JPH0415653A - 感光性平版印刷版の処理方法及び処理装置 - Google Patents
感光性平版印刷版の処理方法及び処理装置Info
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感光性平版印刷版(以下、rPS版」という
)の現像処理方法に関し、更に詳しくは、自動現像機を
用いて現像補充液を補充して繰り返し使用するネガ・ポ
ジ共通現像液でネガ型PS版とポジ型PS版とを共通に
現像処理する方法における現像液の補充方法及び補充装
置に関する。
)の現像処理方法に関し、更に詳しくは、自動現像機を
用いて現像補充液を補充して繰り返し使用するネガ・ポ
ジ共通現像液でネガ型PS版とポジ型PS版とを共通に
現像処理する方法における現像液の補充方法及び補充装
置に関する。
自動現像機を用いて23版を現像処理する場合、現像液
に補充液を補充して繰り返し使用する方式と現像液を使
い捨てる方式とが知られている。
に補充液を補充して繰り返し使用する方式と現像液を使
い捨てる方式とが知られている。
前者の方式では、補充の精度及び安定性の問題から、本
実上、長期間多数枚数の処理は不可能とされてきた。一
方、新液を使い捨てる方式では長期間多数枚数の処理が
可能であるが、現像液の使用量が多く、処理コストが高
いという欠点がある。
実上、長期間多数枚数の処理は不可能とされてきた。一
方、新液を使い捨てる方式では長期間多数枚数の処理が
可能であるが、現像液の使用量が多く、処理コストが高
いという欠点がある。
ところで、−台の自動現像機で感光性成分としてジアゾ
化合物を用いたネガ型PS版と感光性成分としてキノン
ジアジド化合物を用いたポジ型PS版とを、補充液を補
充して繰り返し使用するネガ・ポジ共通現像液で共通現
像する現像処理方法における現像液の補充技術としては
、特開昭62−73271号に、補充される現像液より
アルカリ強度の太きい珪酸塩を含む補充液を用いること
によって繰り返し使用時の現像性を安定化する技術、及
び現像補充液を2液に分け、一方をケイ酸塩を含有する
アルカリ液、他方をアニオン界面活性剤、亜硫酸塩及び
有機溶剤を含有する液とし、ネガ型23版とポジ型28
版とで上記2液の補充量の比率を変えて補充する技術が
開示されている。
化合物を用いたネガ型PS版と感光性成分としてキノン
ジアジド化合物を用いたポジ型PS版とを、補充液を補
充して繰り返し使用するネガ・ポジ共通現像液で共通現
像する現像処理方法における現像液の補充技術としては
、特開昭62−73271号に、補充される現像液より
アルカリ強度の太きい珪酸塩を含む補充液を用いること
によって繰り返し使用時の現像性を安定化する技術、及
び現像補充液を2液に分け、一方をケイ酸塩を含有する
アルカリ液、他方をアニオン界面活性剤、亜硫酸塩及び
有機溶剤を含有する液とし、ネガ型23版とポジ型28
版とで上記2液の補充量の比率を変えて補充する技術が
開示されている。
しかしながら、このような技術による補充により現像能
力を一定に保っていっても、徐々に階調などの品質が低
下してしまう欠点がある。
力を一定に保っていっても、徐々に階調などの品質が低
下してしまう欠点がある。
したがって、本発明の目的は、自動現像機を用い、補充
液を補充して繰り返し使用するネガ・ポジ共通現像液で
現像処理するPS版の現像処理方法において、長期間安
定に現像処理を行える方法及び装置を提供することであ
り、また、液の交換なしに、しかも安価にネガ・ポジ共
通処理が可能な処理方法及び処理装置を提供することで
ある。
液を補充して繰り返し使用するネガ・ポジ共通現像液で
現像処理するPS版の現像処理方法において、長期間安
定に現像処理を行える方法及び装置を提供することであ
り、また、液の交換なしに、しかも安価にネガ・ポジ共
通処理が可能な処理方法及び処理装置を提供することで
ある。
上記本発明の目的は、ネガ型感光性平版印刷版及びポジ
型感光性平版印刷版を繰り返し使用されるネガ・ポジ共
通現像液で処理する方法において、処理疲労により低下
する現像液の活性度を板積によって異なる検出手段を用
いて検出し、各々に対応した量の補充液を添加して補償
することを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法、並
びにネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷
版について、各々に対応させた異なる検出手段を有し、
それを用いて処理疲労を検出し、各々に対応した補充を
行う機構を有することを特徴とする処理装置によって達
成される。
型感光性平版印刷版を繰り返し使用されるネガ・ポジ共
通現像液で処理する方法において、処理疲労により低下
する現像液の活性度を板積によって異なる検出手段を用
いて検出し、各々に対応した量の補充液を添加して補償
することを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法、並
びにネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印刷
版について、各々に対応させた異なる検出手段を有し、
それを用いて処理疲労を検出し、各々に対応した補充を
行う機構を有することを特徴とする処理装置によって達
成される。
以下、本発明について詳述する。
本発明は、1種類の現像補充液を用い、処理疲労により
低下する現像液の活性度を板積(例えばネガ型23版と
ポジ型28版)によって異なる検出手段(例えばネガ型
23版に対しては版面積を検出、ポジ型28版に対して
は非画像部の溶出度合をインピーダンスとして検出など
)で検出し、それぞれの板積に対応した量の補充を行う
ことにより、異なる板積のそれぞれに対して適切な補充
が可能となり、補充液を補充して繰り返し使用されるネ
ガ・ポジ共通現像液による長期間かつ多数枚数の処理に
対して適正な現像性の維持効果を改良したものである。
低下する現像液の活性度を板積(例えばネガ型23版と
ポジ型28版)によって異なる検出手段(例えばネガ型
23版に対しては版面積を検出、ポジ型28版に対して
は非画像部の溶出度合をインピーダンスとして検出など
)で検出し、それぞれの板積に対応した量の補充を行う
ことにより、異なる板積のそれぞれに対して適切な補充
が可能となり、補充液を補充して繰り返し使用されるネ
ガ・ポジ共通現像液による長期間かつ多数枚数の処理に
対して適正な現像性の維持効果を改良したものである。
本発明方法に用いられるネガ・ポジ共用現像液及びその
補充液は、ケイ酸アルカリ、有機溶剤、界面活性剤及び
還元性無機塩から選ばれる少なくとも2つを含有する水
を主たる溶媒とする(具体的には50重量%以上が水か
らなる) pH12以上のアルカリ現像液であることが
好ましい。
補充液は、ケイ酸アルカリ、有機溶剤、界面活性剤及び
還元性無機塩から選ばれる少なくとも2つを含有する水
を主たる溶媒とする(具体的には50重量%以上が水か
らなる) pH12以上のアルカリ現像液であることが
好ましい。
ケイ酸アルカリとしては、例えばケイ酸カリウム、ケイ
酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリ
ウム、ケイ酸アンモニウム等が挙げられる。ケイ酸アル
カリの現像液中の含有量は0.3〜lO重量%の範囲が
好ましい。また、ケイ酸アルカリはS10.濃度で0.
1〜7.0重量%の範囲が好ましい。
酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリ
ウム、ケイ酸アンモニウム等が挙げられる。ケイ酸アル
カリの現像液中の含有量は0.3〜lO重量%の範囲が
好ましい。また、ケイ酸アルカリはS10.濃度で0.
1〜7.0重量%の範囲が好ましい。
現像液及び現像補充液にはケイ酸アルカリ以外のアルカ
リ剤を併用することができ、例えば、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム 第三リン酸ナトリ
ウム、第ニリン酸ナト1ノウム、第三リン酸カリウム、
第二リン酸力1ノウム、第三リン酸アンモニウム、第ニ
リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモ
ニウムなどのような無機アルカリ剤、モノ、ジ又(マト
リエタノールアミン及び水酸化テトラアラレキルのよう
な有機アルカリ剤を併用することができる。
リ剤を併用することができ、例えば、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム 第三リン酸ナトリ
ウム、第ニリン酸ナト1ノウム、第三リン酸カリウム、
第二リン酸力1ノウム、第三リン酸アンモニウム、第ニ
リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモ
ニウムなどのような無機アルカリ剤、モノ、ジ又(マト
リエタノールアミン及び水酸化テトラアラレキルのよう
な有機アルカリ剤を併用することができる。
有機溶媒としては20°Cおけろ水に対する溶解度か1
0重量%以下のものが好ましく、例えば酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ベンジル、エチレングリ
コールモノブチルアセート、乳酸ブチル、レブリン酸ブ
チルのようなカルボン酸エステル:エチルブチルケトン
、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのような
ケトン類;エチレングリフールモノブチルエーテル、エ
チレングリコールベンジルエーテル、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテル、ベンジルアサフール、メチル
フェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチル
アミルアルコールのようなアルコール類:キシレンのよ
うなアルキル置換芳香族炭化水素;メチレンジクロライ
ド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼンのよう
な/)ロゲン化炭化水素などがある。これらの有機溶媒
はそれぞれ単狐又は2種以上を組合わせて使用すること
ができる。
0重量%以下のものが好ましく、例えば酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ベンジル、エチレングリ
コールモノブチルアセート、乳酸ブチル、レブリン酸ブ
チルのようなカルボン酸エステル:エチルブチルケトン
、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのような
ケトン類;エチレングリフールモノブチルエーテル、エ
チレングリコールベンジルエーテル、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテル、ベンジルアサフール、メチル
フェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチル
アミルアルコールのようなアルコール類:キシレンのよ
うなアルキル置換芳香族炭化水素;メチレンジクロライ
ド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼンのよう
な/)ロゲン化炭化水素などがある。これらの有機溶媒
はそれぞれ単狐又は2種以上を組合わせて使用すること
ができる。
界面活性剤としてはノニオン、アニオン、カチオン及び
両性の各界面活性剤の少なくとも1種を用いることがで
きる。好ましくはノニオン界面活性剤である。
両性の各界面活性剤の少なくとも1種を用いることがで
きる。好ましくはノニオン界面活性剤である。
ノニオン界面活性剤は大別するとポリエチレングリコー
ル型と多価アルコール型に分類することができ、どちら
も使用できるが、現像性能の点からポリエチレングリコ
ール型のノニオン界面活性剤が好ましく、その中でもエ
チレンオキシ基を3以上有し、かつHLB値(HLBは
Hydrophi 1e−Lipophxle Ba1
anceの略)が5以上(より好ましくは8〜20)の
ノニオン界面活性剤がより好ましい。
ル型と多価アルコール型に分類することができ、どちら
も使用できるが、現像性能の点からポリエチレングリコ
ール型のノニオン界面活性剤が好ましく、その中でもエ
チレンオキシ基を3以上有し、かつHLB値(HLBは
Hydrophi 1e−Lipophxle Ba1
anceの略)が5以上(より好ましくは8〜20)の
ノニオン界面活性剤がより好ましい。
ノニオン界面活性剤のうち、エチレンオキシ基とプロピ
レンオキシ基の両者を有するものが特に好ましく、その
なかで)HLB値が8以上のものがより好ましい。
レンオキシ基の両者を有するものが特に好ましく、その
なかで)HLB値が8以上のものがより好ましい。
ノニオン界面活性剤の好ましい例として下記−能代〔l
〕〜〔8〕で表される化合物が挙げられる。
〕〜〔8〕で表される化合物が挙げられる。
(1) R−0(CHfCH20)nHCH。
C3〕R−0(CH2C)10)II (C[(2c
H20)nH(6) HOCCxH,Q)a (C
,H,O)b (C,H40)cl(7) H(O
C28a)y(QCs)Is)X\7CCsH*O>x
(Cz)140)y)lH(OCzHJ)’ (
OC3Ha)x/\(CsHaO)x (CJ*0)
yH〔8) I(0−(CI(2C[(20)nH〔
1〕〜〔8〕式において、Rは水素原子又は1価の有機
基を表す。該有機基としては、例えば直鎖もしくは分岐
の炭素数1〜30の、置換基(例えばアリール基(フェ
ニル等))を有していてもよいアルキル基、アルキル部
分が上記アルキル基であるアルキルカルボニル基、置換
基(例えばヒFoキシル基、上記のようなアルキル基等
)ヲ有していてもよいフェニル基等が挙げられる。al
b % C% m s n s x及びyは各々1〜4
0の整数を表す。
H20)nH(6) HOCCxH,Q)a (C
,H,O)b (C,H40)cl(7) H(O
C28a)y(QCs)Is)X\7CCsH*O>x
(Cz)140)y)lH(OCzHJ)’ (
OC3Ha)x/\(CsHaO)x (CJ*0)
yH〔8) I(0−(CI(2C[(20)nH〔
1〕〜〔8〕式において、Rは水素原子又は1価の有機
基を表す。該有機基としては、例えば直鎖もしくは分岐
の炭素数1〜30の、置換基(例えばアリール基(フェ
ニル等))を有していてもよいアルキル基、アルキル部
分が上記アルキル基であるアルキルカルボニル基、置換
基(例えばヒFoキシル基、上記のようなアルキル基等
)ヲ有していてもよいフェニル基等が挙げられる。al
b % C% m s n s x及びyは各々1〜4
0の整数を表す。
ノニオン界面活性剤の具体例を示す。
ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンノニルエーテル、ポリオ
キシエチレンセチルエーテル、ポリオキンエチレンステ
アリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル
、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、ポリオキシエ
チレンポリオキンプロピレンセチルエーテル、ポリオキ
シエチレンポリオキングロピレンベヘニルエーテル、ポ
リオキンエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキン
エチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンスデアリルアミン、ポリオキシエチレンオレイルアミ
ン、ポリオキシエチレンステアリン酸アミド、ポリオキ
ンエチレンオレイン酸アミド、ポリオキ7エチレンヒマ
ン油、ポリオキシエチレンアビエチルエーテル、ポリオ
キシエチレンラノリンエーテル、ポリオキンエチレンモ
ノラウレート、ポリオキシエチレンモノステアレート、
ポリオキシュチレングリセリルモノオレート、ポリオキ
/エチレングリセルモノステアレート、ポリオキシエチ
レンプロピレングリコールモノステアレート、オキシエ
チレンオキシプロピレンブロックポリマー ジスチレン
化フェノールポリエチレンオキシド付加物、トリベンジ
ルフェノールポリエチレンオキシド付加物、オクチルフ
ェノールポリオキシエチレンポリオキシプロピレン付加
物、グリセロールモノステアレート、ソルビタンモノラ
ウレート、ポリオキシェチレンソルビタンモノラウレー
ト等。
エーテル、ポリオキシエチレンノニルエーテル、ポリオ
キシエチレンセチルエーテル、ポリオキンエチレンステ
アリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル
、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、ポリオキシエ
チレンポリオキンプロピレンセチルエーテル、ポリオキ
シエチレンポリオキングロピレンベヘニルエーテル、ポ
リオキンエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキン
エチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンスデアリルアミン、ポリオキシエチレンオレイルアミ
ン、ポリオキシエチレンステアリン酸アミド、ポリオキ
ンエチレンオレイン酸アミド、ポリオキ7エチレンヒマ
ン油、ポリオキシエチレンアビエチルエーテル、ポリオ
キシエチレンラノリンエーテル、ポリオキンエチレンモ
ノラウレート、ポリオキシエチレンモノステアレート、
ポリオキシュチレングリセリルモノオレート、ポリオキ
/エチレングリセルモノステアレート、ポリオキシエチ
レンプロピレングリコールモノステアレート、オキシエ
チレンオキシプロピレンブロックポリマー ジスチレン
化フェノールポリエチレンオキシド付加物、トリベンジ
ルフェノールポリエチレンオキシド付加物、オクチルフ
ェノールポリオキシエチレンポリオキシプロピレン付加
物、グリセロールモノステアレート、ソルビタンモノラ
ウレート、ポリオキシェチレンソルビタンモノラウレー
ト等。
ノニオン界面活性剤の重量平均分子量は300〜100
00の範囲が好ましく、500〜5000の範囲が特に
好ましい。
00の範囲が好ましく、500〜5000の範囲が特に
好ましい。
アニオン型界面活性剤としては、高級アルコール(cm
〜C2り硫酸エステル塩類[例えば、ラウリルアルコー
ルサルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコールサ
ルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフ
ェートのアンモニウム塩、r Teepol−81J
(商品名・シェル化学製)、第二ナトリウムアルキル
サルフェートなと]、脂肪族アルコールリン酸エステル
塩類(例えば、セチルアルコールリン酸エステルのナト
リウム塩など)、アルキルアリールスルホン酸塩類(例
えば、ドデンルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、イ
ソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、シナ
フタリンジスルホン酸のナトリム塩、メタニトロベンゼ
ンスルホン酸のナトリウム塩など)、アルキルアミドの
スルホン酸塩類(例えば、C+ yHsscON(C)
Is)C[(2sOsNaなど)、二塩基性脂肪酸エス
テルのスルホン酸塩類(例えば、ナトリウムスルホコハ
ク酸ジオクチルニスチル、ナトリウムスルホコハク酸ジ
ヘキンルエステルなど)がある。
〜C2り硫酸エステル塩類[例えば、ラウリルアルコー
ルサルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコールサ
ルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフ
ェートのアンモニウム塩、r Teepol−81J
(商品名・シェル化学製)、第二ナトリウムアルキル
サルフェートなと]、脂肪族アルコールリン酸エステル
塩類(例えば、セチルアルコールリン酸エステルのナト
リウム塩など)、アルキルアリールスルホン酸塩類(例
えば、ドデンルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、イ
ソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、シナ
フタリンジスルホン酸のナトリム塩、メタニトロベンゼ
ンスルホン酸のナトリウム塩など)、アルキルアミドの
スルホン酸塩類(例えば、C+ yHsscON(C)
Is)C[(2sOsNaなど)、二塩基性脂肪酸エス
テルのスルホン酸塩類(例えば、ナトリウムスルホコハ
ク酸ジオクチルニスチル、ナトリウムスルホコハク酸ジ
ヘキンルエステルなど)がある。
これらの中で特にスルホン酸塩類が好適に用いられる。
カチオン界面活性剤はアミン型と第四アンモニウム塩型
に大別されるが、これらの何れをも用いることができる
。
に大別されるが、これらの何れをも用いることができる
。
アミン型の例としては、ポリオキノエチレンアルキルア
ミン、N−アルキルプロピレンアミン、Nアルキルポリ
エチレンポリアミン、N−アルキルポリエチレンポリア
ミンジメチル硫酸塩、アルキルビグアニド、長鎖アミン
オキシド、アルキルイミダシリン、1−ヒドロキシエチ
ル−2−アルキルイミダシリン、■−アセチルアミノエ
チルー2−アルギルイミダシリン、2−アルキル−4−
メチル−4−ヒドロキノメチルオキサゾリン等がある。
ミン、N−アルキルプロピレンアミン、Nアルキルポリ
エチレンポリアミン、N−アルキルポリエチレンポリア
ミンジメチル硫酸塩、アルキルビグアニド、長鎖アミン
オキシド、アルキルイミダシリン、1−ヒドロキシエチ
ル−2−アルキルイミダシリン、■−アセチルアミノエ
チルー2−アルギルイミダシリン、2−アルキル−4−
メチル−4−ヒドロキノメチルオキサゾリン等がある。
また、第四アンモニウム塩型の例としては、長鎖第1ア
ミン塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキ
ルジメチルエチルアンモニウム塩、アルキルジメチルア
ンモニウム塩、アルキルジメチルベンジルアンモニウム
塩、アルキルピリジニウム塩、アルキルキノリニウム塩
、アルキルイソキノリニウム塩、アルキルピリジニウム
硫酸塩、ステアラミドメチルピリジニウム塩、アノルア
ミノエチルジエチルアミン塩、アンルアミノエチルメチ
ルジエチルアンモニウム塩、アルキルアミドプロピルジ
メチルベンジルアンモニウム塩、脂肪酸ポリエチレンポ
リアミド、アシルアミノエチルピリジニウム塩、アンル
コラミノホルミルメチルビリジニウム塩、ステアラミド
メチルピリジニウム塩、脂肪酸トリエタノールアミン、
脂肪酸トリエタノールアミンギ酸塩、トリオキシエチレ
ン脂肪酸トリエタノールアミン、脂肪酸ジブチルアミノ
エタノール、セチルオキシメチルピリジニウム塩、p−
インオクチルフェノキシエトキンエチルジメチルベンジ
ルアンモニウム塩等がある。(上記化合物の例の中の「
アルキル」とは炭素数6〜20の、直鎖または一部置換
されたアルキルを示し、具体的には、ヘキシル、オクチ
ル、セチル、ステアリル等の直鎖アルキルが好ましく用
いられる。)これらの中では、特に水溶性の第四アンモ
ニウム塩型のカチオン界面活性剤か有効で、その中でも
、アルキルトリメチルアンモニウム塩、アルキルジメチ
ルベンジルアンモニウム塩、エチレンオキンド付加アン
モニウム塩等が好適である。また、カチオン成分をくり
返し単位として有する重合体も広い意味ではカチオン界
面活性剤であり、本発明のカチオン界面活性剤に金色さ
れる。特に、親油性モノマーと共重合して得られた第四
アンモニウム塩を含む重合体は好適に用いることができ
る。
ミン塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキ
ルジメチルエチルアンモニウム塩、アルキルジメチルア
ンモニウム塩、アルキルジメチルベンジルアンモニウム
塩、アルキルピリジニウム塩、アルキルキノリニウム塩
、アルキルイソキノリニウム塩、アルキルピリジニウム
硫酸塩、ステアラミドメチルピリジニウム塩、アノルア
ミノエチルジエチルアミン塩、アンルアミノエチルメチ
ルジエチルアンモニウム塩、アルキルアミドプロピルジ
メチルベンジルアンモニウム塩、脂肪酸ポリエチレンポ
リアミド、アシルアミノエチルピリジニウム塩、アンル
コラミノホルミルメチルビリジニウム塩、ステアラミド
メチルピリジニウム塩、脂肪酸トリエタノールアミン、
脂肪酸トリエタノールアミンギ酸塩、トリオキシエチレ
ン脂肪酸トリエタノールアミン、脂肪酸ジブチルアミノ
エタノール、セチルオキシメチルピリジニウム塩、p−
インオクチルフェノキシエトキンエチルジメチルベンジ
ルアンモニウム塩等がある。(上記化合物の例の中の「
アルキル」とは炭素数6〜20の、直鎖または一部置換
されたアルキルを示し、具体的には、ヘキシル、オクチ
ル、セチル、ステアリル等の直鎖アルキルが好ましく用
いられる。)これらの中では、特に水溶性の第四アンモ
ニウム塩型のカチオン界面活性剤か有効で、その中でも
、アルキルトリメチルアンモニウム塩、アルキルジメチ
ルベンジルアンモニウム塩、エチレンオキンド付加アン
モニウム塩等が好適である。また、カチオン成分をくり
返し単位として有する重合体も広い意味ではカチオン界
面活性剤であり、本発明のカチオン界面活性剤に金色さ
れる。特に、親油性モノマーと共重合して得られた第四
アンモニウム塩を含む重合体は好適に用いることができ
る。
該重合体の重量平均分子量は300〜50000の範囲
であり、特に好ましくは500〜5000の範囲である
。
であり、特に好ましくは500〜5000の範囲である
。
両性界面活性剤としては、例えばN−メチル−Nベンタ
デ/ルアミノ酢酸ナトリウムのような化合物を用いるこ
とができる。
デ/ルアミノ酢酸ナトリウムのような化合物を用いるこ
とができる。
これらの界面活性剤は0.5〜lO重量%の範囲で含有
させることができる。
させることができる。
無機の還元剤としては、例えば亜硫酸ナトリウム、亜a
llカリウム、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸水素ナトリ
ウム、亜WL酸水素カリウム等の亜硫酸塩、亜リン酸−
1+−リウム、亜リン酸カリウム、亜リン酸水素ナトリ
ウム、亜リン酸水素カリウム、亜リン酸二水素ナトリウ
ム、亜すン酸水素二カリウム等のリン酸塩、ヒドラジン
、チオ硫酸ナトリウム、亜ジチオン酸ナトリウム等を挙
げることができるか、特番こ効果か優れている還元剤は
亜硫酸塩である。これらの還元剤は0.1〜10重量%
、より好ましくは0.5〜5重量%の範囲で含有される
。
llカリウム、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸水素ナトリ
ウム、亜WL酸水素カリウム等の亜硫酸塩、亜リン酸−
1+−リウム、亜リン酸カリウム、亜リン酸水素ナトリ
ウム、亜リン酸水素カリウム、亜リン酸二水素ナトリウ
ム、亜すン酸水素二カリウム等のリン酸塩、ヒドラジン
、チオ硫酸ナトリウム、亜ジチオン酸ナトリウム等を挙
げることができるか、特番こ効果か優れている還元剤は
亜硫酸塩である。これらの還元剤は0.1〜10重量%
、より好ましくは0.5〜5重量%の範囲で含有される
。
該現像液及びその補充液には、その他公知の添加剤、例
えば、水溶性又はアルカリ可溶性の有機の還元剤、有機
カルボン酸及びその塩等を含有させることができる。
えば、水溶性又はアルカリ可溶性の有機の還元剤、有機
カルボン酸及びその塩等を含有させることができる。
有機の還元剤としては、例えばハイドロキノン、メト〜
ル、メトキシキノン等のフェノール化合物、フェニレン
ジアミン、フェニルヒドラジン等のアミン化合物がある
。
ル、メトキシキノン等のフェノール化合物、フェニレン
ジアミン、フェニルヒドラジン等のアミン化合物がある
。
有機カルボン酸には、炭素原子数6〜20の脂肪族カル
ボン酸、およびベンゼン環またはナフタレン環にカルボ
キシル基が置換した芳香族カルボン酸が包含される。
ボン酸、およびベンゼン環またはナフタレン環にカルボ
キシル基が置換した芳香族カルボン酸が包含される。
脂肪族カルボン酸としては炭素数6〜20のアルカン酸
が好ましく、具体的な例としては、カプロン酸、エナン
チル酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ラウ
リン酸、ミスチリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等
があり、特に好ましいのは炭素数6〜12のアルカン酸
である。また炭素鎖中に二重結合を有する脂肪酸でも、
枝分れした炭素鎖のものでもよい。上記脂肪族カルボン
酸はナトリウムやカリウムの塩またはアンモニウム塩と
して用いてもよい。
が好ましく、具体的な例としては、カプロン酸、エナン
チル酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ラウ
リン酸、ミスチリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等
があり、特に好ましいのは炭素数6〜12のアルカン酸
である。また炭素鎖中に二重結合を有する脂肪酸でも、
枝分れした炭素鎖のものでもよい。上記脂肪族カルボン
酸はナトリウムやカリウムの塩またはアンモニウム塩と
して用いてもよい。
芳香族カルボン酸の具体的な化合物としては、安息香酸
、O−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、0−ヒド
ロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、p−ter
t−ブチル安息香酸、0−アミノ安息香酸、p−アミノ
安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2゜5−ジ
ヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、
2.3−ジヒドロキシ安息香酸、3.5−ジヒドロキ/
安息香酸、没食子酸、l−ヒドロキシ−2−す7トエ酸
、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキン−
■−ナフトエ酸、l−す7トエ酸、2−ナフトエ酸等が
ある。
、O−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、0−ヒド
ロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、p−ter
t−ブチル安息香酸、0−アミノ安息香酸、p−アミノ
安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2゜5−ジ
ヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、
2.3−ジヒドロキシ安息香酸、3.5−ジヒドロキ/
安息香酸、没食子酸、l−ヒドロキシ−2−す7トエ酸
、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキン−
■−ナフトエ酸、l−す7トエ酸、2−ナフトエ酸等が
ある。
上記芳香族カルボン酸はすトリウムやカリウムの塩また
はアンモニウム塩として用いてもよい。
はアンモニウム塩として用いてもよい。
脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸の含有量は好まし
くは0.1−10重量%である。
くは0.1−10重量%である。
また、本発明における現像液及び補充液には現像性能を
高めるために以下のような添加剤を加えることができる
。例えば特開昭58−75152号公報記載のNaCQ
、 KC+2. KBr等の中性塩、特開昭59−19
0952号公報記載のEl)TA、 NTA等のキレー
ト剤、特開昭59−121336号公報記載のcco(
NHx)Lca3等の錯体、特開昭56−142528
号公報記載のビニルベンジルトリメチルアンモニウムク
ロライドとアクリル酸ナトリウムの共重合体等の両性高
分子電解質、特開昭58−59444号公報記載の塩化
リチウム等の無機リチウム化合物、特公昭50−344
42号公報記載の安息香酸リチウム等の有機リチウム化
合物、特開昭5975255号公報記載のSi、 Ti
等を含む有機金属界面活性剤、特開昭59−84241
号公報記載の有機硼素化金物が挙げられる。
高めるために以下のような添加剤を加えることができる
。例えば特開昭58−75152号公報記載のNaCQ
、 KC+2. KBr等の中性塩、特開昭59−19
0952号公報記載のEl)TA、 NTA等のキレー
ト剤、特開昭59−121336号公報記載のcco(
NHx)Lca3等の錯体、特開昭56−142528
号公報記載のビニルベンジルトリメチルアンモニウムク
ロライドとアクリル酸ナトリウムの共重合体等の両性高
分子電解質、特開昭58−59444号公報記載の塩化
リチウム等の無機リチウム化合物、特公昭50−344
42号公報記載の安息香酸リチウム等の有機リチウム化
合物、特開昭5975255号公報記載のSi、 Ti
等を含む有機金属界面活性剤、特開昭59−84241
号公報記載の有機硼素化金物が挙げられる。
更に、本発明方法に用いられる滞ガ・ポジ共通現像液に
は、特開昭62−24263号、同62−24264号
、同62−25761号、同62−35351号、同6
2−75535号、同62−89060号、同62−1
25357号、同62−133460号、同62−15
9148号、同62−168160号、同62−175
758号、同63−200154号、同63−2056
58号、各公報に記載されているような現像液が含まれ
る。
は、特開昭62−24263号、同62−24264号
、同62−25761号、同62−35351号、同6
2−75535号、同62−89060号、同62−1
25357号、同62−133460号、同62−15
9148号、同62−168160号、同62−175
758号、同63−200154号、同63−2056
58号、各公報に記載されているような現像液が含まれ
る。
本発明が適用されるPS版には下記のような感光性組成
物の層を親水性面を有する支持体の該面上J二股けたも
のが含まれる。
物の層を親水性面を有する支持体の該面上J二股けたも
のが含まれる。
l)光架橋系感光性樹脂組成物
光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許3,030.208号明細書、同3.435
.237号明細書及び同3,622.320号明細書等
に記載されているごとき、重合体主鎖中に感光基として
−C)I−CH−Co−を含む感光性樹脂、及び重合体
の側鎖に感光基を有するポリビニルシンナメート等が挙
げられる。
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許3,030.208号明細書、同3.435
.237号明細書及び同3,622.320号明細書等
に記載されているごとき、重合体主鎖中に感光基として
−C)I−CH−Co−を含む感光性樹脂、及び重合体
の側鎖に感光基を有するポリビニルシンナメート等が挙
げられる。
2)光重合系感光性樹脂組成物
付加重合性不飽和化合物を含む光重合性組成物であって
、二重結合を有する単量体と高分子バインダーからなり
、このような組成物の代表的なものは、例えば、米国特
許2,760.863号明細書及び同2,791,50
4号rytmxi*i二記載されている。
、二重結合を有する単量体と高分子バインダーからなり
、このような組成物の代表的なものは、例えば、米国特
許2,760.863号明細書及び同2,791,50
4号rytmxi*i二記載されている。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
3)ジアゾ化合物を含む感光性組成物
この感光性組成物中のジアゾ化合物は、例えば好ましく
は芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド又はアセト
アルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂である。
は芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド又はアセト
アルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂である。
特に好ましくは、p−ジアゾジフェニルアミンとホルム
アルデヒド又はアセトアルデヒドとの縮合物の塩、例え
ばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラフルオロホウ酸塩
、過塩素酸塩又は過ヨウ素酸塩と前記縮合物との反応生
成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米国特許3,300.
309号明細書中に記載されているような、前記縮合物
とスルホン酸類との反応生成物であるジアゾ樹脂有機塩
等か挙げられる。更にジアゾ樹脂は、好ましくは結合剤
と共に使用される。かがる結合剤としては種々の高分子
化合物を使用することができるが、好ましくは特開昭5
4−98613号公報に記載されているような芳香族性
水酸基を有する単量体、例えば、N−(4−ヒドロキシ
フェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェ
ニル)メタクリルアミド、o−、m−、またはp−ヒド
ロキシスチレン、o−、s−、またはp−ヒドロキシフ
ェニルメタクリレート等と他の単量体との共重合体、米
国特許4.123,276号明細書中に記載されている
ようなヒドロキシエチルアクリレート単位又はヒドロキ
シエチルメタクリレート単位を主な繰り返し巣位として
含むポリマーンエラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビ
ニルアルコール、米国特許3,751,257号明細書
中に記載されているようなポリアミド樹脂、米国特許3
,660.097号明細書中に記載されているような線
状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールの7タレー
ト化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから
縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロース
アセテートフタレート等のセルロース誘導体が包含され
る。
アルデヒド又はアセトアルデヒドとの縮合物の塩、例え
ばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラフルオロホウ酸塩
、過塩素酸塩又は過ヨウ素酸塩と前記縮合物との反応生
成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米国特許3,300.
309号明細書中に記載されているような、前記縮合物
とスルホン酸類との反応生成物であるジアゾ樹脂有機塩
等か挙げられる。更にジアゾ樹脂は、好ましくは結合剤
と共に使用される。かがる結合剤としては種々の高分子
化合物を使用することができるが、好ましくは特開昭5
4−98613号公報に記載されているような芳香族性
水酸基を有する単量体、例えば、N−(4−ヒドロキシ
フェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェ
ニル)メタクリルアミド、o−、m−、またはp−ヒド
ロキシスチレン、o−、s−、またはp−ヒドロキシフ
ェニルメタクリレート等と他の単量体との共重合体、米
国特許4.123,276号明細書中に記載されている
ようなヒドロキシエチルアクリレート単位又はヒドロキ
シエチルメタクリレート単位を主な繰り返し巣位として
含むポリマーンエラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビ
ニルアルコール、米国特許3,751,257号明細書
中に記載されているようなポリアミド樹脂、米国特許3
,660.097号明細書中に記載されているような線
状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールの7タレー
ト化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから
縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロース
アセテートフタレート等のセルロース誘導体が包含され
る。
4)o−キノンジアジド化合物を含む感光性組成物0−
キノンジアジド化合物を含む感光性組成物J:おいては
、0−キノンジアジド化合物とアルカリ可溶性樹脂を併
用することが好ましい。
キノンジアジド化合物を含む感光性組成物J:おいては
、0−キノンジアジド化合物とアルカリ可溶性樹脂を併
用することが好ましい。
0−キノンジアジド化合物としては、例えば0−ナフト
キノンジアジドスルホン酸と、フェノール類及びアルデ
ヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステル化合物が挙げ
られる。
キノンジアジドスルホン酸と、フェノール類及びアルデ
ヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステル化合物が挙げ
られる。
前記フェノール類としては、例えば、フェノール、0−
クレゾール、■−クレゾール、p−クレゾール、3.5
−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価フ
エノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の
二価フェノール、ピロガロール、70口グルシン等の三
価フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしては
ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセ!・アルデ
ヒド、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられ
る。これらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及び
ベンズアルデヒドである。又、前記ケトンとしてはアセ
トン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
クレゾール、■−クレゾール、p−クレゾール、3.5
−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価フ
エノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の
二価フェノール、ピロガロール、70口グルシン等の三
価フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしては
ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセ!・アルデ
ヒド、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられ
る。これらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及び
ベンズアルデヒドである。又、前記ケトンとしてはアセ
トン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、層−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、■−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルンン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
ルムアルデヒド樹脂、層−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、■−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルンン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
前記0−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類の
OH基に対する0−ナフトキノンジアジドスルホン酸の
縮合率(011基1個に対する反応率)は、15〜80
%が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
OH基に対する0−ナフトキノンジアジドスルホン酸の
縮合率(011基1個に対する反応率)は、15〜80
%が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
0−キノンジアジド化合物としては特開昭58−434
51号公報に記載のある以下の化合物も使用できる。
51号公報に記載のある以下の化合物も使用できる。
又、特公昭37−1953号、同37−3627号、同
37−13109号、同40−26126号、同40〜
3801号、同45−5604号、同45−27345
号、同51−13013号、特開昭48−96575号
、同48−63802号、同48−63802号各公報
に記載された1、2−キノンジアジド化合物をも挙げる
ことができる。
37−13109号、同40−26126号、同40〜
3801号、同45−5604号、同45−27345
号、同51−13013号、特開昭48−96575号
、同48−63802号、同48−63802号各公報
に記載された1、2−キノンジアジド化合物をも挙げる
ことができる。
前記のPS版に使用される支持体としては、紙、プラス
チック (例えはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレンなど)ラミネート紙、アルミニウム(アルミニ
ウム合金も含む)、亜鉛、銅などのような金属の板、二
酢酸セルロース、=酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタ
ールなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如き
金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはクロー
ムメツキが施された鋼板などが挙げられ、これらのうち
特にアルミニウム及びアルミニウム被覆された複合支持
体が好ましい。
チック (例えはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレンなど)ラミネート紙、アルミニウム(アルミニ
ウム合金も含む)、亜鉛、銅などのような金属の板、二
酢酸セルロース、=酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタ
ールなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如き
金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはクロー
ムメツキが施された鋼板などが挙げられ、これらのうち
特にアルミニウム及びアルミニウム被覆された複合支持
体が好ましい。
又、アルミニウム材の表面は、保水性を高め感光層と密
着性を向上させる目的で粗面化処理されていることが望
ましい。
着性を向上させる目的で粗面化処理されていることが望
ましい。
粗面化方法としては、一般に公知のプラン研磨法、ボー
ル研磨法、電解エツチング、化学的エツチング、液体ホ
ーニング、サンドブラスト等の方法及びこれらの組合せ
が挙げられ、好ましくはブラシ研磨法、電解エツチング
、化学的エツチング及び液体ホーニングが挙げられ、こ
れらのうちで特に電解エツチングの使用を含む粗面化方
法か特に好ましい。又、電解エツチングの際に用いられ
る電解浴としては、酸、アルカリ又はそれらの塩を含む
水溶液或いは有機溶剤を含む水性溶液か用いられ、これ
らのうちで特に塩酸、硝酸又はそれらの塩を含む電解液
が好ましい。更に粗面化処理の施されたアルミニウム板
は、必要に応して酸又はアルカリの水溶液にてデスマッ
ト処理される。
ル研磨法、電解エツチング、化学的エツチング、液体ホ
ーニング、サンドブラスト等の方法及びこれらの組合せ
が挙げられ、好ましくはブラシ研磨法、電解エツチング
、化学的エツチング及び液体ホーニングが挙げられ、こ
れらのうちで特に電解エツチングの使用を含む粗面化方
法か特に好ましい。又、電解エツチングの際に用いられ
る電解浴としては、酸、アルカリ又はそれらの塩を含む
水溶液或いは有機溶剤を含む水性溶液か用いられ、これ
らのうちで特に塩酸、硝酸又はそれらの塩を含む電解液
が好ましい。更に粗面化処理の施されたアルミニウム板
は、必要に応して酸又はアルカリの水溶液にてデスマッ
ト処理される。
こうして得られたアルミニウム板は陽極酸化処理される
ことが望ましく、特に好ましくは、硫酸又はリン酸を含
む浴で処理する方法が挙げられる。
ことが望ましく、特に好ましくは、硫酸又はリン酸を含
む浴で処理する方法が挙げられる。
又、更に必要に応じて封孔処理、その他部化ジルコニウ
ム酸カリウム水溶液への浸漬などによる表面処理を行う
ことができる。
ム酸カリウム水溶液への浸漬などによる表面処理を行う
ことができる。
本発明方法において、現像液及び現像補充液には、好ま
しくは前記のように(A)ケイ酸アルカリ、(B)界面
活性剤、(C)有機溶剤、及び(D)還元性無機塩から
選ばれる少なくとも2種を含有させるのであるが、現像
液中の上記(A)〜(D)の各濃度の好ましい範囲は、
(A)か0゜3〜IO重量%、(B)が0.0110!
’量%、(C)が0゜1〜lO重量%、(D)が0.1
〜20重量%であり、現像補充液中の好ましい濃度範囲
は、(A)が0.5〜lO重量%、(B)が0,05〜
15重量%、(C)が0.1〜10重量%、(D)が0
.5〜30重量%である。
しくは前記のように(A)ケイ酸アルカリ、(B)界面
活性剤、(C)有機溶剤、及び(D)還元性無機塩から
選ばれる少なくとも2種を含有させるのであるが、現像
液中の上記(A)〜(D)の各濃度の好ましい範囲は、
(A)か0゜3〜IO重量%、(B)が0.0110!
’量%、(C)が0゜1〜lO重量%、(D)が0.1
〜20重量%であり、現像補充液中の好ましい濃度範囲
は、(A)が0.5〜lO重量%、(B)が0,05〜
15重量%、(C)が0.1〜10重量%、(D)が0
.5〜30重量%である。
本発明方法において現像液と現像補充液とで上記成分の
濃度を異ならせることが好ましい。具体的Iこは、界面
活性剤及び/又は還元性無機塩の濃度を現像液より現像
補充液を大にする態様が挙げられる。
濃度を異ならせることが好ましい。具体的Iこは、界面
活性剤及び/又は還元性無機塩の濃度を現像液より現像
補充液を大にする態様が挙げられる。
本発明方法において、現像補充液のpHは現像液のpH
より高いことが好ましい。現像液のI)Hはこのましく
は12.5〜13.5であり、現像補充液のpHは好ま
しくけ12.8〜13.8である。
より高いことが好ましい。現像液のI)Hはこのましく
は12.5〜13.5であり、現像補充液のpHは好ま
しくけ12.8〜13.8である。
本発明において現像補充液は1種の液を使用するのであ
るか、現像補充液として濃厚液を用い、希釈水で希釈す
る形態も本発明に包含される。
るか、現像補充液として濃厚液を用い、希釈水で希釈す
る形態も本発明に包含される。
本発明において、現像液の活性度の低下を検出する手段
としては、従来公知の種々の方法、例えは現像液の疲労
度を測定する方法、あるいはPS版の処理量を測定する
方法などを適用できる。
としては、従来公知の種々の方法、例えは現像液の疲労
度を測定する方法、あるいはPS版の処理量を測定する
方法などを適用できる。
現像液の疲労度を測定する方法としては、現像液のpI
(を測定する方法、PS版の溶出度合を電気的ある◇・
は光学的lこ測定する方法、現Φ液温度や外気温度ある
し・はンヤワー流速を測定し時間で積算する方法等が挙
げられ、処理量を測る方法としては、処理するPSJf
Lの版面積を測定する方法、現像後に版の非画像部面積
を測定する方法、スキャナーによる画像走査信号の積算
値あるいは露光に用いるレーザ光の変調入力信号の積分
値を利用して処理するPS版の非画像部面積を測定する
方法、また、露光後の可視画像を読み取って処理するP
S版の非画像部面積を測定する方法等が挙げられる。
(を測定する方法、PS版の溶出度合を電気的ある◇・
は光学的lこ測定する方法、現Φ液温度や外気温度ある
し・はンヤワー流速を測定し時間で積算する方法等が挙
げられ、処理量を測る方法としては、処理するPSJf
Lの版面積を測定する方法、現像後に版の非画像部面積
を測定する方法、スキャナーによる画像走査信号の積算
値あるいは露光に用いるレーザ光の変調入力信号の積分
値を利用して処理するPS版の非画像部面積を測定する
方法、また、露光後の可視画像を読み取って処理するP
S版の非画像部面積を測定する方法等が挙げられる。
また、」二記の方法を幾つか組み合わせて使用すること
も可能である。
も可能である。
上記の各種の方法のうちの好ましいものとしては、PS
版の枚数、搬送方向長さ、又は面積を測定する方法:現
像工程でPS版の感光層の溶出度合をインピーダンスで
測定する方法;及び現像液の導電率又はpHを測定する
方法が挙げられる。
版の枚数、搬送方向長さ、又は面積を測定する方法:現
像工程でPS版の感光層の溶出度合をインピーダンスで
測定する方法;及び現像液の導電率又はpHを測定する
方法が挙げられる。
板積と検出手段の好ましい組み合わせの例として下記(
1)〜(3)が挙げられる。
1)〜(3)が挙げられる。
(1)ネガ型PS版に対して版面積、ポジ型23版に対
して現像液の導電率。
して現像液の導電率。
(2)ネガ型PS版に対して版面積、ポジ型23版に対
して現像工程における版面のインピーダンス。
して現像工程における版面のインピーダンス。
(3)ネガ型PS版に対してPS版の搬送方向長さ、ポ
ジ型23版に対して現像液の導電率。
ジ型23版に対して現像液の導電率。
本発明においては板積で異なる手段で検出し、各々に対
応した量の補充を行うのであるが、板積及び検出手段に
対応する補充量は、予め実験により容易に求めることが
でき、その方法については後記する。
応した量の補充を行うのであるが、板積及び検出手段に
対応する補充量は、予め実験により容易に求めることが
でき、その方法については後記する。
本発明l−おいて、現像補充は処理疲労と経時疲労に分
けて補充し、処理疲労に対する補充を本発明により行う
ことが好ましい。
けて補充し、処理疲労に対する補充を本発明により行う
ことが好ましい。
本発明において、板積の検出及びその検出結果による制
御方法の切り替えは、人為的に行ってもまた自動的に行
ってもよい。
御方法の切り替えは、人為的に行ってもまた自動的に行
ってもよい。
次に、本発明の処理装置について図面を8照して説明す
る。
る。
第1図は、本発明に係る処理装置の構成区である。同図
において、1は搬送ローラ、2は絞り口〜う、3は串ロ
ーラ、4は受ローラ、5はブランローラ、6は現像液タ
ンク、7はポンプ、8はノヤワーパイプ、9は現像補充
液タンク、PはPS版の搬送経路である。
において、1は搬送ローラ、2は絞り口〜う、3は串ロ
ーラ、4は受ローラ、5はブランローラ、6は現像液タ
ンク、7はポンプ、8はノヤワーパイプ、9は現像補充
液タンク、PはPS版の搬送経路である。
10は導電率測定用ガラスセルで、現像タンク6中の現
像液の導電率を測定する。該セルから送られた信号は図
示しない導電率計本体とこれに接続した制御装ff1i
llにより補充装置12を制御するようになっている。
像液の導電率を測定する。該セルから送られた信号は図
示しない導電率計本体とこれに接続した制御装ff1i
llにより補充装置12を制御するようになっている。
13は光学センサで、最も小さい定型サイズのPS版の
挿入領域の隅角部及び−辺中央部にそれぞれ近接する箇
所に光学センサを配置し、さらに順次大きくなる定型サ
イズのPS版挿入領域にそれぞれ光学センサを配置し、
2個の光学センサからのPS版検出信号に基づいてPS
版サイズを検出し得るようになっている。また、PS版
の存在を検知し光学センサ13下の通過時間によりPS
版の搬送方向長さを検出し得るようIこしてもよい。ま
た、光学センサ等でPS版の先端を検知しPS版の枚数
を検出するようにしてもよい。
挿入領域の隅角部及び−辺中央部にそれぞれ近接する箇
所に光学センサを配置し、さらに順次大きくなる定型サ
イズのPS版挿入領域にそれぞれ光学センサを配置し、
2個の光学センサからのPS版検出信号に基づいてPS
版サイズを検出し得るようになっている。また、PS版
の存在を検知し光学センサ13下の通過時間によりPS
版の搬送方向長さを検出し得るようIこしてもよい。ま
た、光学センサ等でPS版の先端を検知しPS版の枚数
を検出するようにしてもよい。
現像液の活性度の低下に関する検出結果と補充量との関
係は、新液を用いてポジ型23版を多数枚処理してゆき
、感度変動の許容限度まで疲労したときの導電率の低下
量(C)、及びこのときの液の感度を新液の感度に戻す
に必要な補充量(適切補充量) (p+)を実験的に
求める。別に、ネガ型PS版を用いて同様にして多数枚
処理して処理されたPS版の面積(a)に対する適切補
充量(p、)を実験的に求める。
係は、新液を用いてポジ型23版を多数枚処理してゆき
、感度変動の許容限度まで疲労したときの導電率の低下
量(C)、及びこのときの液の感度を新液の感度に戻す
に必要な補充量(適切補充量) (p+)を実験的に
求める。別に、ネガ型PS版を用いて同様にして多数枚
処理して処理されたPS版の面積(a)に対する適切補
充量(p、)を実験的に求める。
他の測定量に対しても同様にして検出結果と補光量との
関係を求めることができる。
関係を求めることができる。
又、本発明の現像処理方法及び装置については、現像後
処理工程として必要に応じて水洗工程、リンス処理工程
、ガム処理工程、乾燥工程等を付与することができる。
処理工程として必要に応じて水洗工程、リンス処理工程
、ガム処理工程、乾燥工程等を付与することができる。
以下、実施例で本発明を更に具体的に説明する。
実施例1
す7トキノン12−ノアシト−5−スルホニルクロライ
ドとレゾルノン−ベンズアルデヒド樹脂とのエステル化
物(特開昭56−1044号の実施例−1に記載のもの
)3重量部、タレゾルルツボラック樹脂9重量部及びビ
クトリア・ピュア・ブルー・BOH(保土谷化学化学工
業株式会社製、染料)0.12重量部をメチルセロソル
ブ100重量部に溶解し感光液を調製した。厚さ0.3
+amの砂目立てしたアルミニウム板を硫酸中で陽極酸
化し、2.7g/m’の酪化皮膜をつくり、よく沈降し
た後乾燥し、その上に上記感光液を塗布乾燥し、約2.
4g/va”の感光層を有するPS版を得た。このよう
にして得られたポジ型PS版を10010O380Qm
mの大きさに裁断したものを多数枚用意し、これらに透
明陽画を通して80cmの距離から2kwのメタルハラ
イドランプを用いて60秒間露光した。
ドとレゾルノン−ベンズアルデヒド樹脂とのエステル化
物(特開昭56−1044号の実施例−1に記載のもの
)3重量部、タレゾルルツボラック樹脂9重量部及びビ
クトリア・ピュア・ブルー・BOH(保土谷化学化学工
業株式会社製、染料)0.12重量部をメチルセロソル
ブ100重量部に溶解し感光液を調製した。厚さ0.3
+amの砂目立てしたアルミニウム板を硫酸中で陽極酸
化し、2.7g/m’の酪化皮膜をつくり、よく沈降し
た後乾燥し、その上に上記感光液を塗布乾燥し、約2.
4g/va”の感光層を有するPS版を得た。このよう
にして得られたポジ型PS版を10010O380Qm
mの大きさに裁断したものを多数枚用意し、これらに透
明陽画を通して80cmの距離から2kwのメタルハラ
イドランプを用いて60秒間露光した。
一方、ネガ型23版を次のようにして作製した。
厚さ0−24■の砂目立てしたアルミニウム板を硫酸中
で陽極酸化し、約1.5g/m”の酸化皮膜をつくり、
よく洗浄した後、珪酸ナトリウム水溶液に浸漬し、充分
水洗後、乾燥し、下記組成の感光液を塗布した。
で陽極酸化し、約1.5g/m”の酸化皮膜をつくり、
よく洗浄した後、珪酸ナトリウム水溶液に浸漬し、充分
水洗後、乾燥し、下記組成の感光液を塗布した。
p−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド、アクリロニ
トリル、エチルアクリレート、及びメタアクリル酸の共
重合体 (モル比は上記の順に8.5: 24: 60.5:
7 )5.0重量部 p−ジアゾジフェニルアミンと バラホルムアルデヒドの縮合物のヘキサフルオロリン酸
塩 0.5重量部 ビクトリア・ピュアー・ブルーBOH (採土ケ谷化学工業(株)製)0.1重量部エヂレング
リコールモノメチルエーテル100重量部 乾燥後の塗布量は、1.8g/m2であった。
トリル、エチルアクリレート、及びメタアクリル酸の共
重合体 (モル比は上記の順に8.5: 24: 60.5:
7 )5.0重量部 p−ジアゾジフェニルアミンと バラホルムアルデヒドの縮合物のヘキサフルオロリン酸
塩 0.5重量部 ビクトリア・ピュアー・ブルーBOH (採土ケ谷化学工業(株)製)0.1重量部エヂレング
リコールモノメチルエーテル100重量部 乾燥後の塗布量は、1.8g/m2であった。
このようにして得られたネガ型23版を800mllx
1003mmの大きさに裁断したものを多数枚用意し、
これらに透明陰画を通して80cmの距離から2kJの
メタルハライドランプを用いて50秒間露光しt:。
1003mmの大きさに裁断したものを多数枚用意し、
これらに透明陰画を通して80cmの距離から2kJの
メタルハライドランプを用いて50秒間露光しt:。
次に以下のような組成の現像濃縮液を調製した。
ベンジルアルコール 75.0g2−
ナフトエ酸 150.Og
安息香酸 300.0g5
0%水酸化カリウム水溶液 770.0gエ
マルゲン147(化工(株)製、 ノニオン界面活性剤) 8.0g珪酸
カリウム水溶液 540.0g(S1
0□含有26重量%、K20含有13重量%)40%亜
硫酸カリウム水溶液 450.0g水
1
300.0g第1図に示す自動現像機の現像液タンク6
に上記現像濃縮液と水を1=7の比率で混合した現像液
24Qを仕込み、現像液温を27°Cに調整した。また
、現像補充液タンク9に以下のような組成の現像補充液
を仕込んだ。
ナフトエ酸 150.Og
安息香酸 300.0g5
0%水酸化カリウム水溶液 770.0gエ
マルゲン147(化工(株)製、 ノニオン界面活性剤) 8.0g珪酸
カリウム水溶液 540.0g(S1
0□含有26重量%、K20含有13重量%)40%亜
硫酸カリウム水溶液 450.0g水
1
300.0g第1図に示す自動現像機の現像液タンク6
に上記現像濃縮液と水を1=7の比率で混合した現像液
24Qを仕込み、現像液温を27°Cに調整した。また
、現像補充液タンク9に以下のような組成の現像補充液
を仕込んだ。
ベンジルアルコール 60.0g2−
ナフトエ酸 120・O
g安息香酸 300.0g
50%水酸化カリウム水溶液 1400.0g
エマルゲン147 80.0g
(化工(株)製、ノニオン界面活性剤)珪酸カリウム水
溶液 1200.0g(5102含有2
6重量%、K、O含有13重量%)40%亜硫酸カリウ
ム水溶液 400.0g水
2300.
0g次いで第1図に示す自動現像機を用いて前記露光済
みのPS版の処理を行った。
ナフトエ酸 120・O
g安息香酸 300.0g
50%水酸化カリウム水溶液 1400.0g
エマルゲン147 80.0g
(化工(株)製、ノニオン界面活性剤)珪酸カリウム水
溶液 1200.0g(5102含有2
6重量%、K、O含有13重量%)40%亜硫酸カリウ
ム水溶液 400.0g水
2300.
0g次いで第1図に示す自動現像機を用いて前記露光済
みのPS版の処理を行った。
自動現像機の挿入台に図示しないネガ・ポジ切り替えス
イッチを設け、ネガ型23版の処理時は光学センサ13
でPS版の面積を検出し該面積に応じて補充しく 40
m ltr/ m ”) 、ポジ型PS版処理時は現像
後の導電率を検出し新障から3+*S低下すると120
0mHrの現像補充液が補充されるようにした。
イッチを設け、ネガ型23版の処理時は光学センサ13
でPS版の面積を検出し該面積に応じて補充しく 40
m ltr/ m ”) 、ポジ型PS版処理時は現像
後の導電率を検出し新障から3+*S低下すると120
0mHrの現像補充液が補充されるようにした。
導電率測定用ガラスセル10としてはCG−201PL
(東亜電波製)を用い、導電率計本体には東亜電波製C
M−30E Tを使用した。また、処理装置の作動中は
PS版の処理とは無関係に1時間毎に200m ltr
の現像補充液か補充され、作動を休止した場合は1時間
につき50m ltrの補充液か補充されるようにした
。現像済みのPS版は、水洗し、市販のカムを手塗りし
、乾燥した。
(東亜電波製)を用い、導電率計本体には東亜電波製C
M−30E Tを使用した。また、処理装置の作動中は
PS版の処理とは無関係に1時間毎に200m ltr
の現像補充液か補充され、作動を休止した場合は1時間
につき50m ltrの補充液か補充されるようにした
。現像済みのPS版は、水洗し、市販のカムを手塗りし
、乾燥した。
このように設定し、1日に前記露光済みボッ型PS版を
60版、ネガ型23版を40版処理し、12日間で合計
1200版処理したところ、すべて新しく調液した現像
液で処理したものとほぼ同一の感度を示す平版印刷版が
得られた。
60版、ネガ型23版を40版処理し、12日間で合計
1200版処理したところ、すべて新しく調液した現像
液で処理したものとほぼ同一の感度を示す平版印刷版が
得られた。
実施例2
ポジ型PS版については特開昭61−162049号の
実施例2において使用された自動現像機(特開昭611
62049号の第2図)の機構によってインピーダンス
を検出し、新液から2−50低下すると200+olt
rの現像補充液が補充されるようにし、1日にポジ型P
S版を70版、ネガ型13版を30版処理してlO日日
間合計1000版の処理を行ったところ、すべて新しく
調液した現像液で処理したものとほぼ同一の感度を示し
、かつ安定な網点再現性を有する平版印刷版が得られた
。
実施例2において使用された自動現像機(特開昭611
62049号の第2図)の機構によってインピーダンス
を検出し、新液から2−50低下すると200+olt
rの現像補充液が補充されるようにし、1日にポジ型P
S版を70版、ネガ型13版を30版処理してlO日日
間合計1000版の処理を行ったところ、すべて新しく
調液した現像液で処理したものとほぼ同一の感度を示し
、かつ安定な網点再現性を有する平版印刷版が得られた
。
本発明によれは、補充液を補充して繰り返し使用するネ
ガ型13版とポジ型PS版との共通現像液でネガ型13
版とポジ型PS版とを共通に現像する場合の現像仕上が
りの安定性か改良される。また、1種の現像補充液を使
用し、単に補充量を変えるだけで長期間に亙ってネガ・
ポジ共通現像を安定に行うことができ、またこれにより
処理装置の低コスト化が可能である。
ガ型13版とポジ型PS版との共通現像液でネガ型13
版とポジ型PS版とを共通に現像する場合の現像仕上が
りの安定性か改良される。また、1種の現像補充液を使
用し、単に補充量を変えるだけで長期間に亙ってネガ・
ポジ共通現像を安定に行うことができ、またこれにより
処理装置の低コスト化が可能である。
第1図は本発明に係る処理装置の例を示す構成図である
。 6・・・現像液タンク 9・・・現像補充液タンク IO・・・導電率測定用ガラスセル 11・・・制御装置 12・・・補充装置 13・・・光学センサ
。 6・・・現像液タンク 9・・・現像補充液タンク IO・・・導電率測定用ガラスセル 11・・・制御装置 12・・・補充装置 13・・・光学センサ
Claims (2)
- (1)ネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印
刷版を繰り返し使用されるネガ・ポジ共通現像液で処理
する方法において、処理疲労により低下する現像液の活
性度を版種によって異なる検出手段を用いて検出し、各
々に対応した量の補充液を添加して補償することを特徴
とする感光性平版印刷版の処理方法。 - (2)ネガ型感光性平版印刷版及びポジ型感光性平版印
刷版の版種について、各々に対応させた異なる検出手段
を有し、それを用いて処理疲労を検出し、各々に対応し
た補充を行う機構を有することを特徴とする処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11914890A JP2876148B2 (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 感光性平版印刷版の処理方法及び処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11914890A JP2876148B2 (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 感光性平版印刷版の処理方法及び処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0415653A true JPH0415653A (ja) | 1992-01-21 |
JP2876148B2 JP2876148B2 (ja) | 1999-03-31 |
Family
ID=14754105
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11914890A Expired - Fee Related JP2876148B2 (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 感光性平版印刷版の処理方法及び処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2876148B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5716743A (en) * | 1992-02-17 | 1998-02-10 | Agfa-Gevaert Ag | Process and apparatus for developing radiation-sensitive, exposed printing forms |
-
1990
- 1990-05-09 JP JP11914890A patent/JP2876148B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5716743A (en) * | 1992-02-17 | 1998-02-10 | Agfa-Gevaert Ag | Process and apparatus for developing radiation-sensitive, exposed printing forms |
US5930547A (en) * | 1992-02-17 | 1999-07-27 | Agfa-Gevaert Ag | Process and apparatus for developing radiation-sensitive, exposed printing forms |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2876148B2 (ja) | 1999-03-31 |
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