JPH04164341A - 半導体集積回路の実装方法 - Google Patents
半導体集積回路の実装方法Info
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- JPH04164341A JPH04164341A JP29159590A JP29159590A JPH04164341A JP H04164341 A JPH04164341 A JP H04164341A JP 29159590 A JP29159590 A JP 29159590A JP 29159590 A JP29159590 A JP 29159590A JP H04164341 A JPH04164341 A JP H04164341A
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- Japan
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- semiconductor chip
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
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- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路の実装方法に関し、特にフィ
ルムを用いたフリップチップ方式による半導体集積回路
の実装方法に関する。
ルムを用いたフリップチップ方式による半導体集積回路
の実装方法に関する。
従来のフリップチップ方式による半導体集積回路の実装
方法は、回路を形成した基板上に、半田めっきにより、
半導体チップの電極に合せて形成された半田ランド上に
半導体チップの電極を合せて半田を溶かし、基板上のラ
ンドに接続する方法と、回路を形成した基板上の半田ラ
ンドに半田ベーストを印刷し、半田ペーストを溶がして
半導体チップと接続する方法とがある。
方法は、回路を形成した基板上に、半田めっきにより、
半導体チップの電極に合せて形成された半田ランド上に
半導体チップの電極を合せて半田を溶かし、基板上のラ
ンドに接続する方法と、回路を形成した基板上の半田ラ
ンドに半田ベーストを印刷し、半田ペーストを溶がして
半導体チップと接続する方法とがある。
従来のフリップチップ方式による半導体チップの実装方
法においては、半導体チップの電極の形状及びピッチに
合せて実装する基板上に半導体チップ接続用のランドを
形成する必要がある。
法においては、半導体チップの電極の形状及びピッチに
合せて実装する基板上に半導体チップ接続用のランドを
形成する必要がある。
半導体チップの電極数が多くなり電極間の間隔が狭くな
ると、それに合せて基板上にランドの形成を行うには、
微細加工の可能な基板が必要になるので基板の種類が制
約されるという問題点があった。
ると、それに合せて基板上にランドの形成を行うには、
微細加工の可能な基板が必要になるので基板の種類が制
約されるという問題点があった。
また、基板上の半導体チップ接続用ランドがらの引き出
し線が増大するとともに、基板上の実装面積も増大し、
高密度の実装が困難になって来るという問題点があった
。
し線が増大するとともに、基板上の実装面積も増大し、
高密度の実装が困難になって来るという問題点があった
。
さらに、半導体チップ及び半導体チップを実装する基板
の熱膨張係数の違いから、半導体チップと基板の接続部
分の劣化により断線が生ずるという問題点もあった。
の熱膨張係数の違いから、半導体チップと基板の接続部
分の劣化により断線が生ずるという問題点もあった。
本発明の目的は、基板の種類の制約がなく、高密度の実
装が可能で、半導体チップと基板の接続部分の劣化のな
い半導体集積回路の実装方法を提供することにある。
装が可能で、半導体チップと基板の接続部分の劣化のな
い半導体集積回路の実装方法を提供することにある。
本発明は、基板導体回路と接続用ランドを形成した基板
上に半導体チップを搭載する半導体集積回路の実装方法
において、半導体チップ電極と前記接続用ランドに接続
する電極と、該電極のそれぞれに接続する回路形成用導
体とを有する半導体チップ実装用フィルムを介して前記
基板上に前記半導体チップが搭載されている。
上に半導体チップを搭載する半導体集積回路の実装方法
において、半導体チップ電極と前記接続用ランドに接続
する電極と、該電極のそれぞれに接続する回路形成用導
体とを有する半導体チップ実装用フィルムを介して前記
基板上に前記半導体チップが搭載されている。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明の第1の実施例による半導体集積回路に
用いる半導体チップ実装用フィルムの分解斜視図、第2
図は第1図の半導体チップ実装用フィルムを用いた第1
の実施例を説明する分解斜視図である。
用いる半導体チップ実装用フィルムの分解斜視図、第2
図は第1図の半導体チップ実装用フィルムを用いた第1
の実施例を説明する分解斜視図である。
第1の実施例は、まず、第1図に示す様に、電極及び回
路形成用導体104を上部フィルム゛ 101と下部フ
ィルム105で挟んで半導体チップ実装用フィルム11
0を形成する。
路形成用導体104を上部フィルム゛ 101と下部フ
ィルム105で挟んで半導体チップ実装用フィルム11
0を形成する。
次に、第2図に示す様に、基板(部分拡大)111上の
半導体チップ実装用フィルム目金せ112と半導体チッ
プ実装用フィルム110の基板百合せマーク103によ
り位置合せを行い、基板111上に半導体チップ実装用
フィルム1101・) を搭載する。
半導体チップ実装用フィルム目金せ112と半導体チッ
プ実装用フィルム110の基板百合せマーク103によ
り位置合せを行い、基板111上に半導体チップ実装用
フィルム1101・) を搭載する。
次に、半導体チップ108の端面を半導体チップ百合せ
マーク107に合わせて半導体チップ108を半導体チ
ップ実装用フィルム110上に搭載する。
マーク107に合わせて半導体チップ108を半導体チ
ップ実装用フィルム110上に搭載する。
実装方法は、半導体チップ実装用フィルム110の半導
体チップ接続用電極窓102及び基板接続用電極窓10
6にあらかじめ半田を付着させ半田バンプを形成してお
き、半一体チップ108と半導体チップ実装用フィルム
110と基板111を位置合せした後、半田の溶融する
温度に加熱して半導体チップ108を半導体チップ実装
用フィルム110に、また、半導体チップ実装用フィル
ム110を基板111に、同時に接続する。接続用ラン
ド114は、位置合せにより基板接続用電極窓106と
合致する。
体チップ接続用電極窓102及び基板接続用電極窓10
6にあらかじめ半田を付着させ半田バンプを形成してお
き、半一体チップ108と半導体チップ実装用フィルム
110と基板111を位置合せした後、半田の溶融する
温度に加熱して半導体チップ108を半導体チップ実装
用フィルム110に、また、半導体チップ実装用フィル
ム110を基板111に、同時に接続する。接続用ラン
ド114は、位置合せにより基板接続用電極窓106と
合致する。
第3図は本発明の第2の実施例による半導体集積回路に
用いる半導体チップ実装用フィルムの分解斜視図、第4
図は第3図の半導体チップ実装用フィルムを用いた第2
の実施例を説明する分解斜視図である。
用いる半導体チップ実装用フィルムの分解斜視図、第4
図は第3図の半導体チップ実装用フィルムを用いた第2
の実施例を説明する分解斜視図である。
第2の実施例は、まず、第3図に示すように、上部フィ
ルム201と絶縁用フィルム206の間に電極及び回路
形成用導体205を挟み、接続用穴207で電極及び回
路形成用導体208と接続し、さらに、下部フィルム2
09を加えて多層構造とする。さらに、絶縁用フィルム
206.電極及び回路形成用導体208を増すことによ
り、3層、4層の多層構造とすることも可能である。ま
た、電極及び回路形成導体205.208を任意に設定
することにより、基板導体回路216を自由に設定出来
る様になっている。半導体チップ方向合せマーク204
は、半導体チップ212の方向を指定している。
ルム201と絶縁用フィルム206の間に電極及び回路
形成用導体205を挟み、接続用穴207で電極及び回
路形成用導体208と接続し、さらに、下部フィルム2
09を加えて多層構造とする。さらに、絶縁用フィルム
206.電極及び回路形成用導体208を増すことによ
り、3層、4層の多層構造とすることも可能である。ま
た、電極及び回路形成導体205.208を任意に設定
することにより、基板導体回路216を自由に設定出来
る様になっている。半導体チップ方向合せマーク204
は、半導体チップ212の方向を指定している。
次に、第4図に示す様に、第1の実施例と同様、基板2
15上の目合せマーク218と半導体チップ実装用フィ
ルム214の基板百合せマーク210により位W金せを
行い、基板215上に半導体チップ実装用フィルム21
4を搭載する。
15上の目合せマーク218と半導体チップ実装用フィ
ルム214の基板百合せマーク210により位W金せを
行い、基板215上に半導体チップ実装用フィルム21
4を搭載する。
次に、半導体チップ212の端面を半導体チップ百合せ
マーク202に合わせて半導体チップ実装用フンルム2
14上に半導体チップ212を搭載する。
マーク202に合わせて半導体チップ実装用フンルム2
14上に半導体チップ212を搭載する。
実装方法は、半導体チップ実装用フィルム114の半導
体チップ接続用電極窓203及び基板接続用電極窓21
1にあらかしめ半田を付着させ半田バンブを形成してお
き、半導体チップ212と半導体チップ実装用フィルム
214と基板215を位置合せした後、半田の溶融する
温度に加熱して半導体チップ212を半導体チップ実装
用フィルム214に、また、半導体チップ実装用フィル
ム214を基板215に、同時に接続する。接続用ラン
ド217は、位置合せにより基板接続用電極窓211と
合致する。
体チップ接続用電極窓203及び基板接続用電極窓21
1にあらかしめ半田を付着させ半田バンブを形成してお
き、半導体チップ212と半導体チップ実装用フィルム
214と基板215を位置合せした後、半田の溶融する
温度に加熱して半導体チップ212を半導体チップ実装
用フィルム214に、また、半導体チップ実装用フィル
ム214を基板215に、同時に接続する。接続用ラン
ド217は、位置合せにより基板接続用電極窓211と
合致する。
以上説明したように本発明は、半導体チップ実装用フィ
ルムを半導体チップと基板の間に実装することにより、
半導体チップの電極の間隔が狭くなっても半導体チップ
実装用フィルムの加工可能範囲であれば、半導体チップ
実装用フィルム内で基板接続位置を調整出来るので、基
板上の導体中及び形状に合せて半導体チップを実装する
ことが可能となり、基板の導体回路形成がやりやすくな
るという効果がある。
ルムを半導体チップと基板の間に実装することにより、
半導体チップの電極の間隔が狭くなっても半導体チップ
実装用フィルムの加工可能範囲であれば、半導体チップ
実装用フィルム内で基板接続位置を調整出来るので、基
板上の導体中及び形状に合せて半導体チップを実装する
ことが可能となり、基板の導体回路形成がやりやすくな
るという効果がある。
又、半導体チ・ツブ実装用フィルム自体に導体回路形成
が出来るのて、基板の実装密度が向上するという効果を
有する。
が出来るのて、基板の実装密度が向上するという効果を
有する。
さらに、半導体チップ実装用フィルムは、素材のもつ性
質から基板と半導体チ・ツブの熱膨張係数の違いによる
伸縮差を吸収し、接続部分の劣化を防ぐという効果も有
する。
質から基板と半導体チ・ツブの熱膨張係数の違いによる
伸縮差を吸収し、接続部分の劣化を防ぐという効果も有
する。
第1図は本発明の第1の実施例による半導体集積回路に
用いる半導体チップ実装用フィルムの分解斜視図、第2
図は第1図の半導体チップ実装用フィルムを用いた第1
の実施例を説明する分解斜視図、第3図は本発明の第2
の実施例による半導体集積回路に用いる半導体チップ実
装用フィルムの分解斜視図、第4図は第3図の半導体チ
ップ実装用フィルムを用いた第1の実施例を説明する分
解斜視図である。 101.201・・・上部フィルム、102,203・
・・半導体チップ接続用電極窓、103,210・・・
基板百合せマーク、104,205.208・・電極及
び回路形成用導体、105,209・・・下部フィルム
、106.211・・・基板接続用電極窓、107.2
02・・・半導体チップ目金せマーク、108.212
・・・半導体チップ、109,213・・・半導体チッ
プ電極、110,114・・・半導体チップ実装用フィ
ルム、111,215・・・基板(部分拡大)、112
・・・半導体チップ実装用フィルム目金せ、113,2
16・・・基板導体回路、114゜217・・・接続用
ランド、204・・・半導体チップ方向合せマーク、2
06・・・絶縁用フィルム、207・・・接続用穴、2
18・・・目合せマーク。
用いる半導体チップ実装用フィルムの分解斜視図、第2
図は第1図の半導体チップ実装用フィルムを用いた第1
の実施例を説明する分解斜視図、第3図は本発明の第2
の実施例による半導体集積回路に用いる半導体チップ実
装用フィルムの分解斜視図、第4図は第3図の半導体チ
ップ実装用フィルムを用いた第1の実施例を説明する分
解斜視図である。 101.201・・・上部フィルム、102,203・
・・半導体チップ接続用電極窓、103,210・・・
基板百合せマーク、104,205.208・・電極及
び回路形成用導体、105,209・・・下部フィルム
、106.211・・・基板接続用電極窓、107.2
02・・・半導体チップ目金せマーク、108.212
・・・半導体チップ、109,213・・・半導体チッ
プ電極、110,114・・・半導体チップ実装用フィ
ルム、111,215・・・基板(部分拡大)、112
・・・半導体チップ実装用フィルム目金せ、113,2
16・・・基板導体回路、114゜217・・・接続用
ランド、204・・・半導体チップ方向合せマーク、2
06・・・絶縁用フィルム、207・・・接続用穴、2
18・・・目合せマーク。
Claims (1)
- 基板導体回路と接続用ランドを形成した基板上に半導
体チップを搭載する半導体集積回路の実装方法において
、半導体チップ電極と前記接続用ランドに接続する電極
と、該電極のそれぞれに接続する回路形成用導体とを有
する半導体チップ実装用フィルムを介して前記基板上に
前記半導体チップを搭載することを特徴とする半導体集
積回路の実装方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2291595A JP2826375B2 (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | 半導体集積回路の実装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2291595A JP2826375B2 (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | 半導体集積回路の実装方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04164341A true JPH04164341A (ja) | 1992-06-10 |
JP2826375B2 JP2826375B2 (ja) | 1998-11-18 |
Family
ID=17770977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2291595A Expired - Lifetime JP2826375B2 (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | 半導体集積回路の実装方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2826375B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01155633A (ja) * | 1987-12-14 | 1989-06-19 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPH0254946A (ja) * | 1988-08-20 | 1990-02-23 | Fujitsu Ltd | 半導体チップの実装方法 |
-
1990
- 1990-10-29 JP JP2291595A patent/JP2826375B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01155633A (ja) * | 1987-12-14 | 1989-06-19 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JPH0254946A (ja) * | 1988-08-20 | 1990-02-23 | Fujitsu Ltd | 半導体チップの実装方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2826375B2 (ja) | 1998-11-18 |
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