JPH04179157A - 半導体装置の基板電圧発生回路 - Google Patents
半導体装置の基板電圧発生回路Info
- Publication number
- JPH04179157A JPH04179157A JP2306381A JP30638190A JPH04179157A JP H04179157 A JPH04179157 A JP H04179157A JP 2306381 A JP2306381 A JP 2306381A JP 30638190 A JP30638190 A JP 30638190A JP H04179157 A JPH04179157 A JP H04179157A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oscillation
- voltage
- section
- substrate voltage
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 21
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 79
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 15
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 14
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- ZICZZIRIRHGROF-UHFFFAOYSA-N 1-$l^{1}-oxidanyl-2,2,4,5,5-pentamethylimidazole Chemical compound CC1=NC(C)(C)N([O])C1(C)C ZICZZIRIRHGROF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F3/00—Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
- G05F3/02—Regulating voltage or current
- G05F3/08—Regulating voltage or current wherein the variable is dc
- G05F3/10—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
- G05F3/16—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
- G05F3/20—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
- G05F3/205—Substrate bias-voltage generators
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
- H03K3/02—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
- H03K3/027—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use of logic circuits, with internal or external positive feedback
- H03K3/03—Astable circuits
- H03K3/0315—Ring oscillators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
内蔵された基板電圧発生回路に関するものである。
は反対にトランジスタの大きさは微細化される傾向にあ
る。トランジスタは微細化されることによって電源電圧
などに対する信頼性が低下されると共に集積回路の電力
消耗が増加する。従って、半導体装置にてMOSトラン
ジスタ金属酸化シリコントランジスタのスレッショルド
電圧の安定化、接合容量の減少、寄生トランジスタの防
止及び外部TTL ()ランシスタートランジスタロジ
ック)のアンダシュ−1・による誤動作の防止のために
基板電圧発生回路を内蔵している。上記基板電圧を発生
する基板の電圧を感知して一定電圧で逃れるポンピング
容量を調節する方法と、RAS(ローアドレスストロー
ブ)信号のレベル状態を感知してポンピング容量を調節
する方法とがある。
悪くなって基板電圧が不安定化し、特にCMO3集積回
路の場合にはラッチアップ特性が悪くなる。高温にての
動作特性の劣化は主に発振部によるもので、温度が上H
するにつれて発振部の動作速度が遅延され、これによる
発振周期が長くなって基板電圧が変わる。そして、半導
体装置の大きさが小さくなることによって基板電圧発生
回路の駆動能力が減少するので、誤動作が容易に発生し
て信頼性が低下する問題点がある。
るので、待機状態でも電力消耗は大きくなる。
基板電圧が安定化である基板電圧発生回路を提供するこ
とにある。
電力消耗を減少させることのできる基板電圧発生回路を
提供することにある。
能力が変化せず、高温での半導体装置の信頼性が向上さ
れた基板電圧発生回路を提供することである。
電圧発生回路は、温度の変化によって抵抗値を補償して
発振周期が変化しない所定の発振信号を発生する発振部
と、前記発振部にて発生された発振信号を入力し、互い
に180°の位相差を持つクロック信号を出力する電圧
ポンプ駆動部と、前記電圧ポンプ駆動部のクロック信号
群を入力させ基板電圧を発生する電圧ポンプ部と、前記
電圧ポンプ部の出力を感知して基板電圧が所定電位を維
持しない時のクロック信号を出力するレベル感知部と、
前記レベル感知部のクロック信号によって上記発振部に
バイアス電圧を印加する発振駆動部とから構成されたこ
とを特徴とする。
る。
である。上記基板電圧発生回路は発振部10、電圧ポン
プ駆動部20.電圧ポンプ部30゜レベル感知部40及
び発振駆動部50から構成される。上記基板電圧発生回
路にて、発振部10は温度の変化によって抵抗値を補償
することにより発振周期が変化しない所定の発振信号φ
O3Cを発生し、電圧ポンプ駆動部20は上記所定の発
振信号φO8Cを入力し所定の遅延時間の経過後方いに
反転されたクロック、CK、CKを発生する。
上記レベル感知部40は上記電圧ポンプ部3゜が発生し
た基板電圧VIIRの状態を感知し、発振駆動部50は
上記感知された基板電圧V[lBの電圧が所定の電圧値
でない場合動作して上記発振部1゜ヘバイアス電圧V。
。上記発振部10は奇数個のインバータ■、〜I、、な
どが直列連結されてリングオシレータを構成する。上記
インバータなど■、〜1.と電源電圧端子V。Cとの間
にはPMO8+−ランジスタMP、〜MP、、RP、〜
RP、、が連結され、インバータ11〜I、、と接地端
子間にはNMOSトランジスタMN、〜MN、、が連結
されている。
SトランジスタMP、〜MP、lのスレッショルド電圧
VTPの合計によって定められるゲート電圧n*V7p
に維持される。
対値が小さくなるので、ゲート電圧値が」1昇しターン
オフ(非導通)が容易に発生する。
状態)にあるPMOSトランジスタRP1〜RP、を」
二記PMOSトランジスタMP、〜MP、と並列関係に
なるよう形成してオン抵抗を低くすることにより、温度
の上昇による抵抗値が補償され、発振周期が変えられる
ことを防止する。
と接地端子間にNMOSトランジスタMNI〜MN、を
連結してこのゲートの電圧をVCC−nT7Nに維持す
ると、このNMOSトランジスタMN、〜MN、は温度
上昇によってスレッショルド電圧VTNの絶対値が大き
くなるのでターンオフが発生し易い。従って、ゲートが
電源電圧端子VCCに接続されたNMOSトランジスタ
RN1〜RNゎを上記NMOSトランジスタMN、〜M
N、と並列関係になるよう接続して上述のごとく同一な
効果を得る。
図である。」1記電圧ポンプ駆動部20は上記発振部1
0から出力される発振信号φO8Cを入力し、バッファ
リングするインバータI0→−1゜1、、+2と、この
インバータ■。+1.I、、+2を通過した信号を所定
時間だけ遅延さぜる遅延手段25と、この遅延手段25
の出力が一方側の入力端に接続されインバータ11→−
2の出力が他方の側の入力端に接続され所定の遅延時間
が経過し= 10− た後に互いに反転されたクロック信号CK、CKを各々
出力するORゲート及びNANDゲートとから構成され
る。
O8CのHレベルが入力されるとインバータIfi+I
I、、→−2によってバッファリングされてORゲート
及びNANDゲートの各々の他方の側の入力端子と遅延
手段25に入力される。また、」1紀遅延手段25を通
過して所定時間遅延された信号がORゲート及びNAN
Dゲートに各々入力される。従って、上記ORゲーI・
は上記インバータI。+1.■。+2によってバッファ
リングされた信号の上昇エツジにより上昇して遅延手段
25出力信号の下降エツジにより下降するH状態のクロ
ック信号CKを出力する。また、上記NANDゲートは
」二足遅延手段25出力の」二臂工・ソジにより下降し
、インバータ■。+1.!、+2によってバッファリン
グされた信号のド降エツジにより上昇するL状態のクロ
ック信号CKを出力する。
より遅延手段25の遅延時間だけもつと長い周期を持つ
クロック信号CKが出力され、NANDゲートでは遅延
時間だけ短い周期を持つクロック信号CKが出力される
。また、」1記ORゲート及びNANDゲートは発振部
10て発振信号φO8CがLレベルで出力されると上記
Hレベルで出力される時と反対であるクロック信号CK
、CKを出力するようになる。それから上記クロック信
号CK、CKが同時にロウ状態にならないようにする。
て出力されるクロック信号CK。
SトランジスタPMI〜PM4と、基板電圧ノード39
にソースが接続され負の電圧でポンピングされるノード
31.37にゲートとドレーンが共通接続されてダイオ
ードの役割をするPMOSトランジスタPM5.PMI
Oと、ソースが上記ノード3]、、37に各々接続され
ドレーンが接地されゲートが」1記PMOSトランジス
タPM2、PM3のゲートに接続されて上記PMOSト
ランジスタPM5.PM1.0によって基板電圧ノード
39とから流れる基板電流を接地端子へ送るPMOSト
ランジスタPM6.PM9と、ゲートとソースが共通に
接続されて接地されドレーンが」二足PMOSトランジ
スタPM6.PM9のゲートに接続されて上記PMOS
トランジスタPM6゜PM9のゲート電圧がスレッショ
ルド電圧より高まることを防11−するダイオード連結
のPMOSトランジスタPM7.PM8とから構成され
る。また上記PMO8+・ランジスタPMI〜PM4は
キャパシタの構成時ソース及びドレーンが同じく連結さ
れる端子に電圧ポンプ駆動部20から出力されるクロッ
ク信号CK、CKが入力されるように構成される。上記
にて電圧ポンプ部30は発振部10にて発振信号φO8
CがHレベルで出力されると電圧ポンプ駆動部20から
H状態のクロ・ツク信号CKと、所定時間遅延されたL
状態のクロ・ツク信号て1とが入力される。」1記クロ
・ツク信号CK− 12 = 及び〔玉はポンピングキャパシタと利用されたPMOS
トランジスタPM1...PM3及びPM2゜PM4に
各々入力される。従ってPMOSトランジスタPM2.
PM4のポンピングキャパシタンスによってノード33
,37は負の電圧電圧−■。。になる。また、ノード3
]はPMO8hランジスタPMI及びPM6によって接
地電位で、ノード35はPMOSトランジスタPM3及
びPM8によってスレッショルド電圧VTFの電位を有
する。
オン状態になリノード37に基板電圧ノードから流れる
基板電流が蓄積され、かつ上記発振部10から出力され
る発振信号φO8Cの前周期であるし状態間にはノード
31に蓄積された基板電流がPMOSトランジスタPM
6を通って接地される。
がL状態になると」1記電圧ポンプ駆動部20でL状態
のクロック信号CKとH状態のクロック信号CKが出力
される。従って上記発振信号φO8CがH状態における
場合とは反対に動作してノード31に基板電流が蓄積さ
れ、このノー+:31に蓄積された基板電流はPMO3
I−ランジスタPM9を通って接地される。この時上記
発振部10から出力発振信号φO8Cの状態が変えられ
る時、電圧ポンプ駆動部20から出力されるクロック信
号CK、CKが同時にL状態になることを防11−7す
る。
直接連結されて基板電圧Vllllが11モの電圧値を
有することを防止するためのものである。
K、CKによって電圧ポンプ回路が動作されるので、ボ
ンピング効率が増加され安定された基板電圧を維持する
ようになる。また、上記電圧ポンプ部20がPMOS+
−ランジスタPMI〜P M 1.0として構成されて
N形つェルをaする0MO8に内蔵されると、このN形
つェルが負の電圧値を有し、この電圧ポンプ部20の動
作時発生される雑音がこのN形つェルによって基板電圧
ノードVBBと分離されてラッチアップ現象を防止する
。
である。
て利用されるPMO5+−ランジスタPM1〜PM4を
除外した残りのPMO8hランジスタPM5〜P M
1.0の基板ノードに」1記クロック信号CK、CKが
印加されるように構成される。
タPM5.PM6.PM8の基板に、クロック信号CK
はPMOSトランジスタPM7.PM’9゜PMIOの
基板に各々印加される。従って、上記P M OS 、
1−ランジスタPM5〜P M 1.0のスレッショル
ド電圧はターンオン状態では低く、ターンオフ状態では
高くなるようにトランジスタ特性が改善されるので電圧
ボンピング効率がもっと改善される。
してレベル感知部40から出力されるクロック信号φe
n、 UIがインバータを構成する= 15 − PMOSトランジスタとNMO3I−ランジスタ■)M
llとNMI、PMl6とのゲートへ入力されるように
接続する。また、」二足PMOSトランジスタP M
]、 iと出力端間にダイオード機能をするNMOSト
ランジスタNM2.NM3が接続され、上記NMOSト
ランジスタNMIと接地間にバイアス抵抗R1が接続さ
れて、電源電圧端と出力端子間にダイオード機能をする
NMO3I・ランジスタNM4.NM5が接続され、ま
た出力端と接地間にキャパシタCnが接続される。また
、」二足PMOSトランジスタP M :I−6と電源
電圧端間に抵抗R2が、出力端とNMOSトランジスタ
NM6にPMOSトランジスタPM 1.2. PM
1.3か接続される。そして、上記出力端と接地間に
PMOSトランジスタPM14.PMl5とキャパシタ
Cn l 1が並列に接続される。
39が所定のレベルを維持しないとレベル感知部40か
ら出力されるクロック信号tl>anは各々H状態及び
L状態になる。従って上記クロック一 16 − 信号φen、 1行はPMOSトランジスタ及びNMO
SトランジスタPM11.、NM6を各々ターンオンさ
せ、バイアス電圧V。N+ VOPを発振部]0へ出力
する。上記バイアス電圧V。N+ V01’はV。N
=Vcc 2VTN及びV op= 2 V ’rp
て」二足発振部10を動作さぜる。ここて、VTNはN
MO3I−ランジスタNM2.NM3.各々のスレッシ
ョルド電圧であり、VTPはPMO5+−ランジスタP
MI 2゜P M i 3各々のスレッショルド電圧で
ある。しかし、電圧ポンプ部30のノード39が所定の
レベルになるとレベル感知部40にてクロック信号φe
n、 Tiが各々L状態及びH状態として出力される。
Sトランジスタ及びPMOSトランジスタNM1、PM
l、6をターンオンさせるので、」二足バイアス電圧v
TN+ VTPを制御して発振部10が動作しないよう
にする。従って上記ノード39は所定のレベルを継続維
持するようになる。
回路の動作波形図である。先ず、上記第7図の(A)は
発振部]Oから出力される発振信号φosc cであり
、上記第7図の(B)は電圧ポンプ駆動部20の遅延手
段25を通過して所定時間遅延された信号である。また
、第7図の(C)及び(D)は上記第7図の(A)及び
(B)の組合せによって電圧ポンプ駆動部20から出力
されるクロック信号CK、CKである。」二足クロック
信号CK、CKはH状態の時は発振部10から出力され
る発振信号φO8Cより遅延手段25の遅延時間だけも
っと長く、L状態の時にはもっと短く発生されて同時に
L状態になることを防11する。
のノード31. 33. 35. 37にての動作波形
図である。上記にてノード3]、、37が同時にL状態
にされないようにするので、基板電圧VRBを安定に維
持することができる。
の計画的変更により、適宜の態様で実施し得るものであ
る。
期を一定に保つ所定の発振信号φO3Cを発生する発振
部と、上記発振信号φO3Cを入力し互いに反転された
クロック信号CK、CKを発生する電圧ポンプ駆動部と
、負の基板電圧を発生ずる電圧ポンプ部と、基板電圧の
レベルを感知するレベル感知部と、上記感知された基板
電圧値が所定のレベルでない場合に発振部にバイアス電
圧を出力する発振駆動部とから構成されるので、温度の
変化に対して抵抗値を補償し駆動能力が変えられないよ
うに半導体装置の信頼性を向上させ、待機状態時の電力
消耗を減少させることができる。
、 第2図は第1図に示された発振部の詳細回路図、第3図
は第1図に示された電圧ポンプ駆動部詳細回路図、 第4図は第1図に示された電圧ポンプ部の詳細回路図、 −19= 第5図は第1図に示された電圧ポンプの他の実施例の詳
細回路図、 第6図は第1図に示された発振駆動部の詳細回路図、 第7図は第1図に示された基板電圧発生回路の動作波形
図である。 10・・・発振部 20・・・電圧ポンプ駆動部25・
・・遅延素子 30・・・電圧ポンプ部40・・・レベ
ル感知部 50・・・発振駆動部11〜1.、I、、→
−1..ILl+2・・・インバータMP、〜MP、l
、RPI〜RP、、、PMI〜PM16・・・PMOS
トランジスタ MN、〜MN、、、RN、〜RN、、NM1〜NM6・
・・NMO3I−ランジスタ OR・・・ORゲート NA・・・NANDゲート一
20 − Sど Qlご ジ乙 ダ占ジ8ジ8 匡
Claims (10)
- (1)半導体装置において、温度の変化によって抵抗値
を補償して発振周期が変えられない所定の発振信号を発
生する発振部と、 前記発振部から発生された発振信号を入力し互いに18
0゜の位相差を持つクロック信号を出力する電圧ポンプ
駆動部と、 前記電圧ポンプ駆動部のクロック信号群を入力し基板電
圧を発生する電圧ポンプ部と、 前記電圧ポンプの出力を感知して基板電圧が所定電位を
維持しない時のクロック信号を出力するレベル感知部と
、 前記レベル感知部のクロック信号によって上記発振部に
バイアス電圧を印加する発振駆動部とから構成されたこ
とを特徴とする半導体装置の基板電圧発生回路。 - (2)発振部は奇数個の反転素子が直列で連結され、こ
の反転素子と電源電圧間に2つの第1導電形のトランジ
スタを並列で接続するように連結し、この反転素子と接
地間に2つの第2導電形のトランジスタを並列で接続す
るように連結して構成されたことを特徴とする請求項1
記載の半導体装置の基板電圧発生回路。 - (3)第1導電形はP形であり、第2導電形はN形であ
ることを特徴とする請求項2記載の半導体装置の基板電
圧発生回路。 - (4)電圧ポンプ駆動部は発振部の発振信号をバッファ
リングする手段と、バッファリングされた発振信号を所
定時間遅延させる遅延手段と、前記バッファリングされ
た信号と所定時間遅延された信号を各々入力し、互いに
反転されたクロック信号を出力する論理積手段及び論理
和手段とから構成されたことを特徴とする請求項1記載
の半導体装置の基板電圧発生回路。 - (5)電圧ポンプ駆動部から出力されるクロック信号は
所定遅延時間H状態を維持すると同時にL状態に変化し
ないことを特徴とする請求項4記載の半導体装置の基板
電圧発生回路。 - (6)電圧ポンプ部は、ソース及びドレーンが共通接続
されて上記電圧ポンプ駆動部から出力されるクロック信
号を各々入力する第1〜第4ポンピングキャパシタ用M
OSトランジスタと、該第1及び第4ポンピングキャパ
シタ用MOSトランジスタのゲートにドレーン及びゲー
トが共通に接続され基板電圧ノードにソースが接続され
る第1及び第4ダイオード用MOSトランジスタと、前
記第1及び第4ポンピングキャパシタ用MOSトランジ
スタのゲートにソースが接続されドレーンが接地されゲ
ートが前記第2及び第3ポンピングキャパシタ用MOS
トランジスタのゲートに接続されるMOSトランジスタ
と、前記第2及び第3ポンピングキャパシタ用MOSト
ランジスタのゲートにドレーンが接続されゲート及びソ
ースが接続される第2及び第3ダイオード用MOSトラ
ンジスタで構成されたことを特徴とする請求項1記載の
半導体装置の基板電圧発生回路。 - (7)第1及び第3ポンピングキャパシタ用MOSトラ
ンジスタ及び第2及び第4ポンピングキャパシタ用MO
Sトランジスタにクロック信号が各々入力されることを
特徴とする請求項6記載の半導体装置の基板電圧発生回
路。 - (8)第1〜第4ポンピングキャパシタ用MOSトラン
ジスタを除外した残りのMOSトランジスタの基板ノー
ドにクロック信号が各々入力されることを特徴とする請
求項6記載の半導体装置の基板電圧発生回路。 - (9)全てのMOSトランジスタは第2導電形のウェル
に形成され第1導電形を有することを特徴とする請求項
8記載の半導体装置の基板電圧発生回路。 - (10)第1導電形がP形であり、第2導電形がN形で
あることを特徴とする請求項9記載の半導体装置の基板
電圧発生回路。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9013472A FR2668668B1 (fr) | 1990-10-30 | 1990-10-30 | Generateur de tension de substrat pour un dispositif a semiconducteurs. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04179157A true JPH04179157A (ja) | 1992-06-25 |
JP3026593B2 JP3026593B2 (ja) | 2000-03-27 |
Family
ID=
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100810063B1 (ko) * | 2007-03-02 | 2008-03-05 | 주식회사 하이닉스반도체 | 오실레이터 및 이를 포함하는 반도체장치의 전압펌핑회로 |
US9371801B2 (en) | 2012-06-12 | 2016-06-21 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Ignition device for two-pulse rocket motor with thermal barrier membrane |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5265815A (en) * | 1975-11-27 | 1977-05-31 | Sharp Corp | Booster circuit |
JPS579257A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-18 | Ricoh Elemex Corp | Temperature compensation voltage controlling circuit |
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5265815A (en) * | 1975-11-27 | 1977-05-31 | Sharp Corp | Booster circuit |
JPS579257A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-18 | Ricoh Elemex Corp | Temperature compensation voltage controlling circuit |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100810063B1 (ko) * | 2007-03-02 | 2008-03-05 | 주식회사 하이닉스반도체 | 오실레이터 및 이를 포함하는 반도체장치의 전압펌핑회로 |
US9371801B2 (en) | 2012-06-12 | 2016-06-21 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Ignition device for two-pulse rocket motor with thermal barrier membrane |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5157278A (en) | 1992-10-20 |
GB9023725D0 (en) | 1990-12-12 |
FR2668668B1 (fr) | 1994-02-04 |
GB2249412A (en) | 1992-05-06 |
DE4034668C2 (de) | 1995-04-06 |
DE4034668A1 (de) | 1992-05-07 |
GB2249412B (en) | 1994-05-11 |
FR2668668A1 (fr) | 1992-04-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5157278A (en) | Substrate voltage generator for semiconductor device | |
JP3594631B2 (ja) | 電源に対して補償されたmos発振回路 | |
US7450361B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
JP3723957B2 (ja) | 低電圧、低ジッター電圧制御発振器 | |
JP3152867B2 (ja) | レベルシフト半導体装置 | |
US9300247B2 (en) | RC oscillator with additional inverter in series with capacitor | |
EP0322047A2 (en) | Ring oscillator | |
KR100696956B1 (ko) | 내부전원 생성장치 | |
KR20050119078A (ko) | 리셋 회로 | |
JPS6153759A (ja) | 発振回路 | |
JP3194136B2 (ja) | 半導体メモリ素子の基板電圧発生回路 | |
JP2004260730A (ja) | パルス発生回路及びそれを用いたハイサイドドライバ回路 | |
JPH0258806B2 (ja) | ||
JP2010004424A (ja) | レベルアップ変換回路 | |
JP6385176B2 (ja) | アナログ電子時計 | |
JPH0427729B2 (ja) | ||
JP5266156B2 (ja) | 差動増幅器 | |
JP4829724B2 (ja) | 発振回路 | |
JP3026593B2 (ja) | 半導体装置の基板電圧発生回路 | |
US20060145749A1 (en) | Bias circuit having reduced power-up delay | |
KR930007645B1 (ko) | 반도체 장치의 기판전압 발생회로 | |
KR100259466B1 (ko) | 부스터회로 | |
US8890627B2 (en) | Voltage controlled oscillator | |
CN117879564A (zh) | 一种上电复位电路 | |
KR100236963B1 (ko) | 캐패시터를 사용한 씨모스 클럭 버퍼회로 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080128 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090128 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090128 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100128 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110128 Year of fee payment: 11 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110128 Year of fee payment: 11 |