JPH04165290A - 熱処理装置 - Google Patents

熱処理装置

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JPH04165290A
JPH04165290A JP29275790A JP29275790A JPH04165290A JP H04165290 A JPH04165290 A JP H04165290A JP 29275790 A JP29275790 A JP 29275790A JP 29275790 A JP29275790 A JP 29275790A JP H04165290 A JPH04165290 A JP H04165290A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、熱処理装置に関する。
(従来の技術) 一般に、半導体デバイスの製造工程における成膜工程や
熱拡散工程では、例えば被処理物である半導体ウェハを
多数収容する反応管の周囲に、ヒータを配置して構成し
たバッチ式の熱処理装置が使用されている。
このようなバッチ式熱処理装置においては、反応管の外
部や内部に温度検出器例えば熱電対を配置し、これら熱
電対からの検出信号を順次温度測定回路に送り、各熱電
対の配置位置の温度を測定し、これら測定温度に基づい
てヒータに印加する電力を制御することが行われており
、これにより反応管内の温度を所定の温度に制御してい
る。
また、上記反応管内の温度分布の均一性を向上させるた
めに、上記反応管内を複数の領域に分割すると共に、各
領域毎にそれぞれ熱電対を設置し、これら熱電対による
測定温度によって各領域毎にヒータに印加する電力を制
御することが行われている。このような場合、各領域毎
にそれぞれ1本の熱電対が設置される。
(発明が解決しようとする課題) ところで、上述したような熱電対は、それ自体高温雰囲
気に長期開明されると、破断やショート等あ故障が起こ
るという問題を有しており、−船釣にはセラミックス製
の保護管内に収納された状態で設置されているものの、
熱電対の高温雰囲気に対する十分な保護効果は得られて
おらず、故障発生の危険性を存していた。
例えば、上述したような複数の熱電対によって温度制御
を行っている熱処理装置において、1本の熱電対に破断
やショート等が起こった場合においては、ヒータに対し
て異常な電力供給が行われたり、逆にヒータに対する電
力供給が停止されてしまうため、被処理体に対する所定
の温度雰囲気を保持することができず、 1r:118
分の半導体ウェハ全てが不良となる可能性があるという
問題があった。
そして、バッチ式の熱処理装置においては、通常10ッ
ト当り 100枚〜200枚の半導体ウニ/%を一度に
処理することができるように設計されており、熱電対の
故障によって10ツト全ての半導体ウェハが不良となる
と、大きな損害が生じるという改善点を有していた。
本発明は、このような従来技術の課題に対処するために
なされたもので、熱電対のような温度検出器が万一故障
した際にも、温度異常を発生させることなく、正常な運
転を継続して行うことを可能にした熱処理装置を提供す
ることを目的としている。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) すなわち本発明の熱処理装置は、複数の被処理物を収容
する反応容器と、この反応容器を囲繞する如く設けられ
た加熱機構と、前記反応容器内の温度を検出する温度検
出器とを具備する熱処理装置において、前記温度検出器
は、主温度検出器と予備温度検出器とからなり、これら
主温度検出器および予備温度検出器双方で温度測定を行
うと共に、前記主温度検出器に異常が発生した時、該主
温度検出器から予備温度検出器へ切替えるよう構成した
ことを特徴としている。
(作 用) 本発明の熱処理装置においては、温度検出器は主温度検
出器と予備温度検出器とを有しており、通常は主温度検
出器による測定データにしたがって反応容器内の温度制
御が行われる。また、予備温度検出器においても、温度
測定のみは主温度検出器と同様に実施しているため、主
温度検出器が故障した際に、瞬時に正常な予備温度検出
器による温度制御に切り替えることができるので、反応
管内の温度に異常を来すことがない。
(実施例) 以下、本発明の熱処理装置の実施例について図面を参照
して説明する。
第1図に示すように、この実施例のバッチ式熱処理装置
f1は、例えば円筒形状の石英等からなる反応管2の周
囲に、加熱用と−タ3が配置されて構成されており、上
記反応管2内に例えばウェハボート4に収納された多数
の半導体ウェハ5が収容され、所望の熱処理が施される
上記熱処理装置1では、例えば反応管2の長手方向に5
分割された領域A、B、C,D、E毎にヒータ3に印加
する電力を制御し、これらの領域A−E毎に反応管2内
の温度を制御する、5ゾ一ン温度制御方式を採用してい
る。
そして、上記5ゾ一ン温度制御方式を実施するために、
反応管2外部の加熱用ヒータ3の近傍には、各領域A、
B、C,D、E毎に外部用温度検出器例えば熱電対6が
それぞれ設置されている。
また、反応管2の内部にも、各領域A、ESC。
D、E毎にそれぞれ内部用温度検出器例えば熱電対7が
設置されている。
ここで、外部用熱電対6は、第2図に示すように、主熱
電対6aと予備熱電対6bとを有しており、これら主熱
電対6aと予備熱電対6bとにより、はぼ同一の温度測
定を実施することが可能なように、これらは同一の保護
管8内に収容されて構成されている。また、各熱電対6
a、6b、7には、数10MΩの抵抗9bを介して電源
9aがそれぞれに接続されており、上記各熱電対6a、
6b、7が破断した時、所定の電圧が熱電対の一方の配
線に印加されるように構成されている。
また、各熱電対6a、6b、7は、補償導線10を介し
て熱電対の冷接点となる接続器10と接続されている。
この際、外部用熱電対6のうち、主熱電対6aはそれぞ
れ第1の接続器11aと、予備熱電対6bはそれぞれ第
2の接続器11bと接続されており、内部用熱電対7は
それぞれ第3の接続器11cと接続されている。各接続
器11a、llb、12cには、これら接続器自体の温
度測定を行うための補償用温度センサ12がそれぞれ設
置されている。
各熱電対6a、6b、7からの検出信号は、第3図に示
すように、上記補償用温度センサ12からの出力信号と
共に、信号切替え手段例えば半導体アナログマルチプレ
クサ1.3 a 、 13 b 、  13Cに通常の
導線例えばフラットケーブル14によって送られる。ま
た、上記各マルチプレクサ13a、13b、13cには
、上記各熱電対6a16b、7からの検出信号等と共に
、2つの基準信号例えばハ1定対象に応じた最大温度に
相当する電圧COIと、零電圧C82とがそれぞれ人力
されている。
これら基準信号C81、CO2は、後述する温度fll
l+定回路を定圧路るためのものである。
そして、各マルチプレクサ13a、13b、13cは、
温度測定回路20と接続されており、これらマルチプレ
クサ13に入力された熱電対6 a s6b、7からの
検出信号01〜CI8等は、各マルチプレクサ13a、
13b、13cて切り替えられて、順次温度測定回路2
0側に送られる。
上記温度測定回路20は、3台のマルチプレクサ13a
、1.3 b、13cからの信号を切り替えるスイッチ
21.22と、検出信号等を増幅するだめのアンプ23
と、A/Dコンバータ24と、検出信号や基準信号等を
温度に変換する演算式や基準信号C61、CO2に基づ
いて温度測定した電圧値の補正を行う演算式等が記憶さ
れているROM25と、これら演算過程での出力値を一
時記怪するRAM26と、上記ROM25に記憶されて
いる演算式に基づいて検出信号を補正しつつ温度に変換
して測定温度として出力し、かつ測定温度に基づいて加
熱用ヒータ3に印加する電力値の指令信号等を出力する
と共に、上記外部用熱電対6のうち主熱電対6aもしく
は予備熱電対6aによる測定温度のいずれに基づいて温
度制御を行うかを決定するCPU27と、上記指令信号
に応じて加熱用ヒータ3への印加電力を制御する5CR
28等とから構成されている。
なお、上記温度補正は、例えば基準信号C83、CO2
を測定した際の出力電圧値と測定温度値に相当する電圧
値との差に基づいた比例計算によって行うことができる
次に、上記主熱電対6aおよび予備熱電対6bを用いた
温度制御についてについて説明する。
各検出信号01〜CI8は、マルチプレクサ13によっ
て切り替えられて順次温度測定回路20へと送られる。
温度測定回路20による温度測定は、まず反応管2を長
手方向に5分割した各領域A、B、C,D、Hにそれぞ
れ設置された外部用主熱電対6aからの検出信号(C2
〜cb )に基づく温度測定が行われ、次いで上記各領
域ASB、C。
D、Eにそれぞれ設置された外部用予備熱電対6bから
の検出信号(Cs ’= C+□)に基づく温度測定が
行われる。この後、上記各領域A、B、C,D。
Eにそれぞれ設置された内部用熱電対7からの検出信号
(C54〜C28)に基づく温度測定が行われる。
このように、外部用熱電対6による温度測定は、主熱電
対6aおよび予備熱雷対6bそれぞれによって絶えず行
われる。
外部用熱電対6による温度制御は、通常は第4図に示す
ように、主熱電対6aによって行われるようCPU27
によって制御されている(第4図−1O1)。また、外
部用主熱雷対6aからの検出信号(C2〜cb )に基
づく温度測定の際には、外部用主熱電対6aの故障の有
無が判定される(第4図−1O2)。
ここで、外部用主熱電対6aに故障が発生した際には、
外部用予備熱電対6bからの検出信号(t、s〜C+ 
2)による測定温度に基づいて温度制御が行われるよう
に、予め定められたCPU27による処理で自動的に切
り替わる(第4図−1O3)。
外部用主熱電対6aの故障の有無は、主熱電対6aが破
断した際には電源9aの電圧に基づく異常に高い温度が
出力され、主熱電対6aがショートした際には熱起電力
が発生しなくなって室温程度の温度が出力されるため、
急激な温度変化によりCPU27の予め定められた処理
により瞬時に判定することが可能である。
このようにして、外部用主熱電対6aに故障が発生した
際には、外部用予備熱電対6bによって温度制御が行わ
れる。また、外部用予備熱電対6bにより温度制御が行
われている際には、予備熱電対6bの故障の有無が判定
され(第4図−1O4)、予備熱電対6bも故障した際
には、CPU27の予め定められた処理により加熱用ヒ
ータ3への電力供給が停止される(第4図−1O5)。
また、主熱電対6aが故障したとき、CPU27の予め
定められた処理により温度測定回路20の図示しない表
示部に表示されるように構成されている。
なお、上記した外部用熱電対6と内部用熱電対7とによ
る反応管2内の温度制御は、例えば内部用熱電対7から
の出力温度値と外部用熱電対6からの出力温度値との平
均値を所定の比率によって演算し、この平均値に応じて
加熱用ヒータ3に印加する電力を制御することにより行
う。
このように、上記実施例の熱処理装置1においては、外
部用熱電対6を主熱電対6aと予備熱電対6bとで構成
し、これら主および予備熱電対6a、6b双方により随
時温度測定を行うと共に、主熱電対6aが故障した際に
は、瞬時に予備熱電対6bによる温度制御に切り替える
ようにしているため、たとえ主熱電対6aが故障したと
しても、加熱用ヒータ3へ異常な電力供給が行われるこ
とがなく、また加熱用ヒータ3への電力供給を停止する
必要もない。したがって、 10ット当り 100枚〜
200枚という多量の半導体ウェハを処理するバッチ式
の熱処理装置において、熱電対の故障による不良発生を
防止することが可能となる。
なお、上記実施例においては、外部用熱電対6のみに対
して予備熱電対6bを設置した例について説明したが、
当然ながら内部用熱電対7についても予備熱電対を設置
してもよい。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明の熱処理装置によれば、熱
電対等の温度検出器が故障した際にも、温度異常を発生
させることなく、正常な運転を継続して行うことが可能
となる。よって、温度検出器が故障した際の多量な不良
発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のバッチ式熱処理装置の概略
構成を示す図、第2図はその熱電対の構造を示す図、第
3図はその温度測定回路を示す図、第4図は主熱電対と
予備熱電対とによる温度制御方法を示すフローチャート
である。 1・・・・・・熱処理装置、2・・・・・・反応管、3
・・・・・・加熱用ヒータ、6・・・・・・外部用熱電
対、6a・・・・・・主熱電対、6b・・・・・・予備
熱電対、7・・・山内部用熱電対、10・・・・・・補
償導線、11・・・・・・接続器、13・・・・・・マ
ルチプレクサ、20・・・・・・温度測定回路。 第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 複数の被処理物を収容する反応容器と、この反応容器を
    囲繞する如く設けられた加熱機構と、前記反応容器内の
    温度を検出する温度検出器とを具備する熱処理装置にお
    いて、 前記温度検出器は、主温度検出器と予備温度検出器とか
    らなり、これら主温度検出器および予備温度検出器双方
    で温度測定を行うと共に、前記主温度検出器に異常が発
    生した時、該主温度検出器から予備温度検出器へ切替え
    るよう構成したことを特徴とする熱処理装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004335621A (ja) * 2003-05-02 2004-11-25 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置、熱処理システム及び熱処理装置の温度制御方法
JP2010045340A (ja) * 2009-07-10 2010-02-25 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造システム、半導体製造方法、温度制御方法及び温度制御装置
JP2012231145A (ja) * 2012-05-22 2012-11-22 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造システム、半導体製造方法、温度制御方法、温度制御装置及び半導体製造装置のコントローラ
JP2013024813A (ja) * 2011-07-25 2013-02-04 Toshiba Corp 熱電対の異常検知システムおよびその方法
WO2020145183A1 (ja) * 2019-01-07 2020-07-16 株式会社Kokusai Electric 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびヒータユニット
WO2023016967A1 (en) * 2021-08-12 2023-02-16 Sabic Global Technologies B.V. Furnace including heating zones with electrically powered heating elements and related methods
WO2023116602A1 (zh) * 2021-12-21 2023-06-29 北京北方华创微电子装备有限公司 管路控温设备和管路控温方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004335621A (ja) * 2003-05-02 2004-11-25 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置、熱処理システム及び熱処理装置の温度制御方法
JP2010045340A (ja) * 2009-07-10 2010-02-25 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造システム、半導体製造方法、温度制御方法及び温度制御装置
JP2013024813A (ja) * 2011-07-25 2013-02-04 Toshiba Corp 熱電対の異常検知システムおよびその方法
US9261416B2 (en) 2011-07-25 2016-02-16 Kabushiki Kaisha Toshiba Thermocouple abnormality detection system and detection method thereof
JP2012231145A (ja) * 2012-05-22 2012-11-22 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造システム、半導体製造方法、温度制御方法、温度制御装置及び半導体製造装置のコントローラ
WO2020145183A1 (ja) * 2019-01-07 2020-07-16 株式会社Kokusai Electric 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびヒータユニット
KR20210083361A (ko) * 2019-01-07 2021-07-06 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 히터 유닛
JPWO2020145183A1 (ja) * 2019-01-07 2021-10-21 株式会社Kokusai Electric 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびヒータユニット
WO2023016967A1 (en) * 2021-08-12 2023-02-16 Sabic Global Technologies B.V. Furnace including heating zones with electrically powered heating elements and related methods
WO2023116602A1 (zh) * 2021-12-21 2023-06-29 北京北方华创微电子装备有限公司 管路控温设备和管路控温方法

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