JPH04173795A - (1′r,3s)―3―(1′―トリ置換シリルオキシエチル)―アゼチジン―2―オンの製造法 - Google Patents
(1′r,3s)―3―(1′―トリ置換シリルオキシエチル)―アゼチジン―2―オンの製造法Info
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- JPH04173795A JPH04173795A JP2301017A JP30101790A JPH04173795A JP H04173795 A JPH04173795 A JP H04173795A JP 2301017 A JP2301017 A JP 2301017A JP 30101790 A JP30101790 A JP 30101790A JP H04173795 A JPH04173795 A JP H04173795A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はチェナマイシンに代表されるカルバペネム系抗
生物質の合成中間体として有用な次の一般式(Il) (式中、R1はトリ置換シリル基を示す)で表される
(1’ R,3S)−3−(1’ −トジ置換シリル
オキシエチル)−アゼチジン−2−オンの製造法に関す
る。
生物質の合成中間体として有用な次の一般式(Il) (式中、R1はトリ置換シリル基を示す)で表される
(1’ R,3S)−3−(1’ −トジ置換シリル
オキシエチル)−アゼチジン−2−オンの製造法に関す
る。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕チェナ
マイシンに代表されるカルバペネム系抗生物質は、広範
囲の抗菌スペクトルを有することから医薬品として注目
をあびている。
マイシンに代表されるカルバペネム系抗生物質は、広範
囲の抗菌スペクトルを有することから医薬品として注目
をあびている。
カルバペネム系抗生物質の製造法としては、亀谷ら;
Heterocycles 、 17 、 pp、
463−506(19B2)、渋谷ら;「有機合成化学
J 41 、 p、 62(1983)等積々の方法が
報告されているが、その中でも、−服代(I[I) (式中、R′′は水酸基の保護基を示す)で表される(
1’ R,3R,4R)−4−アセトキシ−3−(1’
−ヒドロキシエチル)−アゼチジン−2−オン誘導体を
中間に経由する方法は、化合物(I)が各種求核剤と反
応可能なことから、特に有利な方法である。
Heterocycles 、 17 、 pp、
463−506(19B2)、渋谷ら;「有機合成化学
J 41 、 p、 62(1983)等積々の方法が
報告されているが、その中でも、−服代(I[I) (式中、R′′は水酸基の保護基を示す)で表される(
1’ R,3R,4R)−4−アセトキシ−3−(1’
−ヒドロキシエチル)−アゼチジン−2−オン誘導体を
中間に経由する方法は、化合物(I)が各種求核剤と反
応可能なことから、特に有利な方法である。
この化合物(I)は、例えば本出願人による先の出願で
ある特開平2−134349号公報に開示されているよ
うに、下記の反応式によって得られる(1’ R,3
S)−:3− (1’ −ヒドロキシエチル)−アゼチ
ジン−2−オンの誘導体(II−B)をアセトキシ化す
ることによって得ることができる。
ある特開平2−134349号公報に開示されているよ
うに、下記の反応式によって得られる(1’ R,3
S)−:3− (1’ −ヒドロキシエチル)−アゼチ
ジン−2−オンの誘導体(II−B)をアセトキシ化す
ることによって得ることができる。
L U 2 Ctl 3(b)
(I)
H
(II−A)
(n−B)
(III)
(式中、R1/は水酸基の保護基を示す)前記反応式中
、化合物(n−B)の段階で水酸基が保護されているが
、これはカルバペネム系抗生物質まで合成していく過程
で必須要件であり、通常この保護基としては、tert
−ブチルジメチルシリル基等のトリ置換シリル基が挙げ
られ、化合物(II−A)とトリ置換シリルクロライド
とをイミダゾール等の塩基の存在下で反応せしめること
によって導入される。前記反応式では、ラクタム化の後
でこの水酸基の保護を行っているが、David A、
Bvansら; TetrahedronLett、、
27 、 (41)、 pJ]、 4961−496
4 (1986)には、先に化合物(I)の水酸基にt
ert−ブチルジメチルシリル基が導入された化合物(
I−A)を合成してからラクタム化を行う方法が報告さ
れている。しかし、この文献に記載の方法は、化合物(
I−A)の合成過程が大変複雑であり、到底工業的に有
効な方法であるとは言い難い。
、化合物(n−B)の段階で水酸基が保護されているが
、これはカルバペネム系抗生物質まで合成していく過程
で必須要件であり、通常この保護基としては、tert
−ブチルジメチルシリル基等のトリ置換シリル基が挙げ
られ、化合物(II−A)とトリ置換シリルクロライド
とをイミダゾール等の塩基の存在下で反応せしめること
によって導入される。前記反応式では、ラクタム化の後
でこの水酸基の保護を行っているが、David A、
Bvansら; TetrahedronLett、、
27 、 (41)、 pJ]、 4961−496
4 (1986)には、先に化合物(I)の水酸基にt
ert−ブチルジメチルシリル基が導入された化合物(
I−A)を合成してからラクタム化を行う方法が報告さ
れている。しかし、この文献に記載の方法は、化合物(
I−A)の合成過程が大変複雑であり、到底工業的に有
効な方法であるとは言い難い。
一方、前記反応式(d)で表されるようなβ−アミノ酸
をラクタム化してアゼチジン−2−オン骨格を得る方法
は、従来よりいくつか提案されている。例えば、■グリ
ニヤール反応により得る方法[ROBBRT W、HO
LLBYら; J、 Am、 Chem、Soc、。
をラクタム化してアゼチジン−2−オン骨格を得る方法
は、従来よりいくつか提案されている。例えば、■グリ
ニヤール反応により得る方法[ROBBRT W、HO
LLBYら; J、 Am、 Chem、Soc、。
71 、 pp、 2124−2129 (1949)
、5cott 5earrlesら ; CHBM
ISTRY 八NOINDISTRY 、 p、
2097 (1964)及び Leonhard
Birkoferら; 八nn、Chem、、 p
p。
、5cott 5earrlesら ; CHBM
ISTRY 八NOINDISTRY 、 p、
2097 (1964)及び Leonhard
Birkoferら; 八nn、Chem、、 p
p。
2195−2200 (1975)等〕、■塩化チオニ
ルー第3級アミンで処理する方法[F、F、 BLIC
KSら;J。
ルー第3級アミンで処理する方法[F、F、 BLIC
KSら;J。
Org、 Chem、、 23 、 pp、 1102
−1107 (1958)等]、■N、N’−ジシクロ
へキシルカルボジイミドで処理する方法CD、 GoM
elilloら; Tetrahed−ron Le
−tt、、 21 、 pp、 2783−2786
(1980)等〕、■相間移動剤として塩化メチレン/
H20:硫酸水素テトラブチルアンモニウム、閉環剤と
して塩化メタンスルホニル、重炭酸カリウムの二相液体
−液体相移動系を使用する方法[YutakaW八TA
NABへら; [:lIBMISTRY LBTTER
3、pp、443−444(1981)] 、]■ヨウ
化2−クロロー1−メチルピリジウで処理する方法[H
uamin HUANGら;CIIEMISTRY
LBTTBR3、pp、 1465−1466 (19
84)等〕、■ビスー(5′−二トロー2′−ピリジル
)−2,2,2−)リクロロエチルホスフィン酸で処理
する方法[Sunggak Kimら: Tetrah
e−dron Lett、、 2B 、pp、 273
5−2736 (1987)] 、■ジフェニルホスフ
ィン酸クロりドで処理する方法[Sunggak Ki
mら; J、 Chem、 Soc、、Chem、 C
om−mun、、 pp、 1242−1243(1
988) :I 、■アルキルニトリルの存在下に複素
゛環式ジスルフィド(2゜2′−ジピリジルジスルフィ
ド、2.2′−ジベンゾチアゾリルジスルフィド、2.
2’ −ジベンゾイミダゾリルジスルフィド等)及びト
リフェニルホスフィンで処理する方法〔特開昭57−7
7670号公報〕号公報化メタンスルホニル及び重炭酸
ナトリウムで処理する方法〔特開平1−17175号公
報〕等が報告されている。
−1107 (1958)等]、■N、N’−ジシクロ
へキシルカルボジイミドで処理する方法CD、 GoM
elilloら; Tetrahed−ron Le
−tt、、 21 、 pp、 2783−2786
(1980)等〕、■相間移動剤として塩化メチレン/
H20:硫酸水素テトラブチルアンモニウム、閉環剤と
して塩化メタンスルホニル、重炭酸カリウムの二相液体
−液体相移動系を使用する方法[YutakaW八TA
NABへら; [:lIBMISTRY LBTTER
3、pp、443−444(1981)] 、]■ヨウ
化2−クロロー1−メチルピリジウで処理する方法[H
uamin HUANGら;CIIEMISTRY
LBTTBR3、pp、 1465−1466 (19
84)等〕、■ビスー(5′−二トロー2′−ピリジル
)−2,2,2−)リクロロエチルホスフィン酸で処理
する方法[Sunggak Kimら: Tetrah
e−dron Lett、、 2B 、pp、 273
5−2736 (1987)] 、■ジフェニルホスフ
ィン酸クロりドで処理する方法[Sunggak Ki
mら; J、 Chem、 Soc、、Chem、 C
om−mun、、 pp、 1242−1243(1
988) :I 、■アルキルニトリルの存在下に複素
゛環式ジスルフィド(2゜2′−ジピリジルジスルフィ
ド、2.2′−ジベンゾチアゾリルジスルフィド、2.
2’ −ジベンゾイミダゾリルジスルフィド等)及びト
リフェニルホスフィンで処理する方法〔特開昭57−7
7670号公報〕号公報化メタンスルホニル及び重炭酸
ナトリウムで処理する方法〔特開平1−17175号公
報〕等が報告されている。
これらの方法は、しばしば反応化合物であるβ−アミノ
酸の構造によって収率が左右される。
酸の構造によって収率が左右される。
(2S、3R)−2−アミノメチル−3−ヒドロキシ酪
酸(I)を反応化合物とする場合は、上記■の公報の詳
細な説明中にも挙げられているが、具体的には、特開昭
63−297360号公報及び前記の特開平2−134
349号公報で、この■の方法を適用して、2.2′−
ジピリジルジスルフィドで処理している。また、水酸基
に保護基が入った(23,3R)−2−アミノメチル−
3−ヒドロキシ酪酸誘導体(1−A)を反応化合物とし
た場合も、前記のDavid A、Bvansら; T
etrahedron Lett、、 27 。
酸(I)を反応化合物とする場合は、上記■の公報の詳
細な説明中にも挙げられているが、具体的には、特開昭
63−297360号公報及び前記の特開平2−134
349号公報で、この■の方法を適用して、2.2′−
ジピリジルジスルフィドで処理している。また、水酸基
に保護基が入った(23,3R)−2−アミノメチル−
3−ヒドロキシ酪酸誘導体(1−A)を反応化合物とし
た場合も、前記のDavid A、Bvansら; T
etrahedron Lett、、 27 。
<41)、 pp、 4961−4964 (1986
)で上記と同様に2゜2′−ジピリジルジスルフィドで
処理している。
)で上記と同様に2゜2′−ジピリジルジスルフィドで
処理している。
しかしながらこの反応試薬はたいへん高価であり、また
、反応後に回収することができず廃物が多くなるという
問題点を有している。■で提案されている他のジスルフ
ィドである2、2′−ジベンゾチアゾリルジスルフィド
及び2,2′−ジベンズイミダゾリルジスルフィドにつ
いては、2.2′−ジピリジルジスルフィドよりも安価
ではあるが、実際に(2S、3R)−2−アミノメチル
−3−ヒドロキシ酪酸又はその誘導体を反応化合物とし
た具体例が報告されていない。
、反応後に回収することができず廃物が多くなるという
問題点を有している。■で提案されている他のジスルフ
ィドである2、2′−ジベンゾチアゾリルジスルフィド
及び2,2′−ジベンズイミダゾリルジスルフィドにつ
いては、2.2′−ジピリジルジスルフィドよりも安価
ではあるが、実際に(2S、3R)−2−アミノメチル
−3−ヒドロキシ酪酸又はその誘導体を反応化合物とし
た具体例が報告されていない。
斯かる実状において、本発明者らは鋭意研究を行った結
果、ラクタム化の前にまず(2S。
果、ラクタム化の前にまず(2S。
3R)−2−アミノメチル−3−ヒドロキシ醋酸を塩基
の存在下トリ置換シリルクロライドと反応せしめ水酸基
を保護し、次いで、2,2′−ジベンゾチアゾリルジス
ルフィド又は2,2′−ジベンズイミダゾリルジスルフ
ィドと、トリフェニルホスフィンを加えラクタム化を行
えば、(1’ R,3S)−3−(1’−)り置換シ
リルオキシエチル)−アゼチジン−2−オンを容易な反
応過程で有利に製造できることを見出し、本発明を完成
した。本発明の方法によれば、カルバペネム系抗生物質
の合成において必須要件でるヒドロキシエチル基の水酸
基の保護化と、ラクタム化を一つの反応釜中で中間体を
取り出すことなく行うことができる。
の存在下トリ置換シリルクロライドと反応せしめ水酸基
を保護し、次いで、2,2′−ジベンゾチアゾリルジス
ルフィド又は2,2′−ジベンズイミダゾリルジスルフ
ィドと、トリフェニルホスフィンを加えラクタム化を行
えば、(1’ R,3S)−3−(1’−)り置換シ
リルオキシエチル)−アゼチジン−2−オンを容易な反
応過程で有利に製造できることを見出し、本発明を完成
した。本発明の方法によれば、カルバペネム系抗生物質
の合成において必須要件でるヒドロキシエチル基の水酸
基の保護化と、ラクタム化を一つの反応釜中で中間体を
取り出すことなく行うことができる。
すなわち、本発明は、次式(I)
n目
で表される(2S、3R)−2−アミノメチル−3−ヒ
ドロキシ酪酸を塩基の存在下トリ置換シリルクロライド
と反応せしめ、次いで、2.2′−ジベンゾチアゾリル
ジスルフィド又は2.2′−ジベンズイミダゾリルジス
ルフィドと、トリフェニルホスフィンを加えて反応せし
めることを特徴とする一般式(n) (式中、R1はトリ置換シリル基を示す)で表される
(1’ R,3S)−3−(1’ −)り置換シリ
ルオキシエチル)−アゼチジン−2−オンを製造する方
法である。
ドロキシ酪酸を塩基の存在下トリ置換シリルクロライド
と反応せしめ、次いで、2.2′−ジベンゾチアゾリル
ジスルフィド又は2.2′−ジベンズイミダゾリルジス
ルフィドと、トリフェニルホスフィンを加えて反応せし
めることを特徴とする一般式(n) (式中、R1はトリ置換シリル基を示す)で表される
(1’ R,3S)−3−(1’ −)り置換シリ
ルオキシエチル)−アゼチジン−2−オンを製造する方
法である。
本発明の原料化合物(1)は、前記のように公知の化合
物であり、例えば、前記の反応式(a)→(b)→(C
)に従って容易に得ることができる。
物であり、例えば、前記の反応式(a)→(b)→(C
)に従って容易に得ることができる。
本発明の方法は、まず第1段階として原料化合物(I)
を塩基の存在下トリ置換シリルクロライドと反応せしめ
ヒドロキシエチル基の水酸基の保護化を行う。ここで用
いる塩基としては、ピリジン、2,6−シメチルピリジ
ン、イミダゾール、等の窒素原子含有複素環化合物や、
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の鎖
状アミン等を挙げることができる。また、トリ置換シリ
ルクロライドとしては、tert−ブチルジメチルシリ
ルクロライド、n−プロピルジメチルシリルクロライド
、イソプロピルジメチルシリルクロライド、トリエチル
シリルクロライド等のを挙げることができる。反応溶媒
としては、アセトニトリル、プロピオニトリル、テトラ
ヒドロフラン、N、N−ジメチルホルムアミド、酢酸エ
チル等を挙げることができる。
を塩基の存在下トリ置換シリルクロライドと反応せしめ
ヒドロキシエチル基の水酸基の保護化を行う。ここで用
いる塩基としては、ピリジン、2,6−シメチルピリジ
ン、イミダゾール、等の窒素原子含有複素環化合物や、
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の鎖
状アミン等を挙げることができる。また、トリ置換シリ
ルクロライドとしては、tert−ブチルジメチルシリ
ルクロライド、n−プロピルジメチルシリルクロライド
、イソプロピルジメチルシリルクロライド、トリエチル
シリルクロライド等のを挙げることができる。反応溶媒
としては、アセトニトリル、プロピオニトリル、テトラ
ヒドロフラン、N、N−ジメチルホルムアミド、酢酸エ
チル等を挙げることができる。
反応条件は特に限定されず適宜変えることができるが、
原料化合物(I)及び塩基を溶媒に懸濁しておき、そこ
にトリ置換シリルクロライドを同溶媒に溶かした溶液を
滴下し、反応温度O℃〜80℃、好ましくは50℃〜7
0℃で、約1時間〜24時間、好ましくは約3時間反応
せしめるのが良い。トリ置換シリルクロライドの反応量
は、化合物(1)に対して少なくとも1.0モル、好ま
しくは約1.3〜2.0モルとするのがよい。塩基の量
は、トリ置換シリルクロライドとほぼ等モルとするのが
好ましい。
原料化合物(I)及び塩基を溶媒に懸濁しておき、そこ
にトリ置換シリルクロライドを同溶媒に溶かした溶液を
滴下し、反応温度O℃〜80℃、好ましくは50℃〜7
0℃で、約1時間〜24時間、好ましくは約3時間反応
せしめるのが良い。トリ置換シリルクロライドの反応量
は、化合物(1)に対して少なくとも1.0モル、好ま
しくは約1.3〜2.0モルとするのがよい。塩基の量
は、トリ置換シリルクロライドとほぼ等モルとするのが
好ましい。
次いで第2段階として同一の反応釜中に、2゜2′−ジ
ベンゾチアゾリルジスルフィド又は2゜2′−ジベンズ
イミダゾリルジスルフィドと、トリフェニルホスフィン
を加えて反応せしめる。
ベンゾチアゾリルジスルフィド又は2゜2′−ジベンズ
イミダゾリルジスルフィドと、トリフェニルホスフィン
を加えて反応せしめる。
2.2′−ジベンゾチアゾリルジスルフィド及び2.2
′−ジベンズイミダゾリルジスルフィドの2つのジスル
フィドはいずれも公知の化合物であり、安価に市販品を
入手することができる。
′−ジベンズイミダゾリルジスルフィドの2つのジスル
フィドはいずれも公知の化合物であり、安価に市販品を
入手することができる。
ここで用いる溶媒としては、アセトニトリル、プロピオ
ニトリル等のアルキルニトリル;テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類;N、N−−ジメチルホルム
アミド;イソプロパツール;ベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素類;シクロヘキサン等を挙げることができ
るが、特に水酸基の保護化(シリル化)反応と同じ溶媒
としてアセトニ) IJルを用いれば、円滑かつ高収率
で反応が進み好ましい。シリル化によって、化合物(I
)のカルボキシル基にもシリル基が入った副生成物が生
じることがあるが、シリル化後に少量のメタノールを加
え約1〜3時間処理することによってこのカルボキシル
基のシリル基を外し、溶媒を留去後、次いでラクタム化
反応を行うこともできる。
ニトリル等のアルキルニトリル;テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類;N、N−−ジメチルホルム
アミド;イソプロパツール;ベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素類;シクロヘキサン等を挙げることができ
るが、特に水酸基の保護化(シリル化)反応と同じ溶媒
としてアセトニ) IJルを用いれば、円滑かつ高収率
で反応が進み好ましい。シリル化によって、化合物(I
)のカルボキシル基にもシリル基が入った副生成物が生
じることがあるが、シリル化後に少量のメタノールを加
え約1〜3時間処理することによってこのカルボキシル
基のシリル基を外し、溶媒を留去後、次いでラクタム化
反応を行うこともできる。
反応条件は特に限定されず適宜変えることができるが、
シリル化で得られた化合物にジスルフィドを加え溶媒に
懸濁させたものに、トリフェニルホスフィンをアセトニ
トリル、トルエン等の適当な溶媒に溶かした溶液を、約
60℃〜80℃にて約5〜60分かけて滴下し、更に約
5分〜180分間、好ましくは約5分〜30分間攪拌し
て反応せしめると良い。ジスルフィドの反応量は、その
他の反応条件によって適宜変えることができるが、原料
化合物(■)1モルに対して少なくとも1.0モル、好
ましくは約1.0〜1.3モルとするのが良い。更にト
リフェニルホスフィンの量は、ジスルフィドとほぼ等モ
ルとするのが好ましい。
シリル化で得られた化合物にジスルフィドを加え溶媒に
懸濁させたものに、トリフェニルホスフィンをアセトニ
トリル、トルエン等の適当な溶媒に溶かした溶液を、約
60℃〜80℃にて約5〜60分かけて滴下し、更に約
5分〜180分間、好ましくは約5分〜30分間攪拌し
て反応せしめると良い。ジスルフィドの反応量は、その
他の反応条件によって適宜変えることができるが、原料
化合物(■)1モルに対して少なくとも1.0モル、好
ましくは約1.0〜1.3モルとするのが良い。更にト
リフェニルホスフィンの量は、ジスルフィドとほぼ等モ
ルとするのが好ましい。
反応系の濃度としては、反応化合物(ここでは、原料化
合物(1)が100%シリル化されたとしたときの濃度
)が反応系巾約0.001モル/1〜1モル/1、好ま
しくは約0801モル/j2〜0.1モル/lとなるよ
うにするのが好ましい。反応化合物があまり高濃度とな
ると目的化合物(II)の収率が低下し好ましくない。
合物(1)が100%シリル化されたとしたときの濃度
)が反応系巾約0.001モル/1〜1モル/1、好ま
しくは約0801モル/j2〜0.1モル/lとなるよ
うにするのが好ましい。反応化合物があまり高濃度とな
ると目的化合物(II)の収率が低下し好ましくない。
反応終了後、反応混合物中から目的化合物(II)の分
離・精製は、公知の方法、例えば減圧下溶媒を留去した
後カラムクロマトグラフィーにより精製する等により行
うことができる。
離・精製は、公知の方法、例えば減圧下溶媒を留去した
後カラムクロマトグラフィーにより精製する等により行
うことができる。
同様に、反応混合物からジスルフィドの分離も公知の方
法により行うことができるが、ジスルフィドはメルカプ
タンの形で分離され、分離後酸化・精製してジスルフィ
ドとし、再利用することができる。
法により行うことができるが、ジスルフィドはメルカプ
タンの形で分離され、分離後酸化・精製してジスルフィ
ドとし、再利用することができる。
次に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。
本発明はこれに限定されるものではない。
実施例1
(2S、3R)−2−アミノメチル−3−ヒドロキシ酪
酸(1) (403mg、 3.03ミリモル)及び
トリエチルアミン(620mg、 6.14ミリモル)
をアセトニトリル(15ml)にMQし、水浴中で攪拌
した。これに、tert−ブチルジメチルシリルクロラ
イド(931mg、6.18ミリモル)のアセトニ)
IJル(6ml)溶液を10分間かけて滴下した。3時
間水浴中で攪拌を続けた後、更に室温で一晩攪拌した。
酸(1) (403mg、 3.03ミリモル)及び
トリエチルアミン(620mg、 6.14ミリモル)
をアセトニトリル(15ml)にMQし、水浴中で攪拌
した。これに、tert−ブチルジメチルシリルクロラ
イド(931mg、6.18ミリモル)のアセトニ)
IJル(6ml)溶液を10分間かけて滴下した。3時
間水浴中で攪拌を続けた後、更に室温で一晩攪拌した。
反応液にメタノール(5ml)を加え1時間攪拌した後
、浴温40℃、IOmmHgで大部分のメタノールを除
去し、次いで室温、0.5 mmHgで低沸点物を完全
に除去することによって減圧濃縮を行った。得られた残
留物に2,2′−ジベンゾチアゾリルジスルフィド(1
001mg、3.01ミリモル′)及びアセトニトリル
(60mllりを加え70℃にて攪拌した。この懸濁液
にトリフェニルホスフィン(788mg、3.01ミリ
モル)のアセトニトリル(15mf)溶液を15分間か
けて滴下した。滴下終了後、5分間70℃で攪拌を行い
、反応液を室温まで冷却した。得られた反応液を減圧濃
縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル120g、展開溶媒:ヘキサン:酢酸エチル−4:1
)で精製し、(1’ R。
、浴温40℃、IOmmHgで大部分のメタノールを除
去し、次いで室温、0.5 mmHgで低沸点物を完全
に除去することによって減圧濃縮を行った。得られた残
留物に2,2′−ジベンゾチアゾリルジスルフィド(1
001mg、3.01ミリモル′)及びアセトニトリル
(60mllりを加え70℃にて攪拌した。この懸濁液
にトリフェニルホスフィン(788mg、3.01ミリ
モル)のアセトニトリル(15mf)溶液を15分間か
けて滴下した。滴下終了後、5分間70℃で攪拌を行い
、反応液を室温まで冷却した。得られた反応液を減圧濃
縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル120g、展開溶媒:ヘキサン:酢酸エチル−4:1
)で精製し、(1’ R。
3 S) −3−(1’ −tert−ブチルジメチル
シリルオキシエチル)−アゼチジン−2−オン(II)
(588mg、2.56ミリモル)を得た(収率8
4%)。このもののIR,NMR及び質量スペクトルは
標品のものと一致した。
シリルオキシエチル)−アゼチジン−2−オン(II)
(588mg、2.56ミリモル)を得た(収率8
4%)。このもののIR,NMR及び質量スペクトルは
標品のものと一致した。
実施例2
(2S、3R)−2−アミノメチル−3−ヒドロキシ酪
酸(T)(133mg、1.00ミリモル)及びトリエ
チルアミン(202mg、2.00ミリモル)をアセト
ニトリル(5m7りに懸濁し、水浴中で攪拌した。これ
に、tert−ブチルジメチルシリルクロライド(60
4mg、2.00ミリモル)のアセト・二) IJル(
2rd)溶液を15分間かけて滴下した。2時間水浴中
で攪拌を続けた後、更に室温で一晩攪拌した。反応液に
メタノール(2,5rd)を加え1時間攪拌した後、実
施例1と同様な条件で減圧濃縮を行った。得られた残留
物に2,2′−ジベンズイミダゾリルジスルフィド(3
13mg、1.05ミリモル)及びアセトニ) IJル
(15mff)を加え70℃にて攪拌した。この懸濁液
にトリフェニルホスフィン(275mg、 1.05ミ
リモル)のアセ)・ニトリル(5m1.)溶液を15分
間かけて滴下した。
酸(T)(133mg、1.00ミリモル)及びトリエ
チルアミン(202mg、2.00ミリモル)をアセト
ニトリル(5m7りに懸濁し、水浴中で攪拌した。これ
に、tert−ブチルジメチルシリルクロライド(60
4mg、2.00ミリモル)のアセト・二) IJル(
2rd)溶液を15分間かけて滴下した。2時間水浴中
で攪拌を続けた後、更に室温で一晩攪拌した。反応液に
メタノール(2,5rd)を加え1時間攪拌した後、実
施例1と同様な条件で減圧濃縮を行った。得られた残留
物に2,2′−ジベンズイミダゾリルジスルフィド(3
13mg、1.05ミリモル)及びアセトニ) IJル
(15mff)を加え70℃にて攪拌した。この懸濁液
にトリフェニルホスフィン(275mg、 1.05ミ
リモル)のアセ)・ニトリル(5m1.)溶液を15分
間かけて滴下した。
滴下終了後、5分間70℃で攪拌を行い、反応。液を室
温まで冷却した。得られた反応液を減圧濃縮し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(シリカゲル20g、展
開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル−4:1)で精製し、(
1’ R,3S)3− (1’ −tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)−アゼチジン−2−オン(
II)(160mg、0.70ミリモル)を得たく収率
70%)。
温まで冷却した。得られた反応液を減圧濃縮し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(シリカゲル20g、展
開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル−4:1)で精製し、(
1’ R,3S)3− (1’ −tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)−アゼチジン−2−オン(
II)(160mg、0.70ミリモル)を得たく収率
70%)。
本発明の方法によれば、カルバペネム系抗生物質の合成
において必須要件であるヒドロキシエチル基の水酸基の
保護化と、ラクタム化を一つの反応釜中で中間体を取り
出すことなく効率良く行うことができ、更に、ラクタム
化においては、安価な反応試薬で、しかも、反応後にそ
の反応試薬を回収できるので、カルバペネム系抗生物質
の合成中間体として有用な(L’ R。
において必須要件であるヒドロキシエチル基の水酸基の
保護化と、ラクタム化を一つの反応釜中で中間体を取り
出すことなく効率良く行うことができ、更に、ラクタム
化においては、安価な反応試薬で、しかも、反応後にそ
の反応試薬を回収できるので、カルバペネム系抗生物質
の合成中間体として有用な(L’ R。
3S)−3−(1’ −)り置換シリルオキシエチル)
−丁ゼチジンー2−オンを工業的に有利に製造すること
ができる。
−丁ゼチジンー2−オンを工業的に有利に製造すること
ができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表される(2S,3R)−2−アミノメチル−3−ヒ
ドロキシ酪酸を塩基の存在下トリ置換シリルクロライド
と反応せしめ、次いで、2,2′−ジベンゾチアゾリル
ジスルフィド又は2,2′−ジベンズイミダゾリルジス
ルフィドと、トリフェニルホスフィンを加えて反応せし
めることを特徴とする一般式(II)▲数式、化学式、表
等があります▼(II)(式中、R^1はトリ置換シリル
基を示す)で表される(1′R,3S)−3−(1′−
トリ置換シリルオキシエチル)−アゼチジン−2−オン
の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2301017A JPH04173795A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | (1′r,3s)―3―(1′―トリ置換シリルオキシエチル)―アゼチジン―2―オンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2301017A JPH04173795A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | (1′r,3s)―3―(1′―トリ置換シリルオキシエチル)―アゼチジン―2―オンの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04173795A true JPH04173795A (ja) | 1992-06-22 |
Family
ID=17891842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2301017A Pending JPH04173795A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | (1′r,3s)―3―(1′―トリ置換シリルオキシエチル)―アゼチジン―2―オンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04173795A (ja) |
-
1990
- 1990-11-08 JP JP2301017A patent/JPH04173795A/ja active Pending
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