JPH04155801A - ノイズフィルタ - Google Patents

ノイズフィルタ

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JPH04155801A
JPH04155801A JP2281309A JP28130990A JPH04155801A JP H04155801 A JPH04155801 A JP H04155801A JP 2281309 A JP2281309 A JP 2281309A JP 28130990 A JP28130990 A JP 28130990A JP H04155801 A JPH04155801 A JP H04155801A
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electrode
electrodes
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ceramic layer
common electrode
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Akiyoshi Nakayama
晃慶 中山
Kazuyoshi Nakamura
和敬 中村
Yasunobu Yoneda
康信 米田
Yukio Sakabe
行雄 坂部
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電圧非直線性抵抗体として機能するノイズフ
ィルタに関し、特に、金属−半導体間の界面におけるシ
ョットキー障壁を利用して電圧非直線性が得られている
ノイズフィルタに関する。
〔従来の技術〕
近年、マイクロコンピュータの発達により、産業用機器
、家電製品及び通信機器等のあらゆる装置にマイクロコ
ンピュータが搭載されている。
マイクロコンピュータが搭載された機器では、デジタル
制御処理が行われており、ノイズフィルタによる破壊あ
るいは誤動作の恐れがあり、実際に、ノイズフィルタに
起因する事故も生じている。
ノイズフィルタの機器への侵入経路は、電源部分及び信
号配線部分であることが多く、従って、入出力部分に用
いられるノイズフィルタの役割が重要視されている。
EMIノイズの問題を解消するためには、ノイズを機器
から出さず、かつ機器に侵入させないことが必要である
。ノイズの出入は電線を経由するのが普通であり、従っ
て機器人出力部近傍において電線にノイズフィルタを接
続する方法が多用されている。
従来から用いられているノイズフィルタとしては、(a
)コンデンサ素子を用いたもの、(b)コンデンサーイ
ンダクタ複合系のもの、(C)インダクタ素子を用いた
もの、及び(d)バリスタ素子を用いたもの等がある。
(a)のコンデンサを用いたものは、微小ノイズを除去
するという点において優れているか、コンデンサのみで
は静電気のような高電圧パルスを吸収することができず
、高電圧パルスに基づく装置の破壊や誤動作を防止する
ことができなかった。
(b)のコンデンサーインダクタ複合系ノイズフィルタ
は、ホワイトノイズ等を吸収するのに適している。また
、(d)のバリスタ素子を用いたものはトランジェント
・ノイズを吸収するのに適している。
しかしながら、信号ラインにおけるノイズ吸収は信号の
周波数と密接な関係がある。また、最近では、デジタル
化が進んでいるため、波形に太きな歪みが生じてはなら
ない。よって、静電容量が大きすぎると信号ライン用ノ
イズフィルタとして用いることができず、またICの耐
電圧が60〜70V程度であるため、これ以下にノイズ
成分を抑える必要がある。
コンデンサーインダクタ系ノイズフィルタは、静電容量
の点では問題はないが、共振周波数帯のトランジェント
・ノイズをそのまま通過させてしまい、回路保護ができ
ないという問題がある。また、高電圧ノイズの場合には
、波形を変えることは可能であるが、波高値を大きく抑
えることはできない。
他方、バリスタ素子を用いたものでは、静電容量が50
0pF以上あり、信号ラインのような数100kHz〜
数10MHzの信号を扱う場合には、信号までも吸収あ
るいは変形させることがあった。従って、現在のところ
、バリスタは信号ラインのノイズ除去用素子としてはあ
まり用いられていない。
〔発明が解決しようとする課題〕
本願発明者らは、先に、トランジェント・ノイズの吸収
性に優れたバリスタ素子の特徴を活かしつつ、静電容量
が低減されており、信号の吸収や変形を生じさせ難いノ
イズフィルタを提案した(特願平1−176370号)
このノイズフィルタは、第2図に示すように、バリスタ
特性を有する複数枚のセラミックグリーンシート1〜4
を後述の電極を介在させて積層し、一体焼成することに
より得られた焼結体を利用して構成されている。すなわ
ち、セラミックグリーンシート3上には、端縁3a、3
b間に延びるように、導電ペーストが印刷されて共通電
極5が形成されている。また、セラミックグリーンシー
ト2の上面には、端縁2a、2b間に延びるように導電
ペーストが印刷されて複数本のスルー電極6〜8が形成
されている。
セラミックグリーンシート1〜4を積層し、焼成するこ
とにより、第3図に示す焼結体9が得られる。焼結体9
では、第1の側面9aから第2の側面9bに延びるよう
に共通電極5が形成されており、第3の側面9C及び第
4の側面9d間にはスルー電極6〜8が延ばされている
なお、共通電極5及びスルー電極6〜8は、セラミック
グリーンシート上に印刷された導電ペーストか、セラミ
ック焼結体9を得る際の焼成工程においてセラミックグ
リーンシートと共に焼付けられることにより形成されて
いる。
この先行技術のノイズフィルタは、第4図に示すように
、上記焼結体9の側面9a〜9d(第3図参照)に、外
部電極10a〜lOhを形成することにより完成される
上記ノイズフィルタでは、共通電極5とスルー電極6〜
8が焼結体9内において交差するように配置されている
ため、バリスタ特性部分における電極型なり面積が低減
されており、それによって静電容量が小さくされている
。また、バリスタ特性を有する焼結体9の誘電体として
の性質をも利用することにより、コンデンサとしてのノ
イズ吸収性能をも有する。従って、コンデンサとしての
ノイズ吸収性能と、バリスタとしてのノイズ吸収性能の
双方を併せ持つため、種々の形態のノイズを効果的に吸
収することか可能とされている。
ところで、上記ノイズフィルタは、共通電極5とスルー
電極6〜8との間に配置された半導体セラミックス層を
利用して電圧非直線性を得るものである。すなわち、半
導体セラミックス層における半導体粒子間の粒界におけ
る電圧非直線性を利用したものである。従って、半導体
セラミックス層の厚み及び焼成条件を調整し、共通電極
とスルー電極との間の半導体粒子の粒界を制御すること
によってバリスタ電圧が制御されている。
しかしながら、現在のセラミックス焼結技術では、セラ
ミックス粒子の粒径を高制度にコントロールすることは
非常に困難である。例えば、平均粒径に対して倍以上の
径を有する粒子が生成されることは、ごく普通である。
このような大きな粒子が存在した場合、該大きな粒子の
存在している部分によってバリスタ電圧が決定されるこ
とになる。従って、量産に際し、バリスタ電圧のばらつ
きが大きくなるおそれがあった。また、上記のような大
きな粒子が存在する部分に電流集中が生じ易く、サージ
耐量も小さくなるおそれがあった。
もっとも、内部電極の面積を増大させれば、大きな粒子
の存在確率か高くなるために、サージ耐量が高められる
。しかしながら、内部電極面積を増大させると、同時に
静電容量も増加するため、信号ラインのノイズ吸収用と
しては使用することができなくなる。
よって、本発明の目的は、バリスタ電圧のばらつきが生
じ難く、低バリスタ電圧で動作させることが可能であり
ながらサージ耐量も高められたノイズフィルタを提供す
ることにある。
〔課題を解決するための手段〕
本願発明者らは、ノイズフィルタにおける電圧非直線性
を得るメカニズムを検討した結果、内部電極と半導体粒
子との同の界面に形成されるショットキー障壁を積極的
に利用すればよいのではないかと考え、鋭意積置した結
果、本願発明をなすに至った。
すなわち、半導体粒子間の粒界で得られるバリスタ特性
は安定したものであるが、半導体粒子の粒径を均一にす
ることは非常に困難である。他方、金属−半導体の界面
におけるショットキー障壁は、材料により決定されるも
のであるため、ブレイクダウン電圧は一定である。半導
体セラミックス層の両端に金属電極を形成すると、対称
形のバリスタが形成される。通常のバルク型バリスタで
は電流分散が大きくなるか、金属−半導体間の界面に形
成されるショットキー障壁を利用した上記の構造では、
電流分散が大きくならず、ブレイクダウン電圧のばらつ
きは小さくなる。
上記のようなショットキー障壁を利用した構造は、単結
晶を用いて構成することも可能であるが、単結晶の場合
には製造コストが非常に高く付く。
他方、マイクロチップ・コンデンサ等の製造に用いるも
のとして、膜厚の非常に薄い、〜10μm程度のグリー
ンシートを用いる技術が確率されている。本発明は、こ
のような非常に薄い膜厚のグリーンシートの取扱技術を
利用することにより、完成されたものである。
本発明のノイズフィルタでは、半導体セラミックスより
なる焼結体の側面の第1の部分から第2の部分に向かっ
て延びるように焼結体内に共通電極が形成されている。
そして、該焼結体の厚み方向において半導体セラミック
ス層を介して前記共通電極から隔てられた高さ位置に、
前記焼結体の側面の第3の部分から第4の部分に向かっ
て延びるように、かつ前記共通電極と交差するように少
なくとも一本のスルー電極が形成されている。焼結体の
側面の第1〜第4の部分には、第1〜第4の外部電極が
形成されている。
また、共通電極とスルー電極との間には、前記外部電極
に電気的に接続されないように配置された少なくとも1
つの非接続型内部電極が形成されている。少なくとも1
つの非接続型内部電極は、共通電極と半導体セラミック
ス層を介して隔てられており、またスルー電極とも半導
体セラミックス層を介して隔てられており、さらに、厚
み方向に複数の非接続型内部電極が形成されている場合
には非接続型内部電極同士が半導体セラミックス層を介
して隔てられるように配置されている。
本発明のノイズフィルタでは、共通電極、スルー電極及
び非接続型内部電極のそれぞれと、半導体セラミックス
層との界面に形成されるショットキー障壁により電圧非
直線性が得られる。また、共通電極と非接続型内部電極
との間の半導体セラミックス層、スルー電極と非接続型
内部電極との間の半導体セラミックス層、及び非接続型
内部電極間の半導体セラミックス層の半導体粒子の粒界
数の最小値は2以下とされている。
本発明において、半導体セラミックス層の粒界数の最小
値を2以下としたのは、焼結体を得るためにセラミック
グリーンシート積層体を焼成する際し、電極、特にPd
を成分として含む電極を用いた場合、半導体粒子間の粒
界1〜2層分の酸素を電極が吸収し、粒界のショットキ
ー障壁を減少させ、粒界に起因するバリスタ特性の影響
を低減することができ、安定なバリスタ電圧を得ること
ができるからである。
半導体セラミックスを構成する材料としては、ZnOや
Feignを主成分とする種々のものが用いられ得る。
好ましくは、ZnOを主成分とする材料で半導体セラミ
ックス層を構成した場合、内部電極及び非接続型内部電
極材として、0.  Ql〜10fiji96の希土類
酸化物を含有する金属材料が用いられる。
希土類酸化物を上記の範囲の量だけ含有させた方が好ま
しいのは、以下の理由による。すなわち、希土類酸化物
の含有量が0.01重量%より少ない場合には、共通電
極、スルー電極または非接続型内部電極と、半導体セラ
ミックス層との界面に十分に酸素が拡散しないため、電
圧非直線係数αが小さくなるからである。他方、希土類
酸化物含有量が1(l量%を超えると、半導体セラミッ
クス層の焼結が不十分なものとなり、バリスタ電圧が著
しく大きくなるからである。
〔発明の作用及び効果〕
本発明では、共通電極、スルー電極及び非接続型内部電
極と、半導体セラミックス層との界面に形成されたショ
ットキー障壁により電圧非直線性が与えられる。従って
、バリスタ電圧のばらつきの小さなノイズフィルタが構
成され得る。
また、共通電極、スルー電極及び非接続型内部電極間の
半導体セラミックス層の粒界数の最小値が2以下とされ
ているため、粒界部分におけるショットキー#壁が減少
され、それによってバリスタ電圧がより一層安定なもの
とされている。
さらに、共通電極及びスルー電極が焼結体内で交差する
ように配置されているため、バリスタ特性部分における
電極型なり面積が低減されており、それによって静電容
量がかさくされている。
よって、本発明によれば、バリスタ電圧のばらつきが生
じ難く、低バリスタ電圧で動作させることができ、かつ
サージ耐量の大きなノイズフィルタが提供され得る。
〔実施例の説明〕
本発明の一実施例にかかるノイズフィルタを第1図、第
5図及び第6図を参照して説明する。本実施例のノイズ
フィルタは、第1図に示すように、複数枚のセラミック
グリーンシート11〜15を後述の電極を介在させて積
層し、一体焼成して得られた焼結体を用いて構成されて
いる。
セラミックグリーンシート14の上面には、端縁14a
、14b門に延びるように導電ペーストを印刷すること
により、共通電極16が形成されている。
セラミックグリーンシート13上には、いずれの端縁に
も至らない複数本の非接続型内部電極17〜19が導電
ペーストを印刷することにより形成されている。
さらに、セラミックグリーンシート12の上面には、複
数本のスルー電極20〜22が導電ペーストを印刷する
ことにより形成されている。スルー電極20〜22は、
セラミックグリーンシート12の端縁12a、12bf
iHに至る長さに形成されている。なお、前述した非接
続型内部電極17〜19は、セラミックグリーンシート
11〜15を積層して得られる積層体において、セラミ
ックグリーンシート12を介して、スルー電極20〜2
2と重なり合う位置に形成されている。
また、セラミックグリーンシート12.13としては、
その厚みが、焼成後に半導体セラミ・ソクス層の半導体
粒界数の最小値か2以下となるような厚みのものが用い
られている。
セラミックグリーンシート11〜15を積層して得られ
た積層体を焼成することにより、第5図に示す焼結体2
3が得られる。焼結体23ては、第1の側面23a、第
2の側面23b間に延びるように共通電極16が配置さ
れている。他方、焼結体23の第3の側面23cと第4
の側面23dとの門に延びるように、スルー電極20〜
22が形成されている。
さらに、第5図では図示されていないが、共通電極16
とスルー電極20〜22との間の高さ位置に、前述した
非接続型内部電極17〜19が形成されている。
次に、焼結体23の第1〜第4の側面23a〜23dに
、第6図に示すように、第1.第2の外部電極24a、
24b及び第3.第4の外部電極24c 〜24e、2
4f〜24hか形成される。
外部電極24a〜24hは、上述した共通電極16及び
スルー電極20〜22を外部と電気的に接続するために
設けられているものである。外部電極24a〜24hは
、得られた焼結体23の所定部分に導電ペーストを塗布
し、焼付けることにより、あるいは蒸着、スパッタまた
はめっき等の適宜の導電膜形成方法により形成すること
ができる。
本実施例のノイズフィルタでは、共通電極16と半導体
セラミックス層との界面、スルー電極20〜22と半導
体セラミックス層との界面、並びに非接続型内部電極1
7〜19と半導体セラミックス層との界面に形成された
各ショットキー障壁により電圧非直線性が与えられてい
る。金属−半導体の界面に形成されるショットキー障壁
は、材質により決定されるものであるため、ブレイクダ
ウン電圧が一定であり、従って本実施例のノイズフィル
タではバリスタ電圧のばらつきが小さくされ得る。
しかも、焼結体23の厚み方向において、共通電極16
、非接続型内部電極17〜19及びスルー電極20〜2
2間に挟まれる半導体セラミックス層の厚みは、各半導
体セラミックス層の半導体粒界層の最小値が2以下とな
るような厚みとされている。従って、半導体粒子間の粒
界1〜2層分の酸素を共通電極16、非接続型内部電極
17〜19またはスルー電極20〜22か吸収し、それ
によって粒界に起因するバリスタ特性の影響が低減され
ている。
なお、第1図、第5図及び第6図を参照して示した実施
例の構造は、本発明が適用されるノイズフィルタの一例
を示すものに過ぎない。すなわち、共通電極、非接続型
内部電極及びスルー電極の形状及び数は、本発明の範囲
内において適宜変更し得るものである。また、図示の実
施例では、焼結体23の側面の第1〜第4の部分は、そ
れぞれ、第1〜第4の側面23a〜23dとされていた
が、本発明における焼結体の側面の第1〜第4の部分は
、図示のように異なる側面に分散させる必要は必ずしも
ない。すなわち、焼結体23のいずれか1の側面に、側
面の第1〜第4の部分のうちの2以上の部分が配置され
ていてもよい。
次に、本発明の具体的な実施例につき説明する。
実施例l Zn0(95,0モル96) 、 CoO(1−0モル
96、)MnO(1,0モル%)、Sb、08(2,0
モル%)及びCrxOs  (1,0モル%)を、上記
のモル比で混合してなるセラミックス材料に、BmOx
 、S i Ox 、PbO及びZnOからなるガラス
粉末10重量%を加えて原料を調製した。
得られた原料に、有機バインダとしてポリビニルブチラ
ール樹脂を10重量%の割合で混合し、リバース・ロー
ル・コータ方式により、膜厚5μm110μm115μ
m、20μm及び30μmの厚みの各グリーンシートを
形成した。
次に、上記各グリーンシートを、所定の大きさの矩形形
状に切り出し、第1図に示したセラミックグリーンシー
ト11〜15を得た。但し、セラミックグリーンシート
11.14.15としては膜厚30μmのグリーンシー
トを、セラミックグリーンンー)12.13としては膜
厚5μm、]00μm115μm120μmび30μm
のものをそれぞれ用意した。
次に、Ag及びPdを重量比で7:3の割合て混合した
導電ペーストを、セラミックグリーンシート12〜14
上に図示の印刷形状に印刷し、共通電極16、非接続型
内部電極17〜19及びスルー電極20〜22を形成し
た。もっとも、これらの各電極は、後述の焼成工程によ
り焼付けられることにより電極として完成されるもので
ある。
次に、上述のようにして用意したセラミックグリーンシ
ート11〜15を、第4図に示したように積層し、厚み
方向に2t/aII′の圧力を加えて圧着し、積層体を
得、所定の大きさに切断した。
なお、セラミックグリーンシート12.13としては、
上述したような5種類の膜厚のものを順に用いた。従っ
て、上記積層体として5種類の積層体を得た。
上記のようにして得られた各積層体を950〜1050
℃の温度で空気中で3時間焼成し、第5図に示した焼結
体23を得た。焼結体23の側面23a〜23dにAg
ペーストを塗布し、700°Cの温度で10分同焼付け
ることにより、外部電極24a〜24hを形成し、ノイ
ズフィルタを得た。
上記のようにして得られた各ノイズフィルタの電圧−電
流特性、及び8×20μ秒の三角電流波(強度は100
A)を印加したときのバリスタ電圧(1mAの電流を流
したときの外部電極間の電圧)の変化を第1表に示す。
第1表において、nは共通電極とスルー電極との間にお
いて、非接続型内部電極17〜19により得られた半導
体セラミックス層の数、従って第4図に示したセラミッ
クグリーンシート11〜15を積層して得られた焼結体
では、n=2となる。
上記のようにして用意された各ノイズフィルタを研磨し
、サーマルエツチングした結果、半導体セラミック粒子
の粒径が平均4.2μmであることがわかった。従って
、セラミックグリーンシートの膜厚が30μmの場合に
は、半導体セラミックス層の最小粒界数は3であること
がわかる。すなわち、第1表に示したグリーンシート膜
厚が30μmの例は、本発明の範囲外にあるものである
第1表の結果から明らかなように、グリーンシートの膜
厚が5.1O115及び20μmのグリーンシートを用
いたノイズフィルタでは、すなわち半導体セラミックス
層の最小粒界数が2以下である本発明の範囲内にあるノ
イズフィルタでは、膜厚30μmのグリーンシートを用
いた本発明外のノイズフィルタに比べて、より大きな電
圧非直線係数α。、1−1を示し、さらにバリスタ電圧
の変動ΔV l m A もかなり小さいことがわかる
(以下、余白) 第   1   表 但し、第1表において、平均値の単位はVである。
実施例2 ZnOに対して、Co5o4、MgO1Cr 20、及
びに20.をCo、Mg、Cr及びKに換算して、それ
ぞれ、zO原子%、0.1原子%、0、1原子%、及び
0.1原子%の比率となるように秤量し、添加して原料
を得た。この原料に有機バインダを混合し、リバース・
ロールコータ方式により10μmの厚みの均一なグリー
ンシートを形成した後、上記グリーンシートを矩形状に
切断した。得られた矩形のセラミックグリーンシートを
第1図のセラミックグリーンシート11〜15として用
意した。
他方、Ptにビヒクルを混合してなるペーストに、Pr
aO++を0.01〜1.C1量%添加してなる導電ペ
ーストを用意し、セラミックグリーンシート12〜14
上に印刷し、スルー電極20〜22、非接続型部分電極
17〜19及び共通電極16を形成した。
上記のようにして用意したセラミックグリーンシート1
1〜15を第1図に示したように積層し、厚み方向に2
t/’af!の圧力を加えて圧着し、積層体を得、所定
の大きさに切断した。
切断して得られた積層体を1100〜1300°Cの温
度で空気中にて3時間焼成し、焼結体23を得た。この
焼結体23の側面にAgペーストを塗布し、700°C
の温度で10分間焼付けることにより第6図に示すノイ
ズフィルタを得た。
上記のようにして得た本実施例のノイズフィルタについ
て、バリスタ電圧V1□、電圧非直線係数α、1  及
びC1−1o□、並びに8×20μ秒1rA の波形を有する100A三角電流波を5分間隔て2回印
加した時のVl。□の変化を第2表に示す。
また、比較のために内部電極材に希土類元素の酸化物を
含有させず、他は同様に構成したノイズフィルタについ
ても同様の測定を行った(**印を付して示す。)。
なお、**印を付した試料番号1,1oのノイズフィル
タの焼結体の組成は、ZnOに対して、PraO++、
Co50+ 、MgO1CraCh及びに2CO,を、
Co、Mg、Cr及びKに換算して、それぞれ、0.5
原子%、20原子96.0.1原子%、0.1原子%及
び0.1原子%の比率となるように添加したものである
(以下、余白) 第   2   表 実施例3 内部電極材料として、ptにビヒクルを混合してなるペ
ーストに、第3表に示すように、PreOlt、La*
Oi 、Sm20s及びCeaOsの希土類酸化物の中
から少なくとも1種類の希土類酸化物を1.0重量%添
加してなる導電ペーストを用いた。上記材料を主体とす
る導電ペーストを用いた以外は実施例2と同様にして、
ノイズフィル夕を作製した。
これらのノイズフィルタについても実施例2と同様に測
定を行い、結果を第3表に示した。
第3表から明らかなように、内部電極中に含有させる希
土類酸化物としては、第2表に示したPr s O+ 
+に限らず、Lados 、Sm*○8、及びCe 2
0 sの中から任意の少なくとも1種類の希土類酸化物
を含有させても同程度の特性を得ることができる。また
、このことから、希土類酸化物は、上述したPreOz
、L a20g 、Sm5O8、及びCe1Oiに限ら
れるものではなく、本発明の趣旨の範囲から出ない他の
希土類(Nd、Pm、Em、Gd、Tb、Dy、Ho、
Er、Tm、Yb、Lu、Sc及びY)の酸化物を用い
得ることがわかる。
(以下、余白) 第   3   表
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のノイズフィルタを得るため
に用いられるセラミックグリーンシート及びその上に形
成される電極形状を説明するための分解斜視図、第2図
は従来のノイズフィルタを得るのに用いられるセラミッ
クグリーンシート及びその上に形成される電極形状を説
明するための分解斜視図、第3図は従来例において用い
られる焼結体を示す斜視図、第4図は従来例のノイズフ
ィルタを示す斜視図、第5図は本発明の一実施例におい
て用いられる焼結体を示す斜視図、第6図は本発明の一
実施例にかかるノイズフィルタを示す斜視図である。 
 − 図において、11〜15はセラミックグリーンシート、
16は共通電極、17〜19は非接続型内部電極、20
〜22はスルー電極、23は焼結体、23a〜23dは
、それぞれ、焼結体の第1〜第4の部分を構成する第1
〜第4の側面、24a〜24hは外部電極を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体セラミックスよりなる焼結体と、前記焼結
    体の側面の第1の部分から第2の部分に向かって延びる
    ように焼結体内に形成された共通電極と、 前記焼結体の厚み方向において、半導体セラミックス層
    を介して前記共通電極から隔てられた高さ位置において
    、前記焼結体の側面の第3の部分から第4の部分に向か
    って延びるように、かつ前記共通電極と交差するように
    設けられた少なくとも一本のスルー電極と、前記焼結体
    の側面の前記第1〜第4の部分に形成された第1〜第4
    の外部電極と、 前記焼結体内において前記共通電極と前記スルー電極と
    の間の高さ位置に配置されており、かついずれの外部電
    極にも電気的に接続されないように形成された少なくと
    も一つの非接続型内部電極とを備え、 前記共通電極と半導体セラミックス層との界面、前記ス
    ルー電極と半導体セラミックス層との界面、及び前記非
    接続型内部電極と半導体セラミックス層との界面にそれ
    ぞれ形成されたショットキー障壁により電圧非直線性が
    与えられており、 前記共通電極と非接続型内部電極との間の半導体セラミ
    ックス層、前記非接続型内部電極間の半導体セラミック
    ス層、及び前記スルー電極と非接続型内部電極との間の
    半導体セラミックス層の半導体粒界数の最小値が2以下
    であることを特徴とする、ノイズフィルタ。(2)前記
    半導体セラミックスが、酸化亜鉛を主成分として構成さ
    れており、かつ前記共通電極、非接続型内部電極及びス
    ルー電極が、希土類酸化物を0.01〜10重量%含有
    する金属材料により構成されていることを特徴とする請
    求項1に記載のノイズフィルタ。
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