JPH04160164A - 金属メッキされたα−オレフィン系重合体不織布およびその製造方法、ならびに該不織布からなる電磁波シールド材 - Google Patents
金属メッキされたα−オレフィン系重合体不織布およびその製造方法、ならびに該不織布からなる電磁波シールド材Info
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Landscapes
- Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
- Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
- Artificial Filaments (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［０００１１
【産業上の利用分野］
本発明は金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形
体およびその製造方法に関し、特に、金属メッキ層とα
−オレフィン系重合体からなる基材との密着性に優れた
金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形体および
該成形体を得ることができる方法に関する。 ［０００２］ 【従来の技術】 ところで、金属メッキの方法として、外部電源を利用し
て電気化学反応によって陰極板上に金属を析出させる電
気メッキ法と、還元剤によりメッキ液中に溶解されてい
る金属を還元して基材の表面に析出させることにより、
金属メッキ層を形成させる化学メッキ（無電解メッキ）
法とがある。電気メッキは、金属等の良導体からなる基
材（被メッキ物）に金属メッキを施す場合に用いられる
方法である。これに対して、化学メッキ法は、良導体の
みならず、紙、不織布、プラスチック等の非導電性材料
に金属メッキを施すことができる方法である。しかも、
化学メッキでは、金属蒸着やスパッタ等の物理的な方法
で用いられるような大規模で特殊な装置を必要とせず、
また基材（被メッキ物）として相当複雑な形状のものに
も適用することができるという利点がある。このような
化学メッキによれば紙、不織布、プラスチック等の非導
電性材料の表面に金属メッキを施し、これらの非導電性
材料に導電性や磁性等を付与することができる。そのた
め、化学メッキ法は、新しい複合材料を製造するための
方法として、最近注目されている。 ［０００３］ この化学メッキ法により各種非導電性材料に金属メッキ
を施す方法が種々提案されている。例えば、特開昭６１
−２０７６６６号公報には、陽イオン性、陰イオン性お
よび非イオン性界面活性剤の１種または２種以上を含む
パラジウムヒドロゾル中に、セルロース繊維成形物を浸
漬し、セルロース繊維成形物の外層部にパラジウムコロ
イド粒子を吸着させた後、水洗するか、または水洗、乾
燥し、次いで、パラジウムコロイド粒子が吸着している
セルロース繊維成形物を化学メッキすることによって、
外層部の構成繊維のみが金属メッキされたセルロース繊
維成形物を得る方法が開示されている。 ［０００４］ また、特開昭６２−２１５０６９号公報には、陽イオン
性、陰イオン性および非イオン性界面活性剤の１種また
は２種以上を含むパラジウムヒドロゾル中に糸を浸漬し
て、糸の表面にパラジウムコロイド粒子を吸着させ、次
いで、水洗、濾過した後、パラジウムコロイド粒子が吸
着されている糸を化学メッキすることによって、表面が
金属メッキされた糸を得る方法が開示されている。この
方法において、被メッキ物である糸として、毛、絹、綿
等の天然繊維、ポリエステル、ナイロン等の化学繊維な
どが挙げられている。 ［０００５］
体およびその製造方法に関し、特に、金属メッキ層とα
−オレフィン系重合体からなる基材との密着性に優れた
金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形体および
該成形体を得ることができる方法に関する。 ［０００２］ 【従来の技術】 ところで、金属メッキの方法として、外部電源を利用し
て電気化学反応によって陰極板上に金属を析出させる電
気メッキ法と、還元剤によりメッキ液中に溶解されてい
る金属を還元して基材の表面に析出させることにより、
金属メッキ層を形成させる化学メッキ（無電解メッキ）
法とがある。電気メッキは、金属等の良導体からなる基
材（被メッキ物）に金属メッキを施す場合に用いられる
方法である。これに対して、化学メッキ法は、良導体の
みならず、紙、不織布、プラスチック等の非導電性材料
に金属メッキを施すことができる方法である。しかも、
化学メッキでは、金属蒸着やスパッタ等の物理的な方法
で用いられるような大規模で特殊な装置を必要とせず、
また基材（被メッキ物）として相当複雑な形状のものに
も適用することができるという利点がある。このような
化学メッキによれば紙、不織布、プラスチック等の非導
電性材料の表面に金属メッキを施し、これらの非導電性
材料に導電性や磁性等を付与することができる。そのた
め、化学メッキ法は、新しい複合材料を製造するための
方法として、最近注目されている。 ［０００３］ この化学メッキ法により各種非導電性材料に金属メッキ
を施す方法が種々提案されている。例えば、特開昭６１
−２０７６６６号公報には、陽イオン性、陰イオン性お
よび非イオン性界面活性剤の１種または２種以上を含む
パラジウムヒドロゾル中に、セルロース繊維成形物を浸
漬し、セルロース繊維成形物の外層部にパラジウムコロ
イド粒子を吸着させた後、水洗するか、または水洗、乾
燥し、次いで、パラジウムコロイド粒子が吸着している
セルロース繊維成形物を化学メッキすることによって、
外層部の構成繊維のみが金属メッキされたセルロース繊
維成形物を得る方法が開示されている。 ［０００４］ また、特開昭６２−２１５０６９号公報には、陽イオン
性、陰イオン性および非イオン性界面活性剤の１種また
は２種以上を含むパラジウムヒドロゾル中に糸を浸漬し
て、糸の表面にパラジウムコロイド粒子を吸着させ、次
いで、水洗、濾過した後、パラジウムコロイド粒子が吸
着されている糸を化学メッキすることによって、表面が
金属メッキされた糸を得る方法が開示されている。この
方法において、被メッキ物である糸として、毛、絹、綿
等の天然繊維、ポリエステル、ナイロン等の化学繊維な
どが挙げられている。 ［０００５］
そこで、この特開昭６２−２１５０６９号公報に記載の
方法を適用して、α−オレフィン系重合体からなる不織
布の表面に金属メッキ層を形成することを試みた。しか
し、α−オレフィン系重合体、例えば、ポリプロピレン
は、もともと親木基を有しないものであるため、上記特
開昭６２−２１５０６９号公報に記載の方法によっては
、金属メッキ層と不織布からなる基材層との間の密着性
が不十分っな。 ［０００６］ そこで本発明の目的は、密着強度に擾れ、表面光沢が良
好で膨れかない金属メッキ層を表面に有する、金属メッ
キされたα−オレフィン系重合体成形体を提供すること
にある。 ［０００７］
方法を適用して、α−オレフィン系重合体からなる不織
布の表面に金属メッキ層を形成することを試みた。しか
し、α−オレフィン系重合体、例えば、ポリプロピレン
は、もともと親木基を有しないものであるため、上記特
開昭６２−２１５０６９号公報に記載の方法によっては
、金属メッキ層と不織布からなる基材層との間の密着性
が不十分っな。 ［０００６］ そこで本発明の目的は、密着強度に擾れ、表面光沢が良
好で膨れかない金属メッキ層を表面に有する、金属メッ
キされたα−オレフィン系重合体成形体を提供すること
にある。 ［０００７］
前記課題を解決するために、本発明は、不飽和カルボン
酸およびその酸誘導体から選ばれる少なくとも１種のグ
ラフト変性単量体でグラフト変性された表面を有するα
−オレフィン系重合体からなる基材と、該基材の少なく
とも片面に形設された化学金属メッキ層とを有する金属
メッキされたα−オレフィン系重合体成形体を提供する
も・のである。 ；：。 ［０００８］ また、本発明は、不飽和カルボン酸およびその酸誘導体
から選ばれる少なくとも１種のグラフト変性単量体でグ
ラフト変性された表面を有するα−オレフィン系重合体
不織布からなる基材と、該基材の少なくとも片面に形設
された化学金属メッキ層とを有する金属メッキされたα
−オレフィン系重合体成形体を提供するものである。 ［０００９］ 前記α−オレフィン系系重合体不織布力水ポリプロピレ
ン系不織布あると、好ましい。 ［００１０］ 前記グラフト変性単量体が、アクリルアミドであると、
好ましい。 ［００１１］ また、本発明は、前記金属メッキされたα−オレフィン
系重合体成形体の製造方法として、α−オレフィン系重
合体からなる基材に不飽和カルボン酸およびその酸誘導
体から選ばれる少なくとも１種のグラフト変性単量体を
グラフト共重合させて、少なくとも表面がグラフト変性
された基材を製造し、該グラフト変性さ基材の表面に定
着させた後、化学金属メッキ処理を行なう工程を有する
金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形体の製造
方法をも提供するものである。 ［００１２］ また、この製造方法の実施態様として、α−オレフィン
系重合体不織布からなる基材に不飽和カルボン酸および
その酸誘導体から選ばれる少なくとも１種のグラフト変
性単量体をグラフト共重合させて、少なくとも表面がグ
ラフト変性された基材を製造し、該グラフト変性された
基材の被メッキ対象面をパラジウム化合物で処理して該
パラジウム化合物を基材の表面に定着させた後、化学金
属メッキ処理を行なう工程を有する金属メッキされたα
−オレフィン系重合体成形体の製造方法を提供するもの
である。 ［００１３］ 前記α−オレフィン系重合体不織布が、ポリプロピレン
系不織布であると、好ましい。 ［００１４］ 前記グラフト変性単量体が、アクリルアミドであると、
好ましい。 ［００１５］ 前記パラジウム化合物による処理が、基材を不飽和カル
ボン酸およびその酸誘導体から選ばれる少なくとも１種
のグラフト変性単量体でグラフト共重合されて少なくと
も表面がグラフト変性された基材を、パラジウムヒドロ
ゾル中に浸漬して該基材の表面にパラジウムコロイド粒
子を吸着させた後、該基材を水洗して該基材に吸着して
いないパラジウムコロイド粒子を除去する工程からなる
と、好ましい。 ［００１６］ 以下、本発明について詳細に説明する。 ［００１７］ 本発明の金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形
体の基材に用いられるα−オレフィン系重合体は、α−
オレフィンの単独重合体、２種以上のα−オレフィンの
共重合体、もしくはα−オレフィンを主成分とし、α−
オレフィンと該α−オレフィンと共重合可能な他の化合
物との共重合体である。 このα〜オレフィンとしては
、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メ
チル−１−ペンテン等が挙げられる。 ［００１８］ このα−オレフィン系重合体の具体例として、ポリエチ
レン、ポリプロピレンプロピレン−エチレン共重合体等
が挙げられる。 ［００１９］ このα−オレフィン系重合体からなる基材の形態は、い
ずれのものでもよく、特に制限されない。例えば、α−
オレフィン系重合体のシート、フィルムあるいはα−オ
レフィン系重合体を溶融紡糸して得られるフィラメント
を主成分とする不織布などが挙げられる。特に、本発明
は、基材として、ポリプロピレン系不織布を用いる場合
に、好ましく適用される。このポリプロピレン系不織布
としてはプロピレンを主成分とするフィラメントを含む
不織布であり、例えば、ポリプロピレン、またはプロピ
レンを主体とし、これに少量のエチレンを共重合させて
得られるプロピレン−エチレン共重合体を溶融紡糸して
なるフィラメント；またはポリプロピレンを主体とし、
ポリプロピレンに対して相溶性を有するポリアミド系、
ポリアクリル系等の他の熱可塑性重合体との混合物を溶
融紡糸して得られるフィラメント；あるいはプロピレン
系重合体を溶融紡糸して得られるフィラメントと前記ポ
リプロピレンに対して相溶性を有する他の熱可塑性重合
体を溶融紡糸して得られるフィラメントとの混合フィラ
メントを、接着剤を用いるか、熱融着するか、あるいは
機械的にフィラメントを絡みあわせて形成された不織布
が挙げられる。これらのポリプロピレン系不織布の中で
も、特に、不織布としての生産性、経済性、強度等の点
で、ポリプロピレン単独からなるフィラメントを熱融着
によって成形してなる不織布が好ましい。 ［００２０３ また、本発明において、基材としてα−オレフィン系重
合体からなる不織布を用いる場合、そのα−オレフィン
系重合体からなる不織布の厚さは、通常、１６０〜４３
０μｍ程度、好ましくは１６０〜３６０μｍ程度である
。また、目付量は、通常、２０〜１００ｇ／ｍ 程度で
あり、２０〜７０ｇ／ｍ２程度であル（７）が好ましい
。 ［００２１３ また、本発明の金属メッキされたα−オレフィン系重合
体成形体は、前記基材の少なくとも片面に、化学金属メ
ッキ層を有するものである。 ［００２２］ この化学金属メッキ層を構成する金属としては、銅、ニ
ッケル、コバルト、銀白金、金等が挙げられ、要求され
る特性、性能等にしたがって適宜選択される。例えば、
金属として銅を用いた場合には、電磁波シールド特性に
優れた成形体が得られる。特に、金属として銅を用い、
基材として不織布を用いる場合には、電磁波シールド特
性に優れた不織布を得ることができ、この不織布は、Ｏ
Ａルームの電磁波シールド材、高周波機器ルームのシー
ルド材、シールド衣服等の用途に好適である。 ［００２３］ この化学金属メッキ層の厚さも、要求される性能、使用
される金属、基材層の材質等に応じて適宜選択されるが
、通常、１〜２μｍ程度である。 ［００２４］ また、この化学金属メッキ層は、前記基材層の片面のみ
に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよ
い。 ［００２５］ 本発明の金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形
体の製造は、例えば、α−オレフィン系重合体からなる
基材に不飽和カルボン酸およびその酸誘導体から選ばれ
る少なくとも１種のグラフト変性単量体をグラフト共重
合させて、少なくとも表面がグラフト変性された基材を
製造し、該グラフト変性された基材の被メッキ対象面を
パラジウム化合物で処理して該パラジウム化合物を基材
の表面に定着させた後、化学金属メッキ処理を行なう工
程を有する方法によって行うことができる。 ［００２６］ 以下、この方法について詳細に説明する。 ［００２７］ 本発明の方法においては、まず、前記α−オレフィン系
重合体からなる成形体に、不飽和カルボン酸およびその
酸誘導体から選ばれる少なくとも１種のグラフト変性単
量体をグラフト共重合させて少なくとも表面がグラフト
変性された成形体を製造し、これを基材とする。 ［００２８］ このグラフト共重合は、前記α−オレフィン系重合体成
形体に、予めプラズマ放電処理、電子線等の活性エネル
ギー光線照射処理などの活性化処理を行なってから、も
しくは該活性化処理を行ないながら、グラフト変性単量
体を水または水／メタノール混合溶媒等の適当な溶媒に
溶解してなる溶液を塗布もしくは浸漬して行なうことが
できる。 また、α−オレフィン系重合体成形体にグラ
フト変性単量体の溶液を塗布、あるいは該溶液に浸漬し
た後、前記活性化処理して行なうこともできる。 ［００２９］ グラフト変性単量体として用いられる不飽和カルボン酸
としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイ
ン酸、フマール酸、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸
、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ナジッ
ク酸（エンドシス−ビシクロ〔２，２，１〕ヘプト−１
−エン−２，３−ジカルボン酸）等の不飽和モノまたは
ジカルボン酸などが挙げられる。また、不飽和カルボン
酸の酸誘導体としては、例えば、上記不飽和カルボン酸
の酸ハライド、アミド、イミド、無水物、エステルなど
が挙げられ、具体的には、塩化マレニル、マレイミド、
無水マレイン酸、無水シトラコン酸、マレイン酸モノメ
チル、マレイン酸ジメチルグリシジルマレエートなどが
挙げられる。これらは、１種単独でも２種以上を組み合
わせても用いられる。 これらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン
酸等の不飽和モノまたはジカルボン酸、ならびにその無
水物、アミドが好ましく、特に金属メッキ層とα−オレ
フィン系重合体からなる基材との間の密着強度が優れる
点で、アクリルアミドが好ましい。 ［００３０］ グラフト共重合において、グラフト変性単量体の使用量
は、α−オレフィン系重合体成形体１００重量部に対し
て、通常、０．１〜５００重量部程重量部型しくば０．
３〜３００重量部程重量部台である。 ［００３１］ また、活性化処理として行なわれるプラズマ放電処理は
、通常、圧力１×１０−４〜１０ＴＯｒｒ程度、好まし
くは１０’〜３Ｔｏｒｒ程度の減圧度、出力１０ ２０
０Ｗ程度、好ましくは５０〜１００Ｗ程度、ならびに照
射時間０．１〜３００秒、好ましくは１０〜１００秒の
条件で行なえばよい。 ［００３２］ プラズマ放電の形式としては、いずれの形式のものでも
よく、例えば、高周波放電、マイクロ波放電、ブロー放
電等が挙げられる。また、プラズマ放電に用いられる気
体としては、空気、窒素、アルゴン、ヘリウム等が挙げ
られ、１種単独でも２種以上の混合気体としても用いら
れる。これらの中でも、窒素、アルゴンヘリウムが好ま
しい。 ［００３３］ このプラズマ放電処理によりα−オレフィン系重合体成
形体を活性化処理した後、グラフト変性単量体とグラフ
ト共重合させる場合には、グラフト共重合反応を、空気
の不存在下に、窒素等の不活性雰囲気中で行なう。 ［００３４］ また、電子線照射処理は、例えば、加速電圧１００〜１
００ＯＫＶ程度、好ましくは２００〜４００ＫＶ程度、
電子流１〜２０ｍＡ程度、好ましくは２〜１５ｍＡ程度
、特に好ましくは３〜１０ｍＡ程度、照射線量０．１〜
３０Ｍｒａｄ程度好ましくは０．５〜１５Ｍｒａｄ程度
の条件下に行なえばよい。 この電子線照射による活性
化処理されたα−オレフィン系重合体成形体は、そのま
ま放置しておいてもよいが、−５０℃程度の低温に保持
しておくと、好ましい。 ［００３５］ 活性化処理を上記の電子線照射により行なう場合は、作
業性が良好となる点でα−オレフィン系重合体不織布に
電子線照射による活性化処理を施した後、窒素等の不活
性雰囲気中でグラフト変性単量体の溶液中に浸漬してグ
ラフト共重合させる方法が特に好ましい。 ［００３６］ プラズマ放電処理や電子線照射処理などの活性エネルギ
ー光線の照射による活性化処理を施した後、グラフト変
性を行う方法は、あらゆる形態の基材に容易にグラフト
変性を行うことができる点で、極めて効率的なグラフト
変性方法である。例えば、あらゆる形態の不織布もしく
は使用時に筒状や折り畳むような形態をなす不織布等に
ついても容易にグラフト変性を施すことができる。 ［００３７］ グラフト共重合の反応温度は、使用されるグラフト変性
単量体の種類等にもよるが、通常、Ｏ〜８０℃程度、好
ましくは室温〜６０℃程度である。 また、反応時間は
、通常、１〜１２０分程度、好ましくは５〜６０分程度
である。 ［００３８］ さらに、グラフト共重合は、窒素等の不活性雰囲気中で
行なうと好ましい。 ［００３９］ グラフト共重合反応後は、得られたグラフト変性された
基材を水洗し、未反応のグラフト変性単量体や生成する
ホモポリマーを除去すると、望ましい。 ［００４０３ 以上のようにして、グラフト変性単量体で少なくとも表
面がグラフト変性されたα−オレフィン系重合体成形体
は、その表面がグラフト変性により親水性を有すること
となり、これに化学メッキを施すことにより、金属メッ
キされたα−オレフィン系重合体成形体を得ることがで
きる。 ［００４１３ すなわち、以上のようにして、少なくとも表面がグラフ
ト変性された基材の被メッキ対象面をパラジウム化合物
で処理して該パラジウム化合物を定着させた後、化学金
属メッキ処理を行なうことにより、金属メッキされたα
−オレフィン系重合体成形体を得ることができる。 ［００４２］ グラフト変性された基材のパラジウム化合物による処理
は、例えば、グラフト変性された基材をパラジウムヒド
ロゾル中に浸漬してグラフト変性された基材の表面にパ
ラジウムコロイド粒子を吸着させることにより行なうこ
とができる。 ［００４３］ 用いられるパラジウムヒドロゾルは、例えば、陽イオン
性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤および非イオン性
界面活性剤から選ばれる少なくとも１種の界面活性剤の
存在下に、パラジウム（ＩＩ）塩水溶液を還元剤で還元
処理する方法など（特開昭５９−１２０２４９号公報所
載の方法）によって得ることができるものである。 ［００４４］ 用いられる陽イオン性界面活性剤の具体例としては、ス
テアリルトリメチルアンモニウムクロライド等が挙げら
れ、陰イオン性界面活性剤の具体例としては、ドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム等が挙げられ、非イオン
性界面活性剤の具体例としては、ポリエチレングリコー
ル−ｐ−ノニルフェニルエーテル等が挙げられ、これら
の界面活性剤は、パラジウムヒドロゾルの凝集沈殿を防
止するために用いられる。 ［００４５］ パラジウムヒドロゾル中の界面活性剤の濃度は、安定し
たパラジウムヒドロゾルが得られ、グラフト変性不織布
の表面にパラジウムコロイド粒子が速やかに吸着される
点で、０．００２〜１重量９６の範囲にあると、望まし
い。 ［００４６］ また、パラジウム（ＩＩ）塩の具体例としては、塩化パ
ラジウム（！Ｉ）等が挙げられる。 ［００４７］ 還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、ジ
メチルアミンボラン、ヒドラジン等が挙げられる。 ［００４８］ このパラジウムヒドロゾル中のパラジウムの濃度は、安
定したパラジウムヒドロゾルが得られる点で、通常、０
．１〜５ｍｇ−原子／１、好ましくは０．３〜２５ｍｇ
−原子／１、さらに好ましくは０． ５〜１．０ｍｇ−
原子／１の範囲に調整される。 ［００４９］ 以上のようなパラジウム化合物による処理によって、グ
ラフト変性された基材の表面に、パラジウムコロイド粒
子が、通常、０．０１〜０．１重量％、好ましくは０．
００５〜０．０５重量％、さらに好ましくは０．００８
〜０．０２重量％の範囲で均一に吸着される。 ［００５０］ 本発明のパラジウム化合物による処理において、パラジ
ウムコロイド粒子の基材表面への吸着速度は、パラジウ
ムヒドロゾルの温度、濃度および使用される界面活性材
の種類等により異なり、目的に応じて適宜、これらの条
件を選択すればよい。 ［００５１］ このパラジウム化合物による処理は、通常、Ｏ〜１００
℃程度、好ましくはＯ〜５０℃程度の温度で行なわれる
。この温度は、目的に応じて適宜選択される。 パラジウムコロイド粒子の基材の表面への吸着速度は、
使用されるパラジウムヒドロゾルの温度が高いほど早く
なる傾向がある。 ［００５２］ また、パラジウムコロイド粒子の吸着速度は、使用され
る界面活性剤の種類によっても異なり、室温（２５℃）
においては、陰イオン性界面活性剤を使用した場合が最
も早く１、次いで、陽イオン性界面活性剤を使用した場
合がこれに続き、非イオン性界面活性剤を使用した場合
は、極端に遅くなる。また、非イオン性界面活性剤を使
用した場合のパラジウムコロイド粒子の吸着速度は、高
温になる程急速に早くなる傾向にある。 ［００５３］ このとき、前記パラジウム化合物による処理を行なった
後、水洗して、必要に応じてさらに乾燥して、グラフト
変性された基材に吸着されていない余分のパラジウムコ
ロイド粒子を除去しておくと、後段の化学金属メッキに
おいて、余分のパラジウムコロイド粒子自体に化学メッ
キされることなく、メッキ効率が良好となる点で、望ま
しい。水洗後に得られた排水は、濾過により含有するパ
ラジウムコロイド粒子を回収することができる。 ［００５４］ 次に、以上のようにパラジウムコロイド粒子が表面に吸
着された基材に、化学金属メッキを施して、金属メッキ
層を形成して、本発明の金属メッキされたα−オレフィ
ン系重合体成形体を得ることができる。 ［００５５］ 本発明の方法において行われる化学金属メッキは、特に
限定されず、常法にしたがって行なうことができる。例
えば、前記パラジウムコロイド粒子が吸着された基材を
、還元剤を含む化学金属メッキ液に浸漬し、該化学金属
メッキ液中の金属イオンの還元を、基材の表面にに吸着
されたパラジウムコロイド粒子の作用により行なわせ、
金属メッキ層を基材の被メッキ対象面に形成することが
できる。 ［００５６］ 用いられる化学金属メッキ液は、前記金属メッキ層を構
成する金属のイオンを含む中性、酸性またはアルカリ性
の溶液が挙げられる。 ［００５７］ また、還元剤としては、次亜リン酸ナトリウム、ホルム
アルデヒド、水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。 これらは１種単独でも２種以上を組合せても用いられ
る。 ［００５８］ 本発明の金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形
体は、金属メッキ層と成形体からなる基材との密着強度
に優れるため、その特性を生かして各種用途に好適に用
いることができる。例えば、金属メッキとして銅等の導
電性金属を基材に被着させれば、電磁波シールド特性、
および表面抵抗、体積固有抵抗等の電気特性に侵れる不
織布が得られ、これは、帯電防止材、電磁波シールド材
、ＩＣパッケージ材等に好適である。また、カーペット
、濾材、各種の装飾用材料等にも用いることができる。 ［００５９］
酸およびその酸誘導体から選ばれる少なくとも１種のグ
ラフト変性単量体でグラフト変性された表面を有するα
−オレフィン系重合体からなる基材と、該基材の少なく
とも片面に形設された化学金属メッキ層とを有する金属
メッキされたα−オレフィン系重合体成形体を提供する
も・のである。 ；：。 ［０００８］ また、本発明は、不飽和カルボン酸およびその酸誘導体
から選ばれる少なくとも１種のグラフト変性単量体でグ
ラフト変性された表面を有するα−オレフィン系重合体
不織布からなる基材と、該基材の少なくとも片面に形設
された化学金属メッキ層とを有する金属メッキされたα
−オレフィン系重合体成形体を提供するものである。 ［０００９］ 前記α−オレフィン系系重合体不織布力水ポリプロピレ
ン系不織布あると、好ましい。 ［００１０］ 前記グラフト変性単量体が、アクリルアミドであると、
好ましい。 ［００１１］ また、本発明は、前記金属メッキされたα−オレフィン
系重合体成形体の製造方法として、α−オレフィン系重
合体からなる基材に不飽和カルボン酸およびその酸誘導
体から選ばれる少なくとも１種のグラフト変性単量体を
グラフト共重合させて、少なくとも表面がグラフト変性
された基材を製造し、該グラフト変性さ基材の表面に定
着させた後、化学金属メッキ処理を行なう工程を有する
金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形体の製造
方法をも提供するものである。 ［００１２］ また、この製造方法の実施態様として、α−オレフィン
系重合体不織布からなる基材に不飽和カルボン酸および
その酸誘導体から選ばれる少なくとも１種のグラフト変
性単量体をグラフト共重合させて、少なくとも表面がグ
ラフト変性された基材を製造し、該グラフト変性された
基材の被メッキ対象面をパラジウム化合物で処理して該
パラジウム化合物を基材の表面に定着させた後、化学金
属メッキ処理を行なう工程を有する金属メッキされたα
−オレフィン系重合体成形体の製造方法を提供するもの
である。 ［００１３］ 前記α−オレフィン系重合体不織布が、ポリプロピレン
系不織布であると、好ましい。 ［００１４］ 前記グラフト変性単量体が、アクリルアミドであると、
好ましい。 ［００１５］ 前記パラジウム化合物による処理が、基材を不飽和カル
ボン酸およびその酸誘導体から選ばれる少なくとも１種
のグラフト変性単量体でグラフト共重合されて少なくと
も表面がグラフト変性された基材を、パラジウムヒドロ
ゾル中に浸漬して該基材の表面にパラジウムコロイド粒
子を吸着させた後、該基材を水洗して該基材に吸着して
いないパラジウムコロイド粒子を除去する工程からなる
と、好ましい。 ［００１６］ 以下、本発明について詳細に説明する。 ［００１７］ 本発明の金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形
体の基材に用いられるα−オレフィン系重合体は、α−
オレフィンの単独重合体、２種以上のα−オレフィンの
共重合体、もしくはα−オレフィンを主成分とし、α−
オレフィンと該α−オレフィンと共重合可能な他の化合
物との共重合体である。 このα〜オレフィンとしては
、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、４−メ
チル−１−ペンテン等が挙げられる。 ［００１８］ このα−オレフィン系重合体の具体例として、ポリエチ
レン、ポリプロピレンプロピレン−エチレン共重合体等
が挙げられる。 ［００１９］ このα−オレフィン系重合体からなる基材の形態は、い
ずれのものでもよく、特に制限されない。例えば、α−
オレフィン系重合体のシート、フィルムあるいはα−オ
レフィン系重合体を溶融紡糸して得られるフィラメント
を主成分とする不織布などが挙げられる。特に、本発明
は、基材として、ポリプロピレン系不織布を用いる場合
に、好ましく適用される。このポリプロピレン系不織布
としてはプロピレンを主成分とするフィラメントを含む
不織布であり、例えば、ポリプロピレン、またはプロピ
レンを主体とし、これに少量のエチレンを共重合させて
得られるプロピレン−エチレン共重合体を溶融紡糸して
なるフィラメント；またはポリプロピレンを主体とし、
ポリプロピレンに対して相溶性を有するポリアミド系、
ポリアクリル系等の他の熱可塑性重合体との混合物を溶
融紡糸して得られるフィラメント；あるいはプロピレン
系重合体を溶融紡糸して得られるフィラメントと前記ポ
リプロピレンに対して相溶性を有する他の熱可塑性重合
体を溶融紡糸して得られるフィラメントとの混合フィラ
メントを、接着剤を用いるか、熱融着するか、あるいは
機械的にフィラメントを絡みあわせて形成された不織布
が挙げられる。これらのポリプロピレン系不織布の中で
も、特に、不織布としての生産性、経済性、強度等の点
で、ポリプロピレン単独からなるフィラメントを熱融着
によって成形してなる不織布が好ましい。 ［００２０３ また、本発明において、基材としてα−オレフィン系重
合体からなる不織布を用いる場合、そのα−オレフィン
系重合体からなる不織布の厚さは、通常、１６０〜４３
０μｍ程度、好ましくは１６０〜３６０μｍ程度である
。また、目付量は、通常、２０〜１００ｇ／ｍ 程度で
あり、２０〜７０ｇ／ｍ２程度であル（７）が好ましい
。 ［００２１３ また、本発明の金属メッキされたα−オレフィン系重合
体成形体は、前記基材の少なくとも片面に、化学金属メ
ッキ層を有するものである。 ［００２２］ この化学金属メッキ層を構成する金属としては、銅、ニ
ッケル、コバルト、銀白金、金等が挙げられ、要求され
る特性、性能等にしたがって適宜選択される。例えば、
金属として銅を用いた場合には、電磁波シールド特性に
優れた成形体が得られる。特に、金属として銅を用い、
基材として不織布を用いる場合には、電磁波シールド特
性に優れた不織布を得ることができ、この不織布は、Ｏ
Ａルームの電磁波シールド材、高周波機器ルームのシー
ルド材、シールド衣服等の用途に好適である。 ［００２３］ この化学金属メッキ層の厚さも、要求される性能、使用
される金属、基材層の材質等に応じて適宜選択されるが
、通常、１〜２μｍ程度である。 ［００２４］ また、この化学金属メッキ層は、前記基材層の片面のみ
に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよ
い。 ［００２５］ 本発明の金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形
体の製造は、例えば、α−オレフィン系重合体からなる
基材に不飽和カルボン酸およびその酸誘導体から選ばれ
る少なくとも１種のグラフト変性単量体をグラフト共重
合させて、少なくとも表面がグラフト変性された基材を
製造し、該グラフト変性された基材の被メッキ対象面を
パラジウム化合物で処理して該パラジウム化合物を基材
の表面に定着させた後、化学金属メッキ処理を行なう工
程を有する方法によって行うことができる。 ［００２６］ 以下、この方法について詳細に説明する。 ［００２７］ 本発明の方法においては、まず、前記α−オレフィン系
重合体からなる成形体に、不飽和カルボン酸およびその
酸誘導体から選ばれる少なくとも１種のグラフト変性単
量体をグラフト共重合させて少なくとも表面がグラフト
変性された成形体を製造し、これを基材とする。 ［００２８］ このグラフト共重合は、前記α−オレフィン系重合体成
形体に、予めプラズマ放電処理、電子線等の活性エネル
ギー光線照射処理などの活性化処理を行なってから、も
しくは該活性化処理を行ないながら、グラフト変性単量
体を水または水／メタノール混合溶媒等の適当な溶媒に
溶解してなる溶液を塗布もしくは浸漬して行なうことが
できる。 また、α−オレフィン系重合体成形体にグラ
フト変性単量体の溶液を塗布、あるいは該溶液に浸漬し
た後、前記活性化処理して行なうこともできる。 ［００２９］ グラフト変性単量体として用いられる不飽和カルボン酸
としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイ
ン酸、フマール酸、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸
、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ナジッ
ク酸（エンドシス−ビシクロ〔２，２，１〕ヘプト−１
−エン−２，３−ジカルボン酸）等の不飽和モノまたは
ジカルボン酸などが挙げられる。また、不飽和カルボン
酸の酸誘導体としては、例えば、上記不飽和カルボン酸
の酸ハライド、アミド、イミド、無水物、エステルなど
が挙げられ、具体的には、塩化マレニル、マレイミド、
無水マレイン酸、無水シトラコン酸、マレイン酸モノメ
チル、マレイン酸ジメチルグリシジルマレエートなどが
挙げられる。これらは、１種単独でも２種以上を組み合
わせても用いられる。 これらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン
酸等の不飽和モノまたはジカルボン酸、ならびにその無
水物、アミドが好ましく、特に金属メッキ層とα−オレ
フィン系重合体からなる基材との間の密着強度が優れる
点で、アクリルアミドが好ましい。 ［００３０］ グラフト共重合において、グラフト変性単量体の使用量
は、α−オレフィン系重合体成形体１００重量部に対し
て、通常、０．１〜５００重量部程重量部型しくば０．
３〜３００重量部程重量部台である。 ［００３１］ また、活性化処理として行なわれるプラズマ放電処理は
、通常、圧力１×１０−４〜１０ＴＯｒｒ程度、好まし
くは１０’〜３Ｔｏｒｒ程度の減圧度、出力１０ ２０
０Ｗ程度、好ましくは５０〜１００Ｗ程度、ならびに照
射時間０．１〜３００秒、好ましくは１０〜１００秒の
条件で行なえばよい。 ［００３２］ プラズマ放電の形式としては、いずれの形式のものでも
よく、例えば、高周波放電、マイクロ波放電、ブロー放
電等が挙げられる。また、プラズマ放電に用いられる気
体としては、空気、窒素、アルゴン、ヘリウム等が挙げ
られ、１種単独でも２種以上の混合気体としても用いら
れる。これらの中でも、窒素、アルゴンヘリウムが好ま
しい。 ［００３３］ このプラズマ放電処理によりα−オレフィン系重合体成
形体を活性化処理した後、グラフト変性単量体とグラフ
ト共重合させる場合には、グラフト共重合反応を、空気
の不存在下に、窒素等の不活性雰囲気中で行なう。 ［００３４］ また、電子線照射処理は、例えば、加速電圧１００〜１
００ＯＫＶ程度、好ましくは２００〜４００ＫＶ程度、
電子流１〜２０ｍＡ程度、好ましくは２〜１５ｍＡ程度
、特に好ましくは３〜１０ｍＡ程度、照射線量０．１〜
３０Ｍｒａｄ程度好ましくは０．５〜１５Ｍｒａｄ程度
の条件下に行なえばよい。 この電子線照射による活性
化処理されたα−オレフィン系重合体成形体は、そのま
ま放置しておいてもよいが、−５０℃程度の低温に保持
しておくと、好ましい。 ［００３５］ 活性化処理を上記の電子線照射により行なう場合は、作
業性が良好となる点でα−オレフィン系重合体不織布に
電子線照射による活性化処理を施した後、窒素等の不活
性雰囲気中でグラフト変性単量体の溶液中に浸漬してグ
ラフト共重合させる方法が特に好ましい。 ［００３６］ プラズマ放電処理や電子線照射処理などの活性エネルギ
ー光線の照射による活性化処理を施した後、グラフト変
性を行う方法は、あらゆる形態の基材に容易にグラフト
変性を行うことができる点で、極めて効率的なグラフト
変性方法である。例えば、あらゆる形態の不織布もしく
は使用時に筒状や折り畳むような形態をなす不織布等に
ついても容易にグラフト変性を施すことができる。 ［００３７］ グラフト共重合の反応温度は、使用されるグラフト変性
単量体の種類等にもよるが、通常、Ｏ〜８０℃程度、好
ましくは室温〜６０℃程度である。 また、反応時間は
、通常、１〜１２０分程度、好ましくは５〜６０分程度
である。 ［００３８］ さらに、グラフト共重合は、窒素等の不活性雰囲気中で
行なうと好ましい。 ［００３９］ グラフト共重合反応後は、得られたグラフト変性された
基材を水洗し、未反応のグラフト変性単量体や生成する
ホモポリマーを除去すると、望ましい。 ［００４０３ 以上のようにして、グラフト変性単量体で少なくとも表
面がグラフト変性されたα−オレフィン系重合体成形体
は、その表面がグラフト変性により親水性を有すること
となり、これに化学メッキを施すことにより、金属メッ
キされたα−オレフィン系重合体成形体を得ることがで
きる。 ［００４１３ すなわち、以上のようにして、少なくとも表面がグラフ
ト変性された基材の被メッキ対象面をパラジウム化合物
で処理して該パラジウム化合物を定着させた後、化学金
属メッキ処理を行なうことにより、金属メッキされたα
−オレフィン系重合体成形体を得ることができる。 ［００４２］ グラフト変性された基材のパラジウム化合物による処理
は、例えば、グラフト変性された基材をパラジウムヒド
ロゾル中に浸漬してグラフト変性された基材の表面にパ
ラジウムコロイド粒子を吸着させることにより行なうこ
とができる。 ［００４３］ 用いられるパラジウムヒドロゾルは、例えば、陽イオン
性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤および非イオン性
界面活性剤から選ばれる少なくとも１種の界面活性剤の
存在下に、パラジウム（ＩＩ）塩水溶液を還元剤で還元
処理する方法など（特開昭５９−１２０２４９号公報所
載の方法）によって得ることができるものである。 ［００４４］ 用いられる陽イオン性界面活性剤の具体例としては、ス
テアリルトリメチルアンモニウムクロライド等が挙げら
れ、陰イオン性界面活性剤の具体例としては、ドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム等が挙げられ、非イオン
性界面活性剤の具体例としては、ポリエチレングリコー
ル−ｐ−ノニルフェニルエーテル等が挙げられ、これら
の界面活性剤は、パラジウムヒドロゾルの凝集沈殿を防
止するために用いられる。 ［００４５］ パラジウムヒドロゾル中の界面活性剤の濃度は、安定し
たパラジウムヒドロゾルが得られ、グラフト変性不織布
の表面にパラジウムコロイド粒子が速やかに吸着される
点で、０．００２〜１重量９６の範囲にあると、望まし
い。 ［００４６］ また、パラジウム（ＩＩ）塩の具体例としては、塩化パ
ラジウム（！Ｉ）等が挙げられる。 ［００４７］ 還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、ジ
メチルアミンボラン、ヒドラジン等が挙げられる。 ［００４８］ このパラジウムヒドロゾル中のパラジウムの濃度は、安
定したパラジウムヒドロゾルが得られる点で、通常、０
．１〜５ｍｇ−原子／１、好ましくは０．３〜２５ｍｇ
−原子／１、さらに好ましくは０． ５〜１．０ｍｇ−
原子／１の範囲に調整される。 ［００４９］ 以上のようなパラジウム化合物による処理によって、グ
ラフト変性された基材の表面に、パラジウムコロイド粒
子が、通常、０．０１〜０．１重量％、好ましくは０．
００５〜０．０５重量％、さらに好ましくは０．００８
〜０．０２重量％の範囲で均一に吸着される。 ［００５０］ 本発明のパラジウム化合物による処理において、パラジ
ウムコロイド粒子の基材表面への吸着速度は、パラジウ
ムヒドロゾルの温度、濃度および使用される界面活性材
の種類等により異なり、目的に応じて適宜、これらの条
件を選択すればよい。 ［００５１］ このパラジウム化合物による処理は、通常、Ｏ〜１００
℃程度、好ましくはＯ〜５０℃程度の温度で行なわれる
。この温度は、目的に応じて適宜選択される。 パラジウムコロイド粒子の基材の表面への吸着速度は、
使用されるパラジウムヒドロゾルの温度が高いほど早く
なる傾向がある。 ［００５２］ また、パラジウムコロイド粒子の吸着速度は、使用され
る界面活性剤の種類によっても異なり、室温（２５℃）
においては、陰イオン性界面活性剤を使用した場合が最
も早く１、次いで、陽イオン性界面活性剤を使用した場
合がこれに続き、非イオン性界面活性剤を使用した場合
は、極端に遅くなる。また、非イオン性界面活性剤を使
用した場合のパラジウムコロイド粒子の吸着速度は、高
温になる程急速に早くなる傾向にある。 ［００５３］ このとき、前記パラジウム化合物による処理を行なった
後、水洗して、必要に応じてさらに乾燥して、グラフト
変性された基材に吸着されていない余分のパラジウムコ
ロイド粒子を除去しておくと、後段の化学金属メッキに
おいて、余分のパラジウムコロイド粒子自体に化学メッ
キされることなく、メッキ効率が良好となる点で、望ま
しい。水洗後に得られた排水は、濾過により含有するパ
ラジウムコロイド粒子を回収することができる。 ［００５４］ 次に、以上のようにパラジウムコロイド粒子が表面に吸
着された基材に、化学金属メッキを施して、金属メッキ
層を形成して、本発明の金属メッキされたα−オレフィ
ン系重合体成形体を得ることができる。 ［００５５］ 本発明の方法において行われる化学金属メッキは、特に
限定されず、常法にしたがって行なうことができる。例
えば、前記パラジウムコロイド粒子が吸着された基材を
、還元剤を含む化学金属メッキ液に浸漬し、該化学金属
メッキ液中の金属イオンの還元を、基材の表面にに吸着
されたパラジウムコロイド粒子の作用により行なわせ、
金属メッキ層を基材の被メッキ対象面に形成することが
できる。 ［００５６］ 用いられる化学金属メッキ液は、前記金属メッキ層を構
成する金属のイオンを含む中性、酸性またはアルカリ性
の溶液が挙げられる。 ［００５７］ また、還元剤としては、次亜リン酸ナトリウム、ホルム
アルデヒド、水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。 これらは１種単独でも２種以上を組合せても用いられ
る。 ［００５８］ 本発明の金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形
体は、金属メッキ層と成形体からなる基材との密着強度
に優れるため、その特性を生かして各種用途に好適に用
いることができる。例えば、金属メッキとして銅等の導
電性金属を基材に被着させれば、電磁波シールド特性、
および表面抵抗、体積固有抵抗等の電気特性に侵れる不
織布が得られ、これは、帯電防止材、電磁波シールド材
、ＩＣパッケージ材等に好適である。また、カーペット
、濾材、各種の装飾用材料等にも用いることができる。 ［００５９］
以下、本発明の実施例および比較例を挙げて本発明を具
体的に説明する。 ［００６０］ （実施例１） （１）アクリル酸でグラフト変性されたポリプロピレン
不織布の製造目付５０ｇ／ｍ２のポリプロピレン不織布
（三井石油化学工業株式会社製、シンテックス、７０ｍ
ｍＸ １４０ｍｍＸ３２０μｍ）の表面に、窒素雰囲気
下、冷却しながら、電子線照射装置（日新ハイボルテー
ジ（株）製、キュアトロン）を用いて１０Ｍｒａｄの電
子線を照射した。次に、この不織布を、十分に脱気され
たモール塩を０．２５重量％含有する５０重量％のアク
リル酸水溶液中に、４０℃で１０分間浸漬して、不織布
を構成するポリプロピレンに、アクリル酸をグラフト共
重合させ、グラフト変性不織布を得た。 ［００６１］ 得られたグラフト変性不織布を多量の水で３０分間洗浄
した後、４０重量％の水酸化カリウム水溶液に、室温で
１時間浸漬して中和処理し、さらにこのグラフト変性不
織布を多量の水で３０分間洗浄した後、７０℃で一昼夜
減圧乾燥を行った。
）［００６２］ 以上のようにして得られたグラフト変性不織布における
アクリル酸のグラフト量は、グラフト変性前のポリプロ
ピレン不織布１００重量％に対して４５重量％の割合で
あった。 ［００６３］ （２）パラジウムヒドロゾルの調製 塩化パラジウム（Ｉ Ｉ） ０． ５ｍｍｏｌを含む水
溶液２５ｍ１を９５０ｍ１に希釈した後、激しく攪拌し
ながら、溶液中に界面活性剤としてステアリルトリメチ
ルアンモニウムクロライド０１１ｇを含む水溶液１０ｍ
１を加えた。次いで、水素化ホウ素ナトリウム２ｍｍｏ
ｌを含む水溶液４０ｍ１を滴下すると、溶液の色が急変
し、黒褐色で透明なパラジウムヒドロゾルを得た。 ［００６４］ （３）ニッケルメッキ液の調製 無水塩化ニッケル（Ｉ Ｉ）０．１ｍｏｌを４ｍｏｌ
／ ｌのアンモニア水溶液５００ｍ１に溶解させた後、
０． ２ｍｏｌ ／ ｌの次亜リン酸ナトリウム５００
ｍ１を加え５ｍｏｌ ／ ｌの塩酸でｐＨを８．９に調
整して、ニッケルメッキ液を調製した。 ［００６５］ （４）金属メッキされたポリプロピレン不織布の製造上
記に得られたグラフト変性不織布を、上記のパラジウム
ヒドロゾルに室温下に１０分間浸漬した後、５分間水洗
した。水洗後の排水は、濾過してｚ（ラジウムコロイド
粒子を回収した。 このグラフト変性不織布におけるパラジウムコロイド粒
子の吸着量を、湿式分解原子吸光法（（株）日立製作新
製、５０８型原子吸光光度計を使用）により測定したと
ころ、２０μｇであった。これはグラフト変性不織布１
００重量％に対して０．００８重量％に相当する量であ
る。 ［００６６］ このパラジウムコロイド粒子が吸着されたグラフト変性
不織布を、上記に調製されたニッケルメッキ液に室温下
に１０分間浸漬した後、水洗、乾燥し、ニッケルメッキ
されたポリプロピレン不織布を得た。 ［００６７］ 得られたニッケルメッキされたポリプロピレン不織布の
導電率を、ＴＲ６１４１電流発生器（タケダ理研（株）
製）およびＡＤ−５３１１電圧計（Ａ＆Ｄ （株）製）
を用い、四端子法により測定したところ、５０ｍｈｏ／
ｃｍであった。 ［００６８］ （実施例２） ポリプロピレン不織布の表面と裏面に、それぞれポリプ
ロピレン不織布の表面への電子線照射と同一条件で電子
線を照射してグラフト変性されたポリプロピレン不織布
を製造した以外は、実施例１と同様にして、ニッケルメ
ッキされたポリプロピレン不織布を製造した。 ［００６９］ グラフト変性されたポリプロピレン不織布におけるアク
リル酸のグラフト量はグラフト変性前のポリプロピレン
不織布１００重量％に対して６１重量？６であった。 ［００７０］ また、グラフト変性されたポリプロピレン不織布におけ
るパラジウムコロイド粒子の吸着量は、原子吸光法によ
る測定によれば、３９μｍであり、グラフト変性された
ポリプロピレン不織布１００重量％に対して０．０１２
重量％に相当する。 また、ニッケルメッキされたポリプロピレン不織布の導
電率は、２５０ｍｈ。 ７０ｍであった。 ［００７１］ （実施例３） ポリプロピレン不織布の表面と裏面に、それぞれポリプ
ロピレン不織布の表面への電子線照射と同一条件で電子
線を照射し、かつ不織布を４０℃のアクリル酸水溶液に
３０分間浸漬した以外は、実施例１と同様にしてニッケ
ルメッキされたポリプロピレン不織布を製造した。 ［００７２］ グラフト変性されたポリプロピレン不織布におけるア：
クリル酸のグラフト量はグラフト変性前のポリプロピレ
ン不織布１００重量％に対して１７５重量％であった。 ［００７３］ また、グラフト変性されたポリプロピレン不織布におけ
るパラジウムコロイド粒子の吸着量は、原子吸光法によ
る測定によれば、７０μｍであり、グラフト変性された
ポリプロピレン不織布１００重量％に対して０．０１２
重量％に相当する。 また、ニッケルメッキされたポリプロピレン不織布の導
電率は、５２０ｍｈ。 ／ ｃ ｍであった。 ［００７４］ （比較例１） グラフト変性されたポリプロピレン不織布の代わりに、
グラフト変性前のポリプロピレン不織布を用いた以外は
、実施例１と同様にして、ニッケルメッキされたポリプ
ロピレン不織布を製造した。 ［００７５］ 得られたポリプロピレン不織布は、わずかにニッケルメ
ッキがなされているだけであり、手でこするとメッキ層
が簡単に剥げ落ちて実用に供し得ないものであっな。 ［００７６］ 以上の実施例１〜３および比較例１の結果を表１にまと
めて示す。 ［００７７］ 表１ １アクリル酸のグラ１パラジウムコロイド粒子フト量（
重量％）１の吸着量（重量％）導電率 （ｍｈｏ、／ｃｍ） １ ４５ ０．００８
５０実 施１２１ ６１ ｌ Ｏ，０１２１２５０例 ３ １ １７５ ０．０２
５２０１比較例１） ０ １ 検
出限界以下 １ １０’以下［００７８］ （実施例４） （１）グラフト変性されたポリプロピレン不織布の製造
目付５０ ｇ ７ｍ２のポリプロピレン不織布（三井石
油化学工業株式会社製、シンテックス、１５０ｍｍＸ
１５０ｍｍＸ３２０）の表面に、窒素雰囲気下、冷却し
ながら、電子線照射装置（日新ハイボルテージ（株）製
、キュアトロン）を用いて１０Ｍｒａｄの電子線を照射
した。次に、この不織布を、十分に脱気されたモール塩
を０．１５重量％含有する４０重量％のアクリルアミド
水溶液中に、６０℃で１０分間浸漬して、不織布を構成
するポリプロピレンに、アクリルアミドをグラフト共重
合させ、グラフト変性不織布を得た。 ［００７９］ 得られたグラフト変性不織布を多量の水で２分間洗浄し
た後、循環式温風乾燥機に入れ、７０℃で１時間乾燥さ
せた。 ［００８０］ 以上のようにして得られた変性不織布におけるアクリル
アミドのグラフト量はグラフト変性前のポリフロピレン
不織布１００重量％に対して９０重量％の割合であった
。 ［００８１］ （２）金属メッキされたポリプロピレン不織布の製造上
記に得られたグラフト変性不織布を、下記工程にしたが
って無電解銅メッキを施した。 （ａ）前処理 浴組成：１５ｍ１／ｌの前処理剤（メルテックス（株）
製、エンプレー）７０モーター８４５） 浴温度：４０℃ 処理時間：５分間 （ｂ）水洗：多量の純水で水洗 （Ｃ）予備浸漬 浴組成：予備浸漬剤（メルテックス（株）製、エンプレ
ードアクチベーター８５０アデイテイブ）１５０ｇ／１ ３７％塩酸 ３０ｍ１／１ 浴温度：室温 処理時間：３分間 （ｄ）パラジウム処理 浴組成：塩化パラジウム（ＩＩ）処理剤（メルテックス
（株）製、エンプレードアクチベーター８５０）
２０ｍ１／１メルテツクス（株）製、エンプレードアク
チベーター８５０アデイテイブ １５０ｇ／ｌ 塩酸 ３０ｍ１／１ 浴温度：２５℃ 処理時間ニア分間 （ｅ）水洗：多量の純水で水洗 （ｆ）反応促進処理 浴組成：メルテツクス（株）製エンプジートアクセレレ
ータ−８６０１００ｒｎＬ／１ 浴温度：２５℃ 処理時間：５分間 （ｇ）無電解銅メッキ 浴組成：エンプレートＣｕ−８７２Ａ ８０ｍ１／１
エンプレー）Ｃｕ−８７２Ｂ ６５ｍ１／１エンプレ
ートＣｕ−８７２Ｃ２４ｍ１／１エンプレートスタビラ
イザー ０．３ｍｌ／１（メルテックス（株）製） 浴温度：５０℃ 処理時間：１０分間 エアー攪拌 （ｈ）水洗：多量の純水で水洗 （ｉ）乾燥 循環式温風乾燥機で７０℃で１時間乾燥［００８２］ この銅メッキされた不織布のパラジウム定着量および銅
メッキ量、電磁波シールド効果、ならびに銅メッキの密
着強度の測定、さらに不織布層と銅メッキ層の断面の電
子顕微鏡による観察と、メッキ厚の測定を行なった。 ［００８３］ パラジウム定着量および銅メッキ量の測定メッキされた
不織布０．５ｇを、５０容量％硝酸水溶液２０ｍ１中に
、６０℃で２０分間浸漬しな。次に、この硝酸水溶液を
２００ｍ１のメスフラスコに移し純水で２００ｍ１に希
釈した。得られた希釈液を、ＩＣＰ発光分析にかげパラ
ジウムおよび銅の量を測定した。 ［００８４］ その結果、銅メッキされた不織布のパラジウム定着量は
、不織布１ｇに対して３．０ｍｇであり、銅メッキ量は
、不織布１ｇに対して６００ｍｇであった。 ［００８５］ 銅メッキされた不織布の電磁波シールド効果の測定アト
パンテスト法に従い、電磁波シールド効果の測定を行っ
た。 １２ｃｍＸ １３ｃｍの試料片をループ状の発信アンテ
ナと受信アンテナとの間に挟み、シールドボックス内で
１００〜１００１００Ｏの周波数領域で、下記測定機器
を用いて、磁界波減衰量を測定した。 スペクトラムアナライザー（（株）アトパンテスト製、
ＴＲ−４１７２）プリアンプ（（株）アトパンテスト製
、○Ｐ−７０２）シールド効果評価器（（株）アトパン
テスト製、ＴＲ−１７３０１）また、同様にロフトアン
テナを用いて電界波減衰量の測定を行った。 得られた電界波減衰量の測定結果を図１ （Ａ）に、磁
界波減衰量の測定結果を図１ （Ｂ）に示す。 ［００８６］ 銅メッキの密着強度の測定 基材が不織布の場合、不織布の銅メッキ層の表面に、長
さ５０ｍｍの粘着テープにチバン株製、セロハンテープ
、幅：２４ｍｍ）を貼付け、垂直方向に一気に引き剥し
、粘着テープに付着したメッキ層の剥離状態を観察した
。 また、基材がシートの場合は、銅メッキ層表面にカッタ
ー（太佑機材（株）製スーパーカッターガイド）を用い
て、１辺が一２ｍｍの基盤目を１００個刻み、この基盤
目に長さ５０ｍｍの粘着テープにチバン株製、セロハン
テープ、幅：２４ｍｍ）を垂直方向に一気に引き剥し、
粘着テープに付着したメッキ層の剥離状態を観察した。 ［００８７］ 電子顕微鏡による断面観察とメッキ厚の測定不織布の試
験片を方歯剃刀（フェザ−株製）で切断し、切断面に金
蒸着を施して、断面観察用の試料を作成した。 得られた試料を走査型電子顕微鏡を用いて倍率１０００
倍で観察するとともに断面の電子顕微鏡写真を撮影した
。 得られた電子顕微鏡写真から不織布基材層と、銅メッキ
層との間の間隙の有無を調べた。 また、銅メッキ層のメッキ厚を測定した。 ［００８８］ （実施例５） アクリルアミドによるグラフト変性ポリプロピレン不織
布への無電解銅メッキの密着強度の指標として、ポリフ
ロピレン板（厚さ：１ｍｍ）に実施例１と同様にしてア
クリルアミドによるグラフト変性を施し、表と裏に電子
線を照射した後、無電解鋼メッキを施した。 グラフト
変性されたポリプロピレン板におけるアクリルアミドの
グラフト量は、グラフト変性前のポリフロピレン板１０
０重量％に対して１．０重量％であった。 ［００８９］ 銅メッキされたポリプロピレン板におけるパラジウムの
定着量は、銅メッキされたポリプロピレン板１ｇに対し
て０．０１ｍｇであり、銅メッキ量は、２１゜６ｍｇで
あった。 ［００９０］ この銅メッキされたポリプロピレン板の表面に、カッタ
ー（太佑機材株製、ス−パーカッターガイド）を用いて
１辺が２ｍｍの基盤目を１００個刻み、この基盤目に長
さ５０ｍｍの粘着テープにチバン株製、セロハンテープ
、幅：２４ｍｍ）を貼付け、垂直方向に一気に引き剥し
、メッキ層の剥離状態を観察した。 ［００９１３ （比較例２） 目付５０ｇ／ｍ２のポリプロピレン不織布（三井石油化
学工業株式会社製、シンテックス）を、実施例１のよう
にグラフト変性を施すことなく、そのまま表と裏の両面
に無電解銅メッキを施した。 ［００９２］ 得られた銅メッキネ織布について、パラジウム定着量お
よび銅メッキ量、電気的特性、ならびに銅メッキの密着
強度の測定、さらに不織布層と銅メッキ層の断面を、電
子顕微鏡による観察と、メッキ厚の測定を行なった。 ［００９３］ （実施例６） 目付５０ｇ／ｍ２のポリプロピレン不織布（三井石油化
学工業株式会社製、シンテックス）の表面に、電子線照
射装置（日新ハイボルテージ株製、キュアトロン）を用
いて１０Ｍｒａｄの電子線を、窒素雰囲気下に冷却しな
がら照射した。 ［００９４］ 次に、この不織布を、十分に脱気されたモール塩を０．
２５重量％含む５０重量％のアクリル酸水溶液に１０分
間浸漬してグラフト共重合を行ない、アクリル酸グラフ
ト変性不織布を得た。 ［００９５］ 得られたアクリル酸グラフト変性不織布を多量の水で２
分間洗浄した後、４０重量％の水酸化カリウム水溶液に
、４０℃で１０分間浸漬して中和した。 さらに多量の
水で５分間洗浄した後、循環式温風乾燥機によって７０
で１時間乾燥した。 ［００９６］ このようにして得られたアクリル酸グラフト変性不織布
におけるアクリル酸のグラフト量は、グラフト変性前の
ポリプロピレン不織布１００重量％に対して４５重量％
であった。 ［００９７］ 次に、以上のようにして得られたアクリル酸グラフト変
性不織布の表裏全面に、実施例１と同様にして無電解鋼
メッキを施し、パラジウム定着量および銅メッキ量、電
気的特性、ならびに銅メッキの密着強度の測定、さらに
不織布層と銅メッキ層の断面を、電子顕微鏡による観察
と、メッキ厚の測定を行なった。 ［００９８］ （実施例７） ポリプロピレン板（厚さ：１ｍｍ）の表と裏の両面に１
０Ｍｒａｄの電子線を照射した以外は、実施例６と同様
にして、アクリル酸グラフト変性ポリプロピレン板を得
、実施例１と同様にして表裏全面に無電解鋼メッキを施
した。 ［００９９］ 銅メッキされたポリプロピレン板について、パラジウム
定着量および銅メッキ量、電気的特性、ならびに銅メッ
キの密着強度の測定、さらに不織布層と銅メッキ層の断
面を、電子顕微鏡による観察と、メッキ厚の測定を行な
った。結果を表２に示す。 ［０１００］
体的に説明する。 ［００６０］ （実施例１） （１）アクリル酸でグラフト変性されたポリプロピレン
不織布の製造目付５０ｇ／ｍ２のポリプロピレン不織布
（三井石油化学工業株式会社製、シンテックス、７０ｍ
ｍＸ １４０ｍｍＸ３２０μｍ）の表面に、窒素雰囲気
下、冷却しながら、電子線照射装置（日新ハイボルテー
ジ（株）製、キュアトロン）を用いて１０Ｍｒａｄの電
子線を照射した。次に、この不織布を、十分に脱気され
たモール塩を０．２５重量％含有する５０重量％のアク
リル酸水溶液中に、４０℃で１０分間浸漬して、不織布
を構成するポリプロピレンに、アクリル酸をグラフト共
重合させ、グラフト変性不織布を得た。 ［００６１］ 得られたグラフト変性不織布を多量の水で３０分間洗浄
した後、４０重量％の水酸化カリウム水溶液に、室温で
１時間浸漬して中和処理し、さらにこのグラフト変性不
織布を多量の水で３０分間洗浄した後、７０℃で一昼夜
減圧乾燥を行った。
）［００６２］ 以上のようにして得られたグラフト変性不織布における
アクリル酸のグラフト量は、グラフト変性前のポリプロ
ピレン不織布１００重量％に対して４５重量％の割合で
あった。 ［００６３］ （２）パラジウムヒドロゾルの調製 塩化パラジウム（Ｉ Ｉ） ０． ５ｍｍｏｌを含む水
溶液２５ｍ１を９５０ｍ１に希釈した後、激しく攪拌し
ながら、溶液中に界面活性剤としてステアリルトリメチ
ルアンモニウムクロライド０１１ｇを含む水溶液１０ｍ
１を加えた。次いで、水素化ホウ素ナトリウム２ｍｍｏ
ｌを含む水溶液４０ｍ１を滴下すると、溶液の色が急変
し、黒褐色で透明なパラジウムヒドロゾルを得た。 ［００６４］ （３）ニッケルメッキ液の調製 無水塩化ニッケル（Ｉ Ｉ）０．１ｍｏｌを４ｍｏｌ
／ ｌのアンモニア水溶液５００ｍ１に溶解させた後、
０． ２ｍｏｌ ／ ｌの次亜リン酸ナトリウム５００
ｍ１を加え５ｍｏｌ ／ ｌの塩酸でｐＨを８．９に調
整して、ニッケルメッキ液を調製した。 ［００６５］ （４）金属メッキされたポリプロピレン不織布の製造上
記に得られたグラフト変性不織布を、上記のパラジウム
ヒドロゾルに室温下に１０分間浸漬した後、５分間水洗
した。水洗後の排水は、濾過してｚ（ラジウムコロイド
粒子を回収した。 このグラフト変性不織布におけるパラジウムコロイド粒
子の吸着量を、湿式分解原子吸光法（（株）日立製作新
製、５０８型原子吸光光度計を使用）により測定したと
ころ、２０μｇであった。これはグラフト変性不織布１
００重量％に対して０．００８重量％に相当する量であ
る。 ［００６６］ このパラジウムコロイド粒子が吸着されたグラフト変性
不織布を、上記に調製されたニッケルメッキ液に室温下
に１０分間浸漬した後、水洗、乾燥し、ニッケルメッキ
されたポリプロピレン不織布を得た。 ［００６７］ 得られたニッケルメッキされたポリプロピレン不織布の
導電率を、ＴＲ６１４１電流発生器（タケダ理研（株）
製）およびＡＤ−５３１１電圧計（Ａ＆Ｄ （株）製）
を用い、四端子法により測定したところ、５０ｍｈｏ／
ｃｍであった。 ［００６８］ （実施例２） ポリプロピレン不織布の表面と裏面に、それぞれポリプ
ロピレン不織布の表面への電子線照射と同一条件で電子
線を照射してグラフト変性されたポリプロピレン不織布
を製造した以外は、実施例１と同様にして、ニッケルメ
ッキされたポリプロピレン不織布を製造した。 ［００６９］ グラフト変性されたポリプロピレン不織布におけるアク
リル酸のグラフト量はグラフト変性前のポリプロピレン
不織布１００重量％に対して６１重量？６であった。 ［００７０］ また、グラフト変性されたポリプロピレン不織布におけ
るパラジウムコロイド粒子の吸着量は、原子吸光法によ
る測定によれば、３９μｍであり、グラフト変性された
ポリプロピレン不織布１００重量％に対して０．０１２
重量％に相当する。 また、ニッケルメッキされたポリプロピレン不織布の導
電率は、２５０ｍｈ。 ７０ｍであった。 ［００７１］ （実施例３） ポリプロピレン不織布の表面と裏面に、それぞれポリプ
ロピレン不織布の表面への電子線照射と同一条件で電子
線を照射し、かつ不織布を４０℃のアクリル酸水溶液に
３０分間浸漬した以外は、実施例１と同様にしてニッケ
ルメッキされたポリプロピレン不織布を製造した。 ［００７２］ グラフト変性されたポリプロピレン不織布におけるア：
クリル酸のグラフト量はグラフト変性前のポリプロピレ
ン不織布１００重量％に対して１７５重量％であった。 ［００７３］ また、グラフト変性されたポリプロピレン不織布におけ
るパラジウムコロイド粒子の吸着量は、原子吸光法によ
る測定によれば、７０μｍであり、グラフト変性された
ポリプロピレン不織布１００重量％に対して０．０１２
重量％に相当する。 また、ニッケルメッキされたポリプロピレン不織布の導
電率は、５２０ｍｈ。 ／ ｃ ｍであった。 ［００７４］ （比較例１） グラフト変性されたポリプロピレン不織布の代わりに、
グラフト変性前のポリプロピレン不織布を用いた以外は
、実施例１と同様にして、ニッケルメッキされたポリプ
ロピレン不織布を製造した。 ［００７５］ 得られたポリプロピレン不織布は、わずかにニッケルメ
ッキがなされているだけであり、手でこするとメッキ層
が簡単に剥げ落ちて実用に供し得ないものであっな。 ［００７６］ 以上の実施例１〜３および比較例１の結果を表１にまと
めて示す。 ［００７７］ 表１ １アクリル酸のグラ１パラジウムコロイド粒子フト量（
重量％）１の吸着量（重量％）導電率 （ｍｈｏ、／ｃｍ） １ ４５ ０．００８
５０実 施１２１ ６１ ｌ Ｏ，０１２１２５０例 ３ １ １７５ ０．０２
５２０１比較例１） ０ １ 検
出限界以下 １ １０’以下［００７８］ （実施例４） （１）グラフト変性されたポリプロピレン不織布の製造
目付５０ ｇ ７ｍ２のポリプロピレン不織布（三井石
油化学工業株式会社製、シンテックス、１５０ｍｍＸ
１５０ｍｍＸ３２０）の表面に、窒素雰囲気下、冷却し
ながら、電子線照射装置（日新ハイボルテージ（株）製
、キュアトロン）を用いて１０Ｍｒａｄの電子線を照射
した。次に、この不織布を、十分に脱気されたモール塩
を０．１５重量％含有する４０重量％のアクリルアミド
水溶液中に、６０℃で１０分間浸漬して、不織布を構成
するポリプロピレンに、アクリルアミドをグラフト共重
合させ、グラフト変性不織布を得た。 ［００７９］ 得られたグラフト変性不織布を多量の水で２分間洗浄し
た後、循環式温風乾燥機に入れ、７０℃で１時間乾燥さ
せた。 ［００８０］ 以上のようにして得られた変性不織布におけるアクリル
アミドのグラフト量はグラフト変性前のポリフロピレン
不織布１００重量％に対して９０重量％の割合であった
。 ［００８１］ （２）金属メッキされたポリプロピレン不織布の製造上
記に得られたグラフト変性不織布を、下記工程にしたが
って無電解銅メッキを施した。 （ａ）前処理 浴組成：１５ｍ１／ｌの前処理剤（メルテックス（株）
製、エンプレー）７０モーター８４５） 浴温度：４０℃ 処理時間：５分間 （ｂ）水洗：多量の純水で水洗 （Ｃ）予備浸漬 浴組成：予備浸漬剤（メルテックス（株）製、エンプレ
ードアクチベーター８５０アデイテイブ）１５０ｇ／１ ３７％塩酸 ３０ｍ１／１ 浴温度：室温 処理時間：３分間 （ｄ）パラジウム処理 浴組成：塩化パラジウム（ＩＩ）処理剤（メルテックス
（株）製、エンプレードアクチベーター８５０）
２０ｍ１／１メルテツクス（株）製、エンプレードアク
チベーター８５０アデイテイブ １５０ｇ／ｌ 塩酸 ３０ｍ１／１ 浴温度：２５℃ 処理時間ニア分間 （ｅ）水洗：多量の純水で水洗 （ｆ）反応促進処理 浴組成：メルテツクス（株）製エンプジートアクセレレ
ータ−８６０１００ｒｎＬ／１ 浴温度：２５℃ 処理時間：５分間 （ｇ）無電解銅メッキ 浴組成：エンプレートＣｕ−８７２Ａ ８０ｍ１／１
エンプレー）Ｃｕ−８７２Ｂ ６５ｍ１／１エンプレ
ートＣｕ−８７２Ｃ２４ｍ１／１エンプレートスタビラ
イザー ０．３ｍｌ／１（メルテックス（株）製） 浴温度：５０℃ 処理時間：１０分間 エアー攪拌 （ｈ）水洗：多量の純水で水洗 （ｉ）乾燥 循環式温風乾燥機で７０℃で１時間乾燥［００８２］ この銅メッキされた不織布のパラジウム定着量および銅
メッキ量、電磁波シールド効果、ならびに銅メッキの密
着強度の測定、さらに不織布層と銅メッキ層の断面の電
子顕微鏡による観察と、メッキ厚の測定を行なった。 ［００８３］ パラジウム定着量および銅メッキ量の測定メッキされた
不織布０．５ｇを、５０容量％硝酸水溶液２０ｍ１中に
、６０℃で２０分間浸漬しな。次に、この硝酸水溶液を
２００ｍ１のメスフラスコに移し純水で２００ｍ１に希
釈した。得られた希釈液を、ＩＣＰ発光分析にかげパラ
ジウムおよび銅の量を測定した。 ［００８４］ その結果、銅メッキされた不織布のパラジウム定着量は
、不織布１ｇに対して３．０ｍｇであり、銅メッキ量は
、不織布１ｇに対して６００ｍｇであった。 ［００８５］ 銅メッキされた不織布の電磁波シールド効果の測定アト
パンテスト法に従い、電磁波シールド効果の測定を行っ
た。 １２ｃｍＸ １３ｃｍの試料片をループ状の発信アンテ
ナと受信アンテナとの間に挟み、シールドボックス内で
１００〜１００１００Ｏの周波数領域で、下記測定機器
を用いて、磁界波減衰量を測定した。 スペクトラムアナライザー（（株）アトパンテスト製、
ＴＲ−４１７２）プリアンプ（（株）アトパンテスト製
、○Ｐ−７０２）シールド効果評価器（（株）アトパン
テスト製、ＴＲ−１７３０１）また、同様にロフトアン
テナを用いて電界波減衰量の測定を行った。 得られた電界波減衰量の測定結果を図１ （Ａ）に、磁
界波減衰量の測定結果を図１ （Ｂ）に示す。 ［００８６］ 銅メッキの密着強度の測定 基材が不織布の場合、不織布の銅メッキ層の表面に、長
さ５０ｍｍの粘着テープにチバン株製、セロハンテープ
、幅：２４ｍｍ）を貼付け、垂直方向に一気に引き剥し
、粘着テープに付着したメッキ層の剥離状態を観察した
。 また、基材がシートの場合は、銅メッキ層表面にカッタ
ー（太佑機材（株）製スーパーカッターガイド）を用い
て、１辺が一２ｍｍの基盤目を１００個刻み、この基盤
目に長さ５０ｍｍの粘着テープにチバン株製、セロハン
テープ、幅：２４ｍｍ）を垂直方向に一気に引き剥し、
粘着テープに付着したメッキ層の剥離状態を観察した。 ［００８７］ 電子顕微鏡による断面観察とメッキ厚の測定不織布の試
験片を方歯剃刀（フェザ−株製）で切断し、切断面に金
蒸着を施して、断面観察用の試料を作成した。 得られた試料を走査型電子顕微鏡を用いて倍率１０００
倍で観察するとともに断面の電子顕微鏡写真を撮影した
。 得られた電子顕微鏡写真から不織布基材層と、銅メッキ
層との間の間隙の有無を調べた。 また、銅メッキ層のメッキ厚を測定した。 ［００８８］ （実施例５） アクリルアミドによるグラフト変性ポリプロピレン不織
布への無電解銅メッキの密着強度の指標として、ポリフ
ロピレン板（厚さ：１ｍｍ）に実施例１と同様にしてア
クリルアミドによるグラフト変性を施し、表と裏に電子
線を照射した後、無電解鋼メッキを施した。 グラフト
変性されたポリプロピレン板におけるアクリルアミドの
グラフト量は、グラフト変性前のポリフロピレン板１０
０重量％に対して１．０重量％であった。 ［００８９］ 銅メッキされたポリプロピレン板におけるパラジウムの
定着量は、銅メッキされたポリプロピレン板１ｇに対し
て０．０１ｍｇであり、銅メッキ量は、２１゜６ｍｇで
あった。 ［００９０］ この銅メッキされたポリプロピレン板の表面に、カッタ
ー（太佑機材株製、ス−パーカッターガイド）を用いて
１辺が２ｍｍの基盤目を１００個刻み、この基盤目に長
さ５０ｍｍの粘着テープにチバン株製、セロハンテープ
、幅：２４ｍｍ）を貼付け、垂直方向に一気に引き剥し
、メッキ層の剥離状態を観察した。 ［００９１３ （比較例２） 目付５０ｇ／ｍ２のポリプロピレン不織布（三井石油化
学工業株式会社製、シンテックス）を、実施例１のよう
にグラフト変性を施すことなく、そのまま表と裏の両面
に無電解銅メッキを施した。 ［００９２］ 得られた銅メッキネ織布について、パラジウム定着量お
よび銅メッキ量、電気的特性、ならびに銅メッキの密着
強度の測定、さらに不織布層と銅メッキ層の断面を、電
子顕微鏡による観察と、メッキ厚の測定を行なった。 ［００９３］ （実施例６） 目付５０ｇ／ｍ２のポリプロピレン不織布（三井石油化
学工業株式会社製、シンテックス）の表面に、電子線照
射装置（日新ハイボルテージ株製、キュアトロン）を用
いて１０Ｍｒａｄの電子線を、窒素雰囲気下に冷却しな
がら照射した。 ［００９４］ 次に、この不織布を、十分に脱気されたモール塩を０．
２５重量％含む５０重量％のアクリル酸水溶液に１０分
間浸漬してグラフト共重合を行ない、アクリル酸グラフ
ト変性不織布を得た。 ［００９５］ 得られたアクリル酸グラフト変性不織布を多量の水で２
分間洗浄した後、４０重量％の水酸化カリウム水溶液に
、４０℃で１０分間浸漬して中和した。 さらに多量の
水で５分間洗浄した後、循環式温風乾燥機によって７０
で１時間乾燥した。 ［００９６］ このようにして得られたアクリル酸グラフト変性不織布
におけるアクリル酸のグラフト量は、グラフト変性前の
ポリプロピレン不織布１００重量％に対して４５重量％
であった。 ［００９７］ 次に、以上のようにして得られたアクリル酸グラフト変
性不織布の表裏全面に、実施例１と同様にして無電解鋼
メッキを施し、パラジウム定着量および銅メッキ量、電
気的特性、ならびに銅メッキの密着強度の測定、さらに
不織布層と銅メッキ層の断面を、電子顕微鏡による観察
と、メッキ厚の測定を行なった。 ［００９８］ （実施例７） ポリプロピレン板（厚さ：１ｍｍ）の表と裏の両面に１
０Ｍｒａｄの電子線を照射した以外は、実施例６と同様
にして、アクリル酸グラフト変性ポリプロピレン板を得
、実施例１と同様にして表裏全面に無電解鋼メッキを施
した。 ［００９９］ 銅メッキされたポリプロピレン板について、パラジウム
定着量および銅メッキ量、電気的特性、ならびに銅メッ
キの密着強度の測定、さらに不織布層と銅メッキ層の断
面を、電子顕微鏡による観察と、メッキ厚の測定を行な
った。結果を表２に示す。 ［０１００］
【表１】
表２
［０１０１］
本発明の金属メッキされたα−オレフィン系重合体不織
布は、密着強度および電磁波シールド効果に優れ、表面
光沢が良好で膨れかない金属メッキ層を表面に有するも
のである。 また、本発明の方法によれば、該金属メッキされたα−
オレフィン系重合体不織布を、不織布のグラフト変性処
理後の中和処理を省略できるため簡便な工程で製造する
ことができる。
布は、密着強度および電磁波シールド効果に優れ、表面
光沢が良好で膨れかない金属メッキ層を表面に有するも
のである。 また、本発明の方法によれば、該金属メッキされたα−
オレフィン系重合体不織布を、不織布のグラフト変性処
理後の中和処理を省略できるため簡便な工程で製造する
ことができる。
【図１】図１（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ実施例１
において得られた、銅メッキされたポリプロピレン不織
布の電解波シールド効果および磁界波シールド効果の測
定結果を示す図である。
において得られた、銅メッキされたポリプロピレン不織
布の電解波シールド効果および磁界波シールド効果の測
定結果を示す図である。
【図２】図２（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ実施例２
において得られた、銅メッキされたポリプロピレン板の
電解波シールド効果および磁界波シールド効果の測定結
果を示す図である。
において得られた、銅メッキされたポリプロピレン板の
電解波シールド効果および磁界波シールド効果の測定結
果を示す図である。
【図３】図３（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ比較例２
において得られた、銅メッキされたポリプロピレン不織
布の電解波シールド効果および磁界波シールド効果の測
定結果を示す図である。
において得られた、銅メッキされたポリプロピレン不織
布の電解波シールド効果および磁界波シールド効果の測
定結果を示す図である。
【図４】図４（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ実施例６
において得られた、銅メッキされたポリプロピレン不織
布の電解波シールド効果および磁界波シールド効果の測
定結果を示す図である。
において得られた、銅メッキされたポリプロピレン不織
布の電解波シールド効果および磁界波シールド効果の測
定結果を示す図である。
図面
【図１】
問液欲バＭＨｚ）
【図２】
園波軟（ＭＨｚ ）
【図３】
（Ａ）
【図４】
Claims (9)
- 【請求項１】不飽和カルボン酸およびその酸誘導体から
選ばれる少なくとも１種のグラフト変性単量体でグラフ
ト変性された表面を有するα−オレフィン系重合体から
なる基材と、該基材の少なくとも片面に形設された化学
金属メッキ層とを有する金属メッキされたα−オレフィ
ン系重合体成形体。 - 【請求項２】不飽和カルボン酸およびその酸誘導体から
選ばれる少なくとも１種のグラフト変性単量体でグラフ
ト変性された表面を有するα−オレフィン系重合体不織
布からなる基材と、該基材の少なくとも片面に形設され
た化学金属メッキ層とを有する金属メッキされたα−オ
レフィン系重合体成形体。 - 【請求項３】前記α−オレフィン系重合体不織布が、ポ
リプロピレン系不織布である請求項２に記載の金属メッ
キされたα−オレフィン系重合体成形体。 - 【請求項４】前記グラフト変性単量体が、アクリルアミ
ドである請求項１または２に記載の金属メッキされたα
−オレフィン系重合体成形体。 - 【請求項５】α−オレフィン系重合体からなる基材に不
飽和カルボン酸およびその酸誘導体から選ばれる少なく
とも１種のグラフト変性単量体をグラフト共重合させて
、少なくとも表面がグラフト変性された基材を製造し、
該グラフト変性された基材の被メッキ対象面をパラジウ
ム化合物で処理して該パラジウム化合物を基材の表面に
定着させた後、化学金属メッキ処理を行なう工程を有す
る金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形体の製
造方法。 - 【請求項６】α−オレフィン系重合体不織布からなる基
材に不飽和カルボン酸およびその酸誘導体から選ばれる
少なくとも１種のグラフト変性単量体をグラフト共重合
させて、少なくとも表面がグラフト変性された基材を製
造し、該グラフト変性された基材の被メッキ対象面をパ
ラジウム化合物で処理して該パラジウム化合物を基材の
表面に定着させた後、化学金属メッキ処理を行なう工程
を有する金属メッキされたα−オレフィン系重合体成形
体の製造方法。 - 【請求項７】前記α−オレフィン系重合体不織布が、ポ
リプロピレン系不織布である請求項６に記載の金属メッ
キされたα−オレフィン系重合体成形体の製造方法。 - 【請求項８】前記グラフト変性単量体が、アクリルアミ
ドである請求項６または７に記載の金属メッキされたα
−オレフィン系重合体成形体の製造方法。 - 【請求項９】前記パラジウム化合物による処理が、基材
を不飽和カルボン酸およびその酸誘導体から選ばれる少
なくとも１種のグラフト変性単量体でグラフト共重合さ
れて少なくとも表面がグラフト変性された基材を、パラ
ジウムヒドロゾル中に浸漬して該基材の表面にパラジウ
ムコロイド粒子を吸着させた後、該基材を水洗して該基
材に吸着していないパラジウムコロイド粒子を除去する
工程からなる請求項５〜８のいずれかに記載の金属メッ
キされたα−オレフィン系重合体成形体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3000519A JPH04160164A (ja) | 1990-01-08 | 1991-01-08 | 金属メッキされたα−オレフィン系重合体不織布およびその製造方法、ならびに該不織布からなる電磁波シールド材 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-1355 | 1990-01-08 | ||
| JP135590 | 1990-01-08 | ||
| JP3000519A JPH04160164A (ja) | 1990-01-08 | 1991-01-08 | 金属メッキされたα−オレフィン系重合体不織布およびその製造方法、ならびに該不織布からなる電磁波シールド材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04160164A true JPH04160164A (ja) | 1992-06-03 |
Family
ID=26333518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3000519A Pending JPH04160164A (ja) | 1990-01-08 | 1991-01-08 | 金属メッキされたα−オレフィン系重合体不織布およびその製造方法、ならびに該不織布からなる電磁波シールド材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04160164A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09214140A (ja) * | 1995-11-29 | 1997-08-15 | Toppan Printing Co Ltd | 多層プリント配線板及びその製造方法 |
| WO2008050631A1 (fr) * | 2006-10-23 | 2008-05-02 | Fujifilm Corporation | Procédé de production d'un substrat revêtu d'un film métallique, substrat revêtu d'un film métallique, procédé de production d'un matériau à motif métallique, et matériau à motif métallique |
| JP2008274390A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Fujifilm Corp | 金属膜付基板の作製方法、金属膜付基板、金属パターン材料の作製方法、金属パターン材料 |
| JP2009167323A (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-30 | Osaka Prefecture Univ | 表面被覆樹脂基体、その製造方法及びその製造装置 |
| JP2018512514A (ja) * | 2015-03-03 | 2018-05-17 | エプロ ディベロップメント リミテッド | 導電性テキスタイル要素及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-01-08 JP JP3000519A patent/JPH04160164A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09214140A (ja) * | 1995-11-29 | 1997-08-15 | Toppan Printing Co Ltd | 多層プリント配線板及びその製造方法 |
| WO2008050631A1 (fr) * | 2006-10-23 | 2008-05-02 | Fujifilm Corporation | Procédé de production d'un substrat revêtu d'un film métallique, substrat revêtu d'un film métallique, procédé de production d'un matériau à motif métallique, et matériau à motif métallique |
| JP2008274390A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Fujifilm Corp | 金属膜付基板の作製方法、金属膜付基板、金属パターン材料の作製方法、金属パターン材料 |
| JP2009167323A (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-30 | Osaka Prefecture Univ | 表面被覆樹脂基体、その製造方法及びその製造装置 |
| JP2018512514A (ja) * | 2015-03-03 | 2018-05-17 | エプロ ディベロップメント リミテッド | 導電性テキスタイル要素及びその製造方法 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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