JPH0418084A - 光学活性２―メチルピペラジンの製造法 - Google Patents
光学活性２―メチルピペラジンの製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、光学活性２−メチルピペラジンの製造法に関
するものである。
するものである。
〈従来の技術〉
光学活性２−メチルピペラジンはキノロン系抗菌剤など
の医薬品の中間体として有用な化合物であるが、化学的
に合成された２−メチルピペラジンは、Ｒ３体であるの
で前記合成中間体とするには光学分割して光学活性なも
のにしなければならない。２−メチルピペラジンの光学
分割方法として、酒石酸を用いる方法（特開平１−１４
９７７５号公報）、市販されている包接化合物キラルホ
ストエースを用いる方法（Ｃｈｅｍ、Ｌｅｔｔ、ｐ５１
３−５１６ （１９８８））などが知られている。
の医薬品の中間体として有用な化合物であるが、化学的
に合成された２−メチルピペラジンは、Ｒ３体であるの
で前記合成中間体とするには光学分割して光学活性なも
のにしなければならない。２−メチルピペラジンの光学
分割方法として、酒石酸を用いる方法（特開平１−１４
９７７５号公報）、市販されている包接化合物キラルホ
ストエースを用いる方法（Ｃｈｅｍ、Ｌｅｔｔ、ｐ５１
３−５１６ （１９８８））などが知られている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかし、前記の酒石酸を用いる方法は、２−メチルピペ
ラジンの光学純度を６８％ｅｅ以上にあげることができ
ない。また、包接化合物を用いる方法は、包接化合物が
非常に高価であるので工業的に実用化可能ではない、そ
こで、本発明者らは光学活性２−メチルピペラジンの実
用的な製造法の確立を目的として鋭意検討をかさねた。
ラジンの光学純度を６８％ｅｅ以上にあげることができ
ない。また、包接化合物を用いる方法は、包接化合物が
非常に高価であるので工業的に実用化可能ではない、そ
こで、本発明者らは光学活性２−メチルピペラジンの実
用的な製造法の確立を目的として鋭意検討をかさねた。
〈課題を解決するための手段〉
その結果、上記目的は次の一般弐〇
（式中、Ｒはベンゾイル基またはｐ−トルエンスルホニ
ル基を表わす。） で示される光学活性Ｎ１ｆＪ１１！フエニルグリシンを
光学分割剤として、（Ｒ３）−２−メチルピペラジンを
光学分割することによって達成されることがわかった。
ル基を表わす。） で示される光学活性Ｎ１ｆＪ１１！フエニルグリシンを
光学分割剤として、（Ｒ３）−２−メチルピペラジンを
光学分割することによって達成されることがわかった。
すなわち、本発明は次の一般弐〇
（式中、Ｒはベンゾイル基またはｐ−トルエンスルホニ
ル基を表わす。） で示される光学活性Ｎ−置換フェニルグリシンを光学分
割剤として、（Ｒ３）−２−メチルピペラジンを光学分
割することを特徴とする光学活性２−メチルピペラジン
の製造法である。
ル基を表わす。） で示される光学活性Ｎ−置換フェニルグリシンを光学分
割剤として、（Ｒ３）−２−メチルピペラジンを光学分
割することを特徴とする光学活性２−メチルピペラジン
の製造法である。
以下、本発明の構成を詳しく説明する。
本発明で用いる分割剤は前記式〇で示される光学活性Ｎ
−置換フェニルグリシンであり、そのＤ体およびＬ体の
いずれも用いることができる。
−置換フェニルグリシンであり、そのＤ体およびＬ体の
いずれも用いることができる。
本発明において、原料として用いられる（Ｒ８）−２−
メチルピペラジンは、（Ｒ１−２−メチルピペラジンと
（Ｓ）−２−メチルピペラジンとを等置台むラセミ型混
合物のみならず、いずれか一方の光学異性体を等１以上
に含む混合物をも包含するものである。
メチルピペラジンは、（Ｒ１−２−メチルピペラジンと
（Ｓ）−２−メチルピペラジンとを等置台むラセミ型混
合物のみならず、いずれか一方の光学異性体を等１以上
に含む混合物をも包含するものである。
（、Ｒ３ｌ−２−メチルピペラジンの光学分割は次の手
順と条件で行う。
順と条件で行う。
まず、溶媒中で（Ｒ８）−２−メチルピペラジン１モル
に対して０．１〜２０モル、好ましくは０．３〜１．０
モル量のＮ−置換−Ｄ−フェニルグリシンもしくはＮ−
置換−Ｌ−フェニルグリシンを接触させる。また、この
時、塩酸、硫酸、りん酸などの鉱酸あるいは酢酸などの
有機酸を共存させてもよい、鉱酸・有機酸の使用量は分
割剤と合わせて（Ｒ３）−２−メチルピペラジン１モル
に対して０．１〜１５モル、好ましくは０．２〜１．１
モル、さらに好ましくは０．３〜１．０モル量である。
に対して０．１〜２０モル、好ましくは０．３〜１．０
モル量のＮ−置換−Ｄ−フェニルグリシンもしくはＮ−
置換−Ｌ−フェニルグリシンを接触させる。また、この
時、塩酸、硫酸、りん酸などの鉱酸あるいは酢酸などの
有機酸を共存させてもよい、鉱酸・有機酸の使用量は分
割剤と合わせて（Ｒ３）−２−メチルピペラジン１モル
に対して０．１〜１５モル、好ましくは０．２〜１．１
モル、さらに好ましくは０．３〜１．０モル量である。
ここで使用する溶媒としては、２−メチルピペラジンと
Ｎ−置換フェニルグリシンを溶解するとともに溶液中で
これらの化合物を化学的に変質せしめることなく、かつ
ジアステレオマー塩を析出せしめるものであればよい。
Ｎ−置換フェニルグリシンを溶解するとともに溶液中で
これらの化合物を化学的に変質せしめることなく、かつ
ジアステレオマー塩を析出せしめるものであればよい。
たとえば、水、メタノール、エタノール、プロパツール
、アセトン、アセトニトリルなどの溶媒またはこれらの
混合溶媒を用いることができる。好ましい溶媒は水、エ
タノールである。
、アセトン、アセトニトリルなどの溶媒またはこれらの
混合溶媒を用いることができる。好ましい溶媒は水、エ
タノールである。
（Ｒ３）−２−メチルピペラジンに前記分割剤を接触さ
せる方法としては、上記した溶媒中に（Ｒ３）−２−メ
チルピペラジンおよび分割剤を別個に溶解して混合して
もよいし、また溶媒中にそれらを順次溶解してもよい。
せる方法としては、上記した溶媒中に（Ｒ３）−２−メ
チルピペラジンおよび分割剤を別個に溶解して混合して
もよいし、また溶媒中にそれらを順次溶解してもよい。
さらにあらかじめ（Ｒ３）−２−メチルピペラジンと分
割剤とからつくった塩を該溶媒中に添加溶解してもよい
。
割剤とからつくった塩を該溶媒中に添加溶解してもよい
。
次に、接触によって得られた溶液を冷却および／あるい
は濃縮する。すると、難溶性のジアステレオマー塩が晶
析する。難溶性のジアステレオマー塩を分割溶媒から析
出させる際の温度は使用する溶媒の凝固点から沸点の範
囲であればよく目的に応じて適宜法められるか、通常０
℃から１００℃の範囲で十分である。
は濃縮する。すると、難溶性のジアステレオマー塩が晶
析する。難溶性のジアステレオマー塩を分割溶媒から析
出させる際の温度は使用する溶媒の凝固点から沸点の範
囲であればよく目的に応じて適宜法められるか、通常０
℃から１００℃の範囲で十分である。
難溶性のジアステレオマー塩の結晶は、ｉ濾過、遠心分
離などの通常の固液分離法によって容易に分離すること
かできる。
離などの通常の固液分離法によって容易に分離すること
かできる。
一方、難溶性のジアステレオマー塩を分離した残りの母
液をそのまま、または濃縮および、／あるいは冷却して
易溶性のジアステレオマー塩を析出せしめ、これを分離
することもできる。
液をそのまま、または濃縮および、／あるいは冷却して
易溶性のジアステレオマー塩を析出せしめ、これを分離
することもできる。
かくして得られる各ジアステレオマー塩を適当な方法で
分解することによって、分割剤と（Ｒ）−２−メチルピ
ペラジンまたは（Ｓ）−２−メチルピペラジンを分離・
採取することができる。
分解することによって、分割剤と（Ｒ）−２−メチルピ
ペラジンまたは（Ｓ）−２−メチルピペラジンを分離・
採取することができる。
ジアステレオマー塩の分解方法は任意であり、たとえば
水性溶媒中酸またはアルカリで処理する方法などが適用
できる。すなわち、たとえはジアステレオマー塩水溶液
に分解剤として水酸化ナトリウムを添加し、析出する分
割剤のナトリウム塩を除去し、ｉ戸液を！縮蒸留するこ
とによって、または硫酸あるいは塩酸酸性水溶液にジア
ステレオマー塩を逐次添加し、不溶物である分割剤をン
戸別したのち、あるいは分割剤をベンゼン、トルエン、
酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出したのち、ｉ戸液を水
酸化ナトリウムを加えてアルカリ性とし、ベンセンなど
で抽出するか、あるいはそのまま４ａ＄留することによ
って、容易に（Ｒ）−２−メチルピペラジンまたは（Ｓ
）−２−メチルピペラジンを得ることができる。またｉ
戸液をそのまま濃縮晶析すれば（Ｒ）−２−メチルピペ
ラジンまたは（Ｓ）−２−メチルピペラジンの硫酸塩、
塩酸塩が得られる。あるいは陽イオン交換樹脂、陰イオ
ン交換樹脂を用いて分割剤と分離し、漂縮基留あるいは
逆浸透膜などによっても光学活性２−メチルピペラジン
を得ることかできる。
水性溶媒中酸またはアルカリで処理する方法などが適用
できる。すなわち、たとえはジアステレオマー塩水溶液
に分解剤として水酸化ナトリウムを添加し、析出する分
割剤のナトリウム塩を除去し、ｉ戸液を！縮蒸留するこ
とによって、または硫酸あるいは塩酸酸性水溶液にジア
ステレオマー塩を逐次添加し、不溶物である分割剤をン
戸別したのち、あるいは分割剤をベンゼン、トルエン、
酢酸エチルなどの有機溶媒で抽出したのち、ｉ戸液を水
酸化ナトリウムを加えてアルカリ性とし、ベンセンなど
で抽出するか、あるいはそのまま４ａ＄留することによ
って、容易に（Ｒ）−２−メチルピペラジンまたは（Ｓ
）−２−メチルピペラジンを得ることができる。またｉ
戸液をそのまま濃縮晶析すれば（Ｒ）−２−メチルピペ
ラジンまたは（Ｓ）−２−メチルピペラジンの硫酸塩、
塩酸塩が得られる。あるいは陽イオン交換樹脂、陰イオ
ン交換樹脂を用いて分割剤と分離し、漂縮基留あるいは
逆浸透膜などによっても光学活性２−メチルピペラジン
を得ることかできる。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
（Ｒ３）−２−メチルピペラジン２０．ＯｆとＮ−ベン
ゾイル−Ｄ−フェニルグリシン１００゜３ｇとを水６０
０ ｍｌに９５℃で加熱溶解した。
ゾイル−Ｄ−フェニルグリシン１００゜３ｇとを水６０
０ ｍｌに９５℃で加熱溶解した。
ゆっくり撹拌しながら冷却し、７時間後２５℃で析出結
晶を？戸別、乾燥して４４．５ｇの（Ｓ）−２−メチル
ピペラジン・Ｎ−ベンゾイル−Ｄ−フェニルグリシン塩
を得た。（Ｓ）−２−メチルピペラジンに対して収率７
２％であった。
晶を？戸別、乾燥して４４．５ｇの（Ｓ）−２−メチル
ピペラジン・Ｎ−ベンゾイル−Ｄ−フェニルグリシン塩
を得た。（Ｓ）−２−メチルピペラジンに対して収率７
２％であった。
この結晶にＩＮ−硫酸１７０ ｍｌを加えて、Ｎ−ベン
ゾイル−Ｄ−フェニルグリシンを酢酸エチル１００ ｍ
ｌで２回抽出した。水層を濃縮して４０％水酸化ナトリ
ウム水溶液を添加してアルカリ性とし、ベンセン３０ｍ
１で２回抽出した。ベンゼン層を乾燥後常圧で濃縮して
ベンゼンを留去すると（Ｓ）−２−メチルピペラジン６
．３ｇか得られ、比旋光度は〔α〕甘せ＋７．２４（Ｃ
＝０．５４．メタノール）であった。光学純度は９０％
ｅｅ。
ゾイル−Ｄ−フェニルグリシンを酢酸エチル１００ ｍ
ｌで２回抽出した。水層を濃縮して４０％水酸化ナトリ
ウム水溶液を添加してアルカリ性とし、ベンセン３０ｍ
１で２回抽出した。ベンゼン層を乾燥後常圧で濃縮して
ベンゼンを留去すると（Ｓ）−２−メチルピペラジン６
．３ｇか得られ、比旋光度は〔α〕甘せ＋７．２４（Ｃ
＝０．５４．メタノール）であった。光学純度は９０％
ｅｅ。
実施例２
（Ｒ３）−２−メチルピペラジン４．Ｏｆと、Ｎ−ｐ−
トルエンスルホニル−Ｄ−フェニルグリシン２４．４ｇ
とを水３００ｍ１とエタノール２００ｍ１の混合溶媒に
８０ ’Ｃで加熱溶解しな。ゆっくり撹拌しなから冷却
し、１０時間後２３℃で析出結晶を？戸別、乾燥して、
１５゜２ｇの（Ｒ）−２〜メチルピペラジン・Ｎ−ｐ−
トルエンスルホニル−Ｄ−フェニルグリシン塩を得な。
トルエンスルホニル−Ｄ−フェニルグリシン２４．４ｇ
とを水３００ｍ１とエタノール２００ｍ１の混合溶媒に
８０ ’Ｃで加熱溶解しな。ゆっくり撹拌しなから冷却
し、１０時間後２３℃で析出結晶を？戸別、乾燥して、
１５゜２ｇの（Ｒ）−２〜メチルピペラジン・Ｎ−ｐ−
トルエンスルホニル−Ｄ−フェニルグリシン塩を得な。
（Ｒ３）−２−メチルピペラジンに対して収率５４％で
あった。この結晶を水２００ｍ１とエタノール１３０ｍ
１の混合溶媒で再結晶すると、１１．０ｇの（Ｒ）−２
−メチルピペラジン・Ｎ−ｐ−トルエンスルホニル−Ｄ
−フェニルグリシン塩を得た。実施例１と同様にしてジ
アステレオマー塩を分解して得られる（Ｒ）−２−メチ
ルピペラジンの比旋光度を測定すると〔α〕甘せ−７．
３０ （Ｃ＝０．５２、メタノール）であった。光学純
度９１％ｅｅ。
あった。この結晶を水２００ｍ１とエタノール１３０ｍ
１の混合溶媒で再結晶すると、１１．０ｇの（Ｒ）−２
−メチルピペラジン・Ｎ−ｐ−トルエンスルホニル−Ｄ
−フェニルグリシン塩を得た。実施例１と同様にしてジ
アステレオマー塩を分解して得られる（Ｒ）−２−メチ
ルピペラジンの比旋光度を測定すると〔α〕甘せ−７．
３０ （Ｃ＝０．５２、メタノール）であった。光学純
度９１％ｅｅ。
〈発明の効果〉
かくして、本発明によれば、＜Ｒ３＞−２−メチルピペ
ラジンをきわめて簡単な方法で安価に収率よく、高い光
学純度で光学分割することかできる。また、分割剤の光
学活性Ｎ−置換フェニルグリシンはジアステレオマー塩
を酸、アルカリで処理することにより、容易に回収でき
、さらに回収された光学活性Ｎ−置換フェニルグリシン
は再使用が可能である。
ラジンをきわめて簡単な方法で安価に収率よく、高い光
学純度で光学分割することかできる。また、分割剤の光
学活性Ｎ−置換フェニルグリシンはジアステレオマー塩
を酸、アルカリで処理することにより、容易に回収でき
、さらに回収された光学活性Ｎ−置換フェニルグリシン
は再使用が可能である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 次の一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼……（ I ） （式中、Ｒはベンゾイル基またはｐ−トルエンスルホニ
ル基を表わす。） で示される光学活性Ｎ−置換フェニルグリシンを光学分
割剤として（ＲＳ）−２−メチルピペラジンを光学分割
することを特徴とする光学活性２−メチルピペラジンの
製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11949590A JP2884703B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 光学活性２―メチルピペラジンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11949590A JP2884703B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 光学活性２―メチルピペラジンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0418084A true JPH0418084A (ja) | 1992-01-22 |
| JP2884703B2 JP2884703B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=14762682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11949590A Expired - Fee Related JP2884703B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 光学活性２―メチルピペラジンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2884703B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5792869A (en) * | 1994-11-04 | 1998-08-11 | Yamakawa Chemical Industry Co., Ltd | Process for preparing optically active piperazine derivatives and Intermediates for preparation |
| JP2004115510A (ja) * | 2002-09-05 | 2004-04-15 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | ピペラジン誘導体の製造方法 |
-
1990
- 1990-05-08 JP JP11949590A patent/JP2884703B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5792869A (en) * | 1994-11-04 | 1998-08-11 | Yamakawa Chemical Industry Co., Ltd | Process for preparing optically active piperazine derivatives and Intermediates for preparation |
| JP2004115510A (ja) * | 2002-09-05 | 2004-04-15 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | ピペラジン誘導体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2884703B2 (ja) | 1999-04-19 |
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