプ1
表面の明るさはカメラ装置6側から見た時均一に
なり、カメラ装置6には均一の明るさのチツプ1
の画像が得られる。
[発明が解決しようとする問題点] 従来の装置は以上の様に構成されているので、
明視野光域10中の光量と暗視野光域中の光量と
の割合、即ち明視野光・暗視野光成分比が一定で
あるため、表面の凹凸状態の異なるチツプ1に対
してはカメラ装置6に向かう反射光7の均一度が
異なつてくる。即ち所定の凹凸面をもつたチツプ
に対し、均一の明るさのチツプ画像が得られて
も、それと異なつた凹凸面をもつたチツプ表面か
らは均一な明るさの画像が得られず、例えばカメ
ラ装置6からの画像信号を2値化処理した場合、
チツプ画像の一部が欠ける等の問題点を有してい
た。
この発明は上記のような問題点を解消するため
になされたもので、表面の凹凸状態の異なるチツ
プ等の対象物の表面からも均一な明るさを得るこ
とができるパターン認識用照明装置を得ることを
目的とする。
[問題点を解決するための手段] この発明にかかるパターン認識用照明装置は、
すりガラス板等の拡散透過板上に明視野光成分と
暗視野光成分との比を調整するための暗視野光の
一部を遮光する円形リング状遮光膜を設けたもの
である。
[作用] この発明においては、拡散透過板上に設けたリ
ング状遮光膜により暗視野光の一部を遮光するな
どして対象物の表面状態が異なつても均一な反射
光が得られるよう調整される。
[実施例] 以下この発明の実施例を図について説明する。
第1図はこの発明の一実施例を示す縦断面図、第
2図はそれの拡散透過板部を示す下面図である。
図において2〜12は従来装置と同様のものであ
り、13は、拡散透過板であるすりガラス板4に
貼り付けたリング状遮光膜、14はこのリング状
遮光膜13の内側のすりガラス板4に貼りつけた
半遮光膜、15は、対象物である従来装置におい
て均一な反射光を得たチツプ1とは異なつた凹凸
状態の表面をもつ品種の異なるチツプである。
次にその動作を説明する。ランプ3から発せら
れた光はすりガラス板4に当たり拡散透過する。
この光がチツプ15に向かうが、その内リング状
遮光膜13の貼付された個所からチツプ15に向
かう光はなく、その分暗視野光11は減少する。
又、半遮光膜14によつて明視野光9が減少す
る。このことはリング状遮光膜13の外径又は半
遮光膜14の光透過度を変えることによつて明視
野光9と暗視野光11の成分比が変わることを示
している。従つてカメラ装置6でとらえた品種の
異なるチツプ15の画像を均一とし、カメラ装置
6でとらえた品種の異なるチツプ15の画像を均
一の明るさとすることができる。
なお上記実施例ではすりガラス板4にリング状
遮光膜とそれの内側に半遮光膜を貼り付けたもの
を示したが、被対象物の表面凹凸状態によつて
は、リング状遮光膜とそれの外側に半遮光膜を貼
り付けるようにしてもよい。
[発明の効果] 以上のように、この発明によれば拡散透過板上
に暗視野光一部を遮光する円形リング状遮光膜を
設けるようにしたため、対象物の表面状態に応じ
て明視野光と暗視野光との成分比を変えることに
より、品種の異なる対象物からも均一な明るさの
反射光を得ることが、単に遮光膜を貼付する等の
極めて簡単かつ安価な手段によつて可能となるパ
ターン認識用照明装置が得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す縦断面図、
第2図はそれの拡散透過板部を示す下面図、第3
図は従来のパターン認識用照明装置を示す縦断面
図、第4図は対象物である集積回路素子チツプの
表面凹凸状態を示す断面図である。 図において1は集積回路素子チツプ(対象物)、
3は光源用チツプ、4はすりガラス板(拡散透過
板)、6はカメラ装置、7は反射光、8は反射光
域、9は明視野光、10は明視野光域、11は暗
視野光、12は暗視野光域、13はリング状遮光
膜、14は半遮光膜、15はチツプ1とは異なる
品種のチツプ(対象物)である。図中同一符号は
同一或は相当部分を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 表面に凹凸パターンの有する対象物の表面に
    単一光源から拡散透過板を介して照射し、それか
    らの反射波をカメラ装置で撮影するようにしたパ
    ターン認識用照明装置において、上記拡散透過板
    上に、上記対象物の表面から反射され上記カメラ
    装置に向かう反射光中、正反射される明視野光成
    分と乱反射される暗視野光成分との比を調整する
    ための上記暗視野光の一部を遮光する円形リング
    状遮光膜を設けたことを特徴とするパターン認識
    用照明装置。 2 上記遮光膜の内側中央部に明視野光を減光さ
    せる半遮光膜を設けたことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載のパターン認識用照明装置。 3 上記遮光膜の外側に暗視野光の残部を減光さ
    せる半遮光膜を設けたことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載のパターン認識用照明装置。
JP22718985A 1985-10-11 1985-10-11 パタ−ン認識用照明装置 Granted JPS6285809A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22718985A JPS6285809A (ja) 1985-10-11 1985-10-11 パタ−ン認識用照明装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22718985A JPS6285809A (ja) 1985-10-11 1985-10-11 パタ−ン認識用照明装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6285809A JPS6285809A (ja) 1987-04-20
JPH0418246B2 true JPH0418246B2 (ja) 1992-03-27

Family

ID=16856883

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JP22718985A Granted JPS6285809A (ja) 1985-10-11 1985-10-11 パタ−ン認識用照明装置

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JP (1) JPS6285809A (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5735703A (en) * 1980-08-13 1982-02-26 Fujitsu Ltd Film surface inspecting method
JPS5767844A (en) * 1980-10-15 1982-04-24 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Surface inspecting device
JPS59200908A (ja) * 1983-04-28 1984-11-14 Hitachi Ltd ウエハの照明方法およびその装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59149006U (ja) * 1983-03-24 1984-10-05 株式会社東芝 検出装置

Patent Citations (3)

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JPS6285809A (ja) 1987-04-20

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