JPH04155365A - 画像形成方法 - Google Patents
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Landscapes
- Magnetic Brush Developing In Electrophotography (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は有機光導電性感光体を用い、高速で画像形成を
行なう画像形成方法に関する。
行なう画像形成方法に関する。
従来電子写真法により画像を形成するにはカールソン法
によるのが一般的である。該カールソン法においては、
感光体表面に−様な帯電を付与した後、像様の露光を施
して静電潜像を形成し、該静電潜像をトナー現像してト
ナー像を形成し、該トナー像を転写材に転写、定着して
画像形成が行なわれる。一方転写後の感光体は、その表
面が除電器による除電、クリーニングブレード、クリー
ニングブラシ等による残留トナーの除去が行なわれて、
長期に亘り反復使用される。
によるのが一般的である。該カールソン法においては、
感光体表面に−様な帯電を付与した後、像様の露光を施
して静電潜像を形成し、該静電潜像をトナー現像してト
ナー像を形成し、該トナー像を転写材に転写、定着して
画像形成が行なわれる。一方転写後の感光体は、その表
面が除電器による除電、クリーニングブレード、クリー
ニングブラシ等による残留トナーの除去が行なわれて、
長期に亘り反復使用される。
従って、電子写真感光体としては、帯電特性および感度
か良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時6二発生するオゾン、露光時
の紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好である
ことが要求される。
か良好で更に暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論、
加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物
理的性質や、コロナ放電時6二発生するオゾン、露光時
の紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好である
ことが要求される。
従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を感光層主成分とす
る無機感光体か広く用I71られていtこ。
化カドミウム等の無機光導電性物質を感光層主成分とす
る無機感光体か広く用I71られていtこ。
近年電子写真用感光体の感光層としてキャリア発生機能
とキャリア輸送機能とを異なる物質に分担させ、希望す
る特性に照して各機能を発揮する物質を広い範囲から選
択し、感度が高く耐久性の大きい有機感光体を実用化す
る動向にある。
とキャリア輸送機能とを異なる物質に分担させ、希望す
る特性に照して各機能を発揮する物質を広い範囲から選
択し、感度が高く耐久性の大きい有機感光体を実用化す
る動向にある。
このような感光体に使用されるバインダとしては、帯電
特性、感度、残留電位及び繰返し特性等の面で、下記構
造式で示されるビスフェノールA型のポリカーボネート
が良好な特性を発揮することが良く知られている。
特性、感度、残留電位及び繰返し特性等の面で、下記構
造式で示されるビスフェノールA型のポリカーボネート
が良好な特性を発揮することが良く知られている。
しかし本発明者等が検討を加えた結果、上記ビスフェノ
ールA型ポリカーポ第一トは、高分子の結晶性が高いた
めその溶液はゲル化を起しやすく、1〜2週間程度で使
用不可能となるという欠点を有している。また塗布によ
り膜形成を行なうと塗膜形成時に膜表面に結晶性ポリカ
ーボネートが析出して凸部が生じやすく、このために塗
膜の尾引きが生じて収率が低下しt;す、あるいは感光
体としての使用時に凸部にトナーが付着してクリーニン
グされずに残り、いわゆるクリーニング不良による画像
欠陥が生じやすい。
ールA型ポリカーポ第一トは、高分子の結晶性が高いた
めその溶液はゲル化を起しやすく、1〜2週間程度で使
用不可能となるという欠点を有している。また塗布によ
り膜形成を行なうと塗膜形成時に膜表面に結晶性ポリカ
ーボネートが析出して凸部が生じやすく、このために塗
膜の尾引きが生じて収率が低下しt;す、あるいは感光
体としての使用時に凸部にトナーが付着してクリーニン
グされずに残り、いわゆるクリーニング不良による画像
欠陥が生じやすい。
また、上記ビスフェノールA型ポリカーボネートをバイ
ンダ樹脂として用いた電子写真感光体は、長期に亘り反
復して像形成に使用した場合、磁気ブラ/やクリーニン
グブレードで擦過され感光層表面に傷が付いたり、感光
層が次第に摩耗するという欠点を有する。
ンダ樹脂として用いた電子写真感光体は、長期に亘り反
復して像形成に使用した場合、磁気ブラ/やクリーニン
グブレードで擦過され感光層表面に傷が付いたり、感光
層が次第に摩耗するという欠点を有する。
以上のように前記構造のビスフェノールA型のホリカー
ポ不一トは帯電、感度、残留電位及び繰返し特性等です
ぐれているが、感光体製造時の溶液の保存安定性及び感
光体表面の機械的摩耗性に問題がある。そこで前記問題
点の改良を目的として各種構造のポリカーボネートが提
案された。
ポ不一トは帯電、感度、残留電位及び繰返し特性等です
ぐれているが、感光体製造時の溶液の保存安定性及び感
光体表面の機械的摩耗性に問題がある。そこで前記問題
点の改良を目的として各種構造のポリカーボネートが提
案された。
例えばフェニレン環間の中心炭素W−7に結合するアル
キル基の水素原子に弗素原子を置換しt;もノ(特開昭
63.65444号)、フェニレン環のメタ位置にアル
キル基又はハロゲン原子を置換したもの(特開昭63−
148263号)、フェニレン環のメタ位置に7エニル
基又はノクロヘキシル基を置換したもの(特開平1−2
69942号又は特開平1−269943号)及び前記
フェニレン環間に前記中心炭素原子を含むンクロヘキ/
ル環を形成したもの(特開昭60−172044号又は
特開昭60−172045号)等が提案された。
キル基の水素原子に弗素原子を置換しt;もノ(特開昭
63.65444号)、フェニレン環のメタ位置にアル
キル基又はハロゲン原子を置換したもの(特開昭63−
148263号)、フェニレン環のメタ位置に7エニル
基又はノクロヘキシル基を置換したもの(特開平1−2
69942号又は特開平1−269943号)及び前記
フェニレン環間に前記中心炭素原子を含むンクロヘキ/
ル環を形成したもの(特開昭60−172044号又は
特開昭60−172045号)等が提案された。
前記各号会報記載のポリカーボネートはいづれも構造中
に嵩高な置換基を有しているため、感光体製造時の溶液
安定性、像形成時のオゾン安定性、機械的耐摩耗性等が
前記ビスフェノールA型ポリカーボネートに比してすぐ
れている。
に嵩高な置換基を有しているため、感光体製造時の溶液
安定性、像形成時のオゾン安定性、機械的耐摩耗性等が
前記ビスフェノールA型ポリカーボネートに比してすぐ
れている。
しかしながら、近時コピー需要の増大に伴ない複写機等
の研究、開発が急速に進み、例えば50枚/分以上の高
速機が要請され、しかも6本/mm以上の高解像力のコ
ピーが要請されるようになった。
の研究、開発が急速に進み、例えば50枚/分以上の高
速機が要請され、しかも6本/mm以上の高解像力のコ
ピーが要請されるようになった。
感光体を高速回転して像形成を行なった場合、露光器、
帯電器及び転写器等による光電的衝撃、現像器の磁気ブ
ラシ及びクリーニング装置のブレード等による機械的衝
撃の頻度が大となる。特に現像器のスリーブは、通常感
光体より大きい周速で回転されるため、スリーブ上の現
像剤が遠心力で飛散し易くなり、これを防止するためス
リーブ面に現像剤を拘束するための磁界の強さを増大さ
せる必要が生じる。前記のようにスリーブ面上の磁界の
強さを増大させた場合、スリーブ上には硬い磁気ブラ/
が形成され感光体表面を強く摺擦して感光体が摩耗劣化
するようになる。
帯電器及び転写器等による光電的衝撃、現像器の磁気ブ
ラシ及びクリーニング装置のブレード等による機械的衝
撃の頻度が大となる。特に現像器のスリーブは、通常感
光体より大きい周速で回転されるため、スリーブ上の現
像剤が遠心力で飛散し易くなり、これを防止するためス
リーブ面に現像剤を拘束するための磁界の強さを増大さ
せる必要が生じる。前記のようにスリーブ面上の磁界の
強さを増大させた場合、スリーブ上には硬い磁気ブラ/
が形成され感光体表面を強く摺擦して感光体が摩耗劣化
するようになる。
本発明の目的は改良された感光体を用いることにより、
高速で繰返し像形成を行なった場合にも疲労劣化がなく
、しかもトナー飛散を伴なうことなく高濃度、高解像力
の画像形成を可能とした画像形成方法を提供することに
ある。
高速で繰返し像形成を行なった場合にも疲労劣化がなく
、しかもトナー飛散を伴なうことなく高濃度、高解像力
の画像形成を可能とした画像形成方法を提供することに
ある。
本発明者等は前記公報記載のポリカーボネートの単独又
は組合せをバインダ樹脂として極めて多数の有機感光体
を試作し、該感光体を300mm/see以上の周速で
回転する高速テスト機に装着して長期に亘りテストを繰
返し行なった結果、高速機に適する感光体を見出すと共
に現像剤の飛散を伴わず高速で高画質の画像形成を可能
とした画像形成方法を見出し、本発明を完成したのであ
る@前記の目的は、 (1)高速で回転駆動される有機光導電性感光体上に帯
電及び像露光を施して静電潜像を形成し、主現像磁極を
有する固定磁石体の外周を回転するスリーブより現像剤
を搬送して前記静電潜像を現像する工程を有する画像形
成方法において、前記感光体として感光層を構成する少
なくとも最上層か下記一般式(I)で示される構成単位
を主要繰返し単位として有するポリカーボネートを含有
する感光体を用い、該感光体を少なくとも300mm/
secの周速で回転駆動すると共に、前記主現像磁極
のスリーブ面上での磁束密度を950ガウス以上とした
ことを特徴とする画像形成方法により達成される。
は組合せをバインダ樹脂として極めて多数の有機感光体
を試作し、該感光体を300mm/see以上の周速で
回転する高速テスト機に装着して長期に亘りテストを繰
返し行なった結果、高速機に適する感光体を見出すと共
に現像剤の飛散を伴わず高速で高画質の画像形成を可能
とした画像形成方法を見出し、本発明を完成したのであ
る@前記の目的は、 (1)高速で回転駆動される有機光導電性感光体上に帯
電及び像露光を施して静電潜像を形成し、主現像磁極を
有する固定磁石体の外周を回転するスリーブより現像剤
を搬送して前記静電潜像を現像する工程を有する画像形
成方法において、前記感光体として感光層を構成する少
なくとも最上層か下記一般式(I)で示される構成単位
を主要繰返し単位として有するポリカーボネートを含有
する感光体を用い、該感光体を少なくとも300mm/
secの周速で回転駆動すると共に、前記主現像磁極
のスリーブ面上での磁束密度を950ガウス以上とした
ことを特徴とする画像形成方法により達成される。
一般式(1):
式中、R,、R,は水素原子又は炭素原子1〜6のアル
キル基を表す。Rs、Ra、Rs、Ra及びRr、Ra
、Re、RI。
キル基を表す。Rs、Ra、Rs、Ra及びRr、Ra
、Re、RI。
は水素原子、メチル基、塩素原子又は臭素原子を表し、
前記置換基の全てが水素原子であることはない。 本発
明の画像形成方法ではドラム状又はベルト状の有機光導
電性感光体(以下単に有機感光体と称する)を300m
m/秒以上の周速で回転すると共に現像器のスリーブを
前記感光体の周速以上の周速、例えば600mm/se
e以上の周速で回転して、A4サイズ横送りで50枚/
分以上の高速複写を行なうものであり、その際、前記ス
リーブ上を搬送される現像剤の飛散を防止するI;めス
リーブ面上の磁束密度を950ガウス以上とし、かつ前
記有機感光体の感光層を構成するバインダ樹脂として前
記高速複写に耐える高耐久性のポリカーボネートを選択
して用いた点に特徴がある。
前記置換基の全てが水素原子であることはない。 本発
明の画像形成方法ではドラム状又はベルト状の有機光導
電性感光体(以下単に有機感光体と称する)を300m
m/秒以上の周速で回転すると共に現像器のスリーブを
前記感光体の周速以上の周速、例えば600mm/se
e以上の周速で回転して、A4サイズ横送りで50枚/
分以上の高速複写を行なうものであり、その際、前記ス
リーブ上を搬送される現像剤の飛散を防止するI;めス
リーブ面上の磁束密度を950ガウス以上とし、かつ前
記有機感光体の感光層を構成するバインダ樹脂として前
記高速複写に耐える高耐久性のポリカーボネートを選択
して用いた点に特徴がある。
本発明の画像形成方法に用いられる有機感光体は、導電
性支持体上に必要により中間層を有してキャリア発生物
質、キャリア輸送物質、バインダ樹脂その他必要により
酸化防止剤、紫外線吸収剤等を含有する感光層を設けた
構成とされる。又前記感光層としては、前記各組成物を
共有する単層構成の感光層としてもよく、又、キャリア
発生物質を主成分とするキャリア発生層とキャリア輸送
物質を主成分とするキャリア輸送層とを有する積層構成
の感光層としてもよい。
性支持体上に必要により中間層を有してキャリア発生物
質、キャリア輸送物質、バインダ樹脂その他必要により
酸化防止剤、紫外線吸収剤等を含有する感光層を設けた
構成とされる。又前記感光層としては、前記各組成物を
共有する単層構成の感光層としてもよく、又、キャリア
発生物質を主成分とするキャリア発生層とキャリア輸送
物質を主成分とするキャリア輸送層とを有する積層構成
の感光層としてもよい。
本発明に用いられる感光層の代表的構成を3g1図乃至
第6図に示す。
第6図に示す。
第1図は導電性支持体1上に、キャリア発生層2を設け
、その上にキャリア輸送層3を設けた積層構成の感光体
であり、第3図は第1図の感光体において導電性支持体
1とキャリア発生層2との間に中間層5を設けたもので
ある。
、その上にキャリア輸送層3を設けた積層構成の感光体
であり、第3図は第1図の感光体において導電性支持体
1とキャリア発生層2との間に中間層5を設けたもので
ある。
詔2図は導電性支持体1上にキャリア輸送層3を設け、
この上にキャリア発生層を設けた積層構成であり、前記
キャリア発生層を保護する目的でキャリア発生層上にさ
らに保護層8を設けたものである。第4図は第2図の感
光体にさらに中間層5を設けたものである。第5図は、
導電性支持体l上にキャリア発生物質7とキャリア輸送
物質6を含有する単層構成の感光体であり、第6図は第
5図の感光体にさらに中間層5を設けた感光体である。
この上にキャリア発生層を設けた積層構成であり、前記
キャリア発生層を保護する目的でキャリア発生層上にさ
らに保護層8を設けたものである。第4図は第2図の感
光体にさらに中間層5を設けたものである。第5図は、
導電性支持体l上にキャリア発生物質7とキャリア輸送
物質6を含有する単層構成の感光体であり、第6図は第
5図の感光体にさらに中間層5を設けた感光体である。
本発明においては、用いられる感光体の感光層のバイ
ンダ樹脂として、前記一般式〔I〕で示される構造単位
を主要繰返し単位として含むポリカーボネートを用いた
点が重要であり、それによって物性に優れた感光層を形
成することができ、電荷保持力、感度、残留電位等の電
子写真特性に優れ高速で繰返し使用したとき耐摩耗性が
大で、筋等の画像欠陥を生ずることのない感光体を形成
することができる。本発明に係る感光体の感光層を構成
するポリカーボネートは下記一般式(l−1)で示され
るフェノール系化合物を用いて常法に従い容易に合成さ
れる。
ンダ樹脂として、前記一般式〔I〕で示される構造単位
を主要繰返し単位として含むポリカーボネートを用いた
点が重要であり、それによって物性に優れた感光層を形
成することができ、電荷保持力、感度、残留電位等の電
子写真特性に優れ高速で繰返し使用したとき耐摩耗性が
大で、筋等の画像欠陥を生ずることのない感光体を形成
することができる。本発明に係る感光体の感光層を構成
するポリカーボネートは下記一般式(l−1)で示され
るフェノール系化合物を用いて常法に従い容易に合成さ
れる。
一般式(1川):
式中、R1,R2は水素原子又は炭素数1〜6のアルキ
ル基を表す。R,、R4R6,R,及びR,、R,、R
,、R,。は水素原子、メチル基、塩素原子又は臭素原
子を表し、前記置換基の全てが水素原子であることはな
い。
ル基を表す。R,、R4R6,R,及びR,、R,、R
,、R,。は水素原子、メチル基、塩素原子又は臭素原
子を表し、前記置換基の全てが水素原子であることはな
い。
本発明のポリカーボネート樹脂を製造する方法は、具体
的には塩化メチレン、1.2−ジクロルエタン等の不活
性溶媒存在下、前記フェノール系化合物に、酸受容体と
してアルカリ水溶液或はピリジン等を入れ、ホスゲンを
導入しながら反応させる方法が挙げられる。
的には塩化メチレン、1.2−ジクロルエタン等の不活
性溶媒存在下、前記フェノール系化合物に、酸受容体と
してアルカリ水溶液或はピリジン等を入れ、ホスゲンを
導入しながら反応させる方法が挙げられる。
酸受容体としてアルカリ水溶液を使う時は、触媒として
トリメチルアミン、トリエチルアミン等の第3級アミン
、あるいはテトラブチルアンモニウムクロリド、ペンン
ルトリブチルアンモニウムブロミド等の第4級アンモニ
ウム化合物を用いると、反応速度が増大する。
トリメチルアミン、トリエチルアミン等の第3級アミン
、あるいはテトラブチルアンモニウムクロリド、ペンン
ルトリブチルアンモニウムブロミド等の第4級アンモニ
ウム化合物を用いると、反応速度が増大する。
また必要に応じて分子量調節剤としてフェノール、p−
t−7’チルフ工ノール等1価のフェノールを共存させ
てもよい。触媒は最初から入れてもよいし、オリゴマー
を作った後に入れて高分子量化する等任意の方法がとれ
る。
t−7’チルフ工ノール等1価のフェノールを共存させ
てもよい。触媒は最初から入れてもよいし、オリゴマー
を作った後に入れて高分子量化する等任意の方法がとれ
る。
又、本発明に用いられる前記ポリカーボネートは前記一
般式〔l〕で示される構造単位の単独重合体であっても
よいが下記構造の他の構造単位(A)又は(B)との共
重合体であってもよく、その場合他の構造単位の混入比
率は5Qvt%以下かよい。
般式〔l〕で示される構造単位の単独重合体であっても
よいが下記構造の他の構造単位(A)又は(B)との共
重合体であってもよく、その場合他の構造単位の混入比
率は5Qvt%以下かよい。
尚、本発明において2種以上の7工ノール系化合物を用
いて共重合する方法としては、(イ)2種以上のフェノ
ール系化合物を最初に同時にホスゲンと反応させて共重
合する方法(ロ)一方をまずホスゲンと反応させ、ある
程度反応を行った後他方を入れて重合する方法(ハ)別
々にホスゲンと反応させて重合する方法等の任意の方法
がとれる。又本発明に用いられる前記ポリカーボネート
の単独重合体又は共重合体の重合度は50〜5000、
好ましくは50〜1000である。
いて共重合する方法としては、(イ)2種以上のフェノ
ール系化合物を最初に同時にホスゲンと反応させて共重
合する方法(ロ)一方をまずホスゲンと反応させ、ある
程度反応を行った後他方を入れて重合する方法(ハ)別
々にホスゲンと反応させて重合する方法等の任意の方法
がとれる。又本発明に用いられる前記ポリカーボネート
の単独重合体又は共重合体の重合度は50〜5000、
好ましくは50〜1000である。
さらに又前記ポリカーボネートの単独重合体又は共重合
体に併用して用いてもよいバインダ樹脂としては、例え
ば下記のものがある。
体に併用して用いてもよいバインダ樹脂としては、例え
ば下記のものがある。
(1) ポリエステル
(2)メタクリル樹脂
(3)アクリル樹脂
(4)ポリ塩化ビニル
(5) ポリ塩化ビニリデン
(6)ポリスチレン
(7)ポリビニルアセテート
(8) スチレン共重合樹脂(例えば、スチレン−ブタ
ヂエン共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合
体、等) (9)アクリロニトリル系共重合体樹脂(例えば、塩化
ビニリデン−アクリトロニトリル共重合体、等) (lO)塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(11)
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体 (12) ンリコーン樹脂 (13) ンリコーンーアルキッド樹脂(14)
7エ/−ル樹FMC例えば、フェノール−ホルムアルデ
ヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、等)
′ (15)スチレン−アルキッド樹脂 (16)ポリ−N−ビニルカルバゾール(17) ポ
リビニルブチラール (18)ポリビニルホルマール (19)ポリヒドロキシスチレン これらのバインダは、単独であるいは2種以上の混合物
として本発明に係るカーボネートに50vt%以下で併
用することができる。
ヂエン共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合
体、等) (9)アクリロニトリル系共重合体樹脂(例えば、塩化
ビニリデン−アクリトロニトリル共重合体、等) (lO)塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(11)
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体 (12) ンリコーン樹脂 (13) ンリコーンーアルキッド樹脂(14)
7エ/−ル樹FMC例えば、フェノール−ホルムアルデ
ヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、等)
′ (15)スチレン−アルキッド樹脂 (16)ポリ−N−ビニルカルバゾール(17) ポ
リビニルブチラール (18)ポリビニルホルマール (19)ポリヒドロキシスチレン これらのバインダは、単独であるいは2種以上の混合物
として本発明に係るカーボネートに50vt%以下で併
用することができる。
次に前記一般式(1)で示される構造単位の具体例とし
ては下記のものがある。
ては下記のものがある。
次に本発明の感光体において、キャリア発生物質として
、次の代表例で示される有機顔料が用いられる。
、次の代表例で示される有機顔料が用いられる。
(1)モノアゾ顔料、ビスアゾ顔料、トリアゾ顔料、金
属錯塩アゾ顔料等のアゾ顔料 (2)ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミド等のペリレ
ン顔料 (3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等
多環キノン顔料(4)インジゴ誘導体及びチオインジゴ
誘導体等のインジゴイド顔料 (5)金属フタロシアニン及び無金属7タロシア二ン等
の7タロシアニン顔料 特に本発明に用いられる感光体においては、キャリア発
生物質としてフルオレノン系ジスアゾ顔料、フルオレニ
リデン系ジスアゾ顔料、多環キノン顔料、無金属系フタ
ロシアニン顔料又はオキシチタニル系フタロシアニン顔
料等の有機系顔料が用いられることが好ましい。特に次
に示すフルオレノン系ジスアゾ顔料、フルオレニリデン
系ジスアゾ顔料、多環キノン顔料、X及びτ型無金属フ
タロシアニンを本発明に用いると、感度、耐久性及び画
質等の点で著しく改良された効果を示す。
属錯塩アゾ顔料等のアゾ顔料 (2)ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミド等のペリレ
ン顔料 (3)アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体
、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、
ビオラントロン誘導体及びイソビオラントロン誘導体等
多環キノン顔料(4)インジゴ誘導体及びチオインジゴ
誘導体等のインジゴイド顔料 (5)金属フタロシアニン及び無金属7タロシア二ン等
の7タロシアニン顔料 特に本発明に用いられる感光体においては、キャリア発
生物質としてフルオレノン系ジスアゾ顔料、フルオレニ
リデン系ジスアゾ顔料、多環キノン顔料、無金属系フタ
ロシアニン顔料又はオキシチタニル系フタロシアニン顔
料等の有機系顔料が用いられることが好ましい。特に次
に示すフルオレノン系ジスアゾ顔料、フルオレニリデン
系ジスアゾ顔料、多環キノン顔料、X及びτ型無金属フ
タロシアニンを本発明に用いると、感度、耐久性及び画
質等の点で著しく改良された効果を示す。
本発明に好ましく用いられるフルオレノン系ジスアゾ顔
料は、下記一般式(2)で表される。
料は、下記一般式(2)で表される。
一般式(2)
Xl及びX、は、それぞれ、ハロゲン原子、アルキル基
、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基又
は置換若しくは無置換のアミノ基を表す。
、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基又
は置換若しくは無置換のアミノ基を表す。
p及びqはそれぞれO,l又は2の整数を表し、p及び
qが2のときは、Xl及びX、はそれぞれ同−又は異な
る基であってもよい。Aは下記一般式(2−1)で表さ
れる基を示す。
qが2のときは、Xl及びX、はそれぞれ同−又は異な
る基であってもよい。Aは下記一般式(2−1)で表さ
れる基を示す。
一般式(2−1)
%式%
式中、Arは弗素化炭化水素基又は置換基を有する芳香
族炭素環基又は芳香族複素環基を表す。
族炭素環基又は芳香族複素環基を表す。
2は置換若しくは無置換の芳香族炭素環又は置換若しく
は無置換の芳香族複索環を形成するのに必要な非金属原
子群を表す。m及びnはそれぞれ0゜■又は2の整数を
表す。但し、m及びnが同時に0となることはない。
は無置換の芳香族複索環を形成するのに必要な非金属原
子群を表す。m及びnはそれぞれ0゜■又は2の整数を
表す。但し、m及びnが同時に0となることはない。
下記に本発明に用いられるフルオレノン系ジスアゾ顔料
の具体例を挙げるが、これによって限定されるものでは
ない。
の具体例を挙げるが、これによって限定されるものでは
ない。
化合物例No、 A本発明に用いら
れる前記一般式(2)で表されるフルオレノン系ジスア
ゾ顔料は、公知の方法により容易に合成され、例えば特
願昭62−304862号等の方法により合成される。
れる前記一般式(2)で表されるフルオレノン系ジスア
ゾ顔料は、公知の方法により容易に合成され、例えば特
願昭62−304862号等の方法により合成される。
本発明に用いられるフルオレニリデン系ジスアゾ顔料は
下記一般式(3)で表される。
下記一般式(3)で表される。
一般式(3)
%式%
式中、Aは
Z :置換、無置換の次記2つの基、芳香族炭素環、芳
香族複素環を構成するに必要な原子群 Y :水素原子、ヒドロキン基、カルボキン基、若しく
はそのエステル基、スルホ基、置換、無置換の次記2つ
の基:カルバモイル基、スルファモイル基 R3:水素原子、置換、無置換の統記4つの基:アルキ
ル基、アミノ基、カルバモイル基、カルボキン基若しく
はそのエステル基またはシアノ基 Ar:置換、無置換のアリール基 R2:置換、無置換の統記3つの基:アルキル基、アラ
ルキル基、アリール基 を表す。
香族複素環を構成するに必要な原子群 Y :水素原子、ヒドロキン基、カルボキン基、若しく
はそのエステル基、スルホ基、置換、無置換の次記2つ
の基:カルバモイル基、スルファモイル基 R3:水素原子、置換、無置換の統記4つの基:アルキ
ル基、アミノ基、カルバモイル基、カルボキン基若しく
はそのエステル基またはシアノ基 Ar:置換、無置換のアリール基 R2:置換、無置換の統記3つの基:アルキル基、アラ
ルキル基、アリール基 を表す。
前記一般式(3)で示される本発明に有効なジスアゾ顔
料の具体例としては、例えば次の構造式で示されるもの
を挙げることができるが、これによって本発明に用いら
れるべきジスアゾ顔料が限定されるものではない。
料の具体例としては、例えば次の構造式で示されるもの
を挙げることができるが、これによって本発明に用いら
れるべきジスアゾ顔料が限定されるものではない。
本発明に用いられる多環キノン顔料は、下記−般式(4
)〜(6)で表される。
)〜(6)で表される。
一般式(4)ニ
一般式(5)ニ
一般式(6)。
各式中、Xはハロゲン原子、ニトロ基、ンアノ基、アシ
ル基、又はカルボキシ基を表し、nはO〜4の整数を、
mは0〜6の整数を表す。
ル基、又はカルボキシ基を表し、nはO〜4の整数を、
mは0〜6の整数を表す。
前記一般式(4)〜(6)で示される本発明に用いられ
る多環キノン顔料の具体例を下記に示すか、これに限定
されるものではない。
る多環キノン顔料の具体例を下記に示すか、これに限定
されるものではない。
一般式(4)で示されるアントアントロン顔料の具体的
化合物例を挙げると次の通りである。
化合物例を挙げると次の通りである。
一般式(5)で示されるジベンズピレンキノン顔料の具
体的化合物例を挙げると次の通りである。
体的化合物例を挙げると次の通りである。
す
す
υ
一般式(6)で示されるピラントロン顔料の具体的化合
物例を挙げると次の通りである。
物例を挙げると次の通りである。
本発明に用いられる前記一般式(4)〜(6)で表され
る多環キノン顔料は、公知の方法により容易に合成でき
る。
る多環キノン顔料は、公知の方法により容易に合成でき
る。
本発明に使用できる無金属フタロシアニン系顔料として
は、光導電性を有する無金属フタロシアニン及びその誘
導体すべてが使用可能であるが、例えばaを、β型、τ
、τ′型、17.17’型、X型、及び特開昭62−1
03651号で述べた結晶形及びその誘導体等を使用で
きる。特にτ、X、に/R−X型を使用することが望ま
しい。X型無金属フタロシアニンについては米国特詐3
.357,989号に記載があり、τ型無金属フタロシ
アニンについては特開昭58−182639号に記載が
ある。K/R−X型は特開昭62−103651号にあ
るように、CuKg、 1.541人のX線に対するブ
ラッグ角度(2θ±0.2度)において、7.7.9.
2.16.8.17.5.22.4.28.13度に主
要なピークを有し、且つ9.2度のピーク強度に対して
16.8度のピーク強度比が0.8〜1.0であり5、
また22.4度に対する28.8度のピーク強度比が0
.4以上である事を特徴とするフタロシアニンである。
は、光導電性を有する無金属フタロシアニン及びその誘
導体すべてが使用可能であるが、例えばaを、β型、τ
、τ′型、17.17’型、X型、及び特開昭62−1
03651号で述べた結晶形及びその誘導体等を使用で
きる。特にτ、X、に/R−X型を使用することが望ま
しい。X型無金属フタロシアニンについては米国特詐3
.357,989号に記載があり、τ型無金属フタロシ
アニンについては特開昭58−182639号に記載が
ある。K/R−X型は特開昭62−103651号にあ
るように、CuKg、 1.541人のX線に対するブ
ラッグ角度(2θ±0.2度)において、7.7.9.
2.16.8.17.5.22.4.28.13度に主
要なピークを有し、且つ9.2度のピーク強度に対して
16.8度のピーク強度比が0.8〜1.0であり5、
また22.4度に対する28.8度のピーク強度比が0
.4以上である事を特徴とするフタロシアニンである。
次に本発明において使用可能なキャリア輸送物質として
は、特に制限はないが、例えばオキサゾール誘導体、オ
キサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾ
ール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体
、イミダシロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイ
ミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合
物、ピラゾリン銹導体、アミン誘導体、オキサシロン誘
導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘
導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリ
ジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導
体、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニル
ピレン、ポリ−9−ビニルアントラセン等である。
は、特に制限はないが、例えばオキサゾール誘導体、オ
キサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾ
ール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体
、イミダシロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイ
ミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合
物、ピラゾリン銹導体、アミン誘導体、オキサシロン誘
導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘
導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリ
ジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導
体、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニル
ピレン、ポリ−9−ビニルアントラセン等である。
本発明において用いられるキャリア輸送物質としては光
照射時発生するホールの支持体側への輸送能力が優れて
いる外、前記本発明に用いられる有機系顔料との組合せ
に好適なものが好ましく、かかるキャリア輸送物質とし
ては、下記一般式(7)及び一般式(8)で表されるス
チリル系化合物が挙げられる。
照射時発生するホールの支持体側への輸送能力が優れて
いる外、前記本発明に用いられる有機系顔料との組合せ
に好適なものが好ましく、かかるキャリア輸送物質とし
ては、下記一般式(7)及び一般式(8)で表されるス
チリル系化合物が挙げられる。
一般式(7)
式中、Ar、、Arzはアルキル基又はアリール基を表
し、Arsはフェニレン基を表し、Ar、、Arsで環
をなしてもよい。RI I + RI 1は水素原子、
アルキル基、又はアリール基を表し、R1,はアルキル
基又はアリール基を表し% R1□、R13で環をなし
てもよい。
し、Arsはフェニレン基を表し、Ar、、Arsで環
をなしてもよい。RI I + RI 1は水素原子、
アルキル基、又はアリール基を表し、R1,はアルキル
基又はアリール基を表し% R1□、R13で環をなし
てもよい。
アリール基とはフェニル基、ナフチル基、縮合多環を表
し、A r I+ A r x + A r s +
Rr r + R12+ R、sで述べた、アルキル基
及びアリール基にはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、アミノ基等の置換基を含んでいてもよい、A
r l+ A r !でカルバゾール環、インドリン環
等の環を形成してもよく、又R1□、R1,のなす環は
5〜7員の炭素環又は複素環である。
し、A r I+ A r x + A r s +
Rr r + R12+ R、sで述べた、アルキル基
及びアリール基にはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、アミノ基等の置換基を含んでいてもよい、A
r l+ A r !でカルバゾール環、インドリン環
等の環を形成してもよく、又R1□、R1,のなす環は
5〜7員の炭素環又は複素環である。
上記一般式(7)で表される化合物は、例えば特開昭5
8−65440号、同58−198425号、同58−
198043号、同60−93445号、同60−98
437号等に記載されている。
8−65440号、同58−198425号、同58−
198043号、同60−93445号、同60−98
437号等に記載されている。
一般式(8):
式中、RI5は置換若しくは無置換のアリール基、Ls
は水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換のアル
キル基、アルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、水酸
基、R17は置換若しくは無置換の次記2個の基ニアリ
ール基、複素環基を表す。
は水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換のアル
キル基、アルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、水酸
基、R17は置換若しくは無置換の次記2個の基ニアリ
ール基、複素環基を表す。
上記一般式(8)で表される化合物は例えば特開昭57
−148750号に記載されている。
−148750号に記載されている。
また、キャリア輸送物質として次の一般式(9)〜(1
1)のヒドラゾン化合物も使用可能である。
1)のヒドラゾン化合物も使用可能である。
一般式(9):
RIM及びR19はそれぞれ水素原子又はハロゲン原子
、R2゜及びR21はそれぞれ置換若しくは無置換のア
リール基、Ar7は置換若しくはアリーレン基ヲ表す。
、R2゜及びR21はそれぞれ置換若しくは無置換のア
リール基、Ar7は置換若しくはアリーレン基ヲ表す。
上記一般式(9)で表される化合物は、例えば特開昭5
7−72148号に記載されている。
7−72148号に記載されている。
一般式(10) ニ
一般式(11)
式中、R2□は置換若しくは無置換の次記2つの基;ア
リール基、複素環基、 R23は水素原子、置換若しくは無置換の次記2つの基
:アラルキル基、アリール基、 Qは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アミノ
基、アルコキン基又はシアノ基を表し、SはO又はlの
整数を表す。
リール基、複素環基、 R23は水素原子、置換若しくは無置換の次記2つの基
:アラルキル基、アリール基、 Qは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アミノ
基、アルコキン基又はシアノ基を表し、SはO又はlの
整数を表す。
前記一般式(lO)及び(11)で表される化合物は、
例えば特開昭58−134642号及び特開昭58−1
66354号に記載されている。
例えば特開昭58−134642号及び特開昭58−1
66354号に記載されている。
さらにキャリア輸送物質として一般式(12)のテトラ
フェニルベンジジン化合物も使用可能である。
フェニルベンジジン化合物も使用可能である。
一般式(12)
式中R2i及びR2Sは各々水素原子又はメチル基を表
わし、R26は水素原子、メチル基、エチル基又は塩素
原子を表す。
わし、R26は水素原子、メチル基、エチル基又は塩素
原子を表す。
その他有用なキャリア輸送物質としては、例えば特開昭
57−64244号、同59−15252号、同57−
67940号、同55−2285号、同57−1952
54号、同56−4148号等に記載のものが挙げられ
る。
57−64244号、同59−15252号、同57−
67940号、同55−2285号、同57−1952
54号、同56−4148号等に記載のものが挙げられ
る。
本発明の画像形成方法に用いられる感光体において特に
有用なキャリア輸送物質の化合物例は以下のようである
。
有用なキャリア輸送物質の化合物例は以下のようである
。
本発明に用いられる有機系顔料の分散媒としては、例、
tばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キンレン等の炭化
水素類、メチレンクロライド、メチレンブロマイド、1
.2−、;クロルエタン、5yn−テトラクロルエタン
、ClS−112−ジクロルエチレン、l。
tばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キンレン等の炭化
水素類、メチレンクロライド、メチレンブロマイド、1
.2−、;クロルエタン、5yn−テトラクロルエタン
、ClS−112−ジクロルエチレン、l。
1.2− )ジクロルエタン、1.1.1− トリクロ
ルエタン、1.2−ジクロルプロパン、クロロホルム、
ブロモホルム、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素
、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、
メタノール、エタノール、プロパツール、フタノール、
シクロヘキサノール、ヘプタツール、エチレングリコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、酢酸セロソ
ルブ等のアルコール及びこの誘導体、テトラヒドロフラ
ン、l、4−ジオキサン、フラン、フルフラール等のエ
ーテル、アセタール類、ピリジンやブチルアミン、ジエ
チルアミン、エチレンジアミン、インプロパツールアミ
ン等のアミン類、 N、N−ジメチルホルムアミド等の
アミド類等の窒素化合物値に脂肪酸及びフェノール類、
二硫化炭素や燐酸トリエチル等の硫黄、燐化合物等が挙
げられる。
ルエタン、1.2−ジクロルプロパン、クロロホルム、
ブロモホルム、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素
、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、
メタノール、エタノール、プロパツール、フタノール、
シクロヘキサノール、ヘプタツール、エチレングリコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、酢酸セロソ
ルブ等のアルコール及びこの誘導体、テトラヒドロフラ
ン、l、4−ジオキサン、フラン、フルフラール等のエ
ーテル、アセタール類、ピリジンやブチルアミン、ジエ
チルアミン、エチレンジアミン、インプロパツールアミ
ン等のアミン類、 N、N−ジメチルホルムアミド等の
アミド類等の窒素化合物値に脂肪酸及びフェノール類、
二硫化炭素や燐酸トリエチル等の硫黄、燐化合物等が挙
げられる。
本発明においては感光層中に感度の向上、残留電位乃至
反復使用時の疲労低減等を目的として、一種又は二種以
上の電子受容性物質を含有せしめることができる。
反復使用時の疲労低減等を目的として、一種又は二種以
上の電子受容性物質を含有せしめることができる。
ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水7タル酸、テ
トラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、4
−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリ
ット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメ
タン、0−ジニトロベンゼン、■−ジニトロベンゼン、
1.3.5−トリニトロベンゼン、バラニトロベンゾニ
トリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、ク
ロラニル、フルマニル、ジクロルジシアノバラベンゾキ
ノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、 2
.7−シクロヘキサノン、 2,4.7−トリニトロフ
ルオレノン、2,4.5.7−チトラニトロラルオレノ
ン、 9−フルオレニリデン[ジシアノメチレンマロノ
ジニトリル]、ポリニトロ−9−フルオレニリデン−[
ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ピクリンm、o
−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3.5−ジニ
トロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニトロサ
リチルfi、3.5−ジニトロサリチル酸、フタル酸、
メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙げ
ることができる。又、電子受容性物質の添加割合は、重
量比で本発明に用いられるキャリア発生物質である有機
系顔料:電子受容性物質−100:0.01〜200、
好ましくは100:0.1−100である。
えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水7タル酸、テ
トラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、4
−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリ
ット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメ
タン、0−ジニトロベンゼン、■−ジニトロベンゼン、
1.3.5−トリニトロベンゼン、バラニトロベンゾニ
トリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、ク
ロラニル、フルマニル、ジクロルジシアノバラベンゾキ
ノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、 2
.7−シクロヘキサノン、 2,4.7−トリニトロフ
ルオレノン、2,4.5.7−チトラニトロラルオレノ
ン、 9−フルオレニリデン[ジシアノメチレンマロノ
ジニトリル]、ポリニトロ−9−フルオレニリデン−[
ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ピクリンm、o
−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3.5−ジニ
トロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニトロサ
リチルfi、3.5−ジニトロサリチル酸、フタル酸、
メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙げ
ることができる。又、電子受容性物質の添加割合は、重
量比で本発明に用いられるキャリア発生物質である有機
系顔料:電子受容性物質−100:0.01〜200、
好ましくは100:0.1−100である。
又、本発明の感光層中にはキャリア発生物質の電荷発生
機能を改善する目的で有機アミン類を添加することがで
き、特に2級アミンを添加するのが好ましい。これらの
化合物は特開昭59−218447号、同62−816
0号に記載されている。
機能を改善する目的で有機アミン類を添加することがで
き、特に2級アミンを添加するのが好ましい。これらの
化合物は特開昭59−218447号、同62−816
0号に記載されている。
また本発明の感光体には、その他、必要により感光層を
保護する目的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、また
感色性補正の染料を含有してもよい。
保護する目的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、また
感色性補正の染料を含有してもよい。
前記第2図又は第4図の保護層8中には加工性及び物性
の改良(亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要に
より熱可塑性樹脂5Qwt%未満含有せしめることかで
さる。
の改良(亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要に
より熱可塑性樹脂5Qwt%未満含有せしめることかで
さる。
また、第3図、第4rf!J1第6図の中間層5は接着
層又はブロッキング層等として機能するもので、通常の
バインダ樹脂の外に、例えばポリビニルアルコール、エ
チルセルロース、カルボキシメチルセルロース、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体、カゼイン、N−アルコキンメ
チル化ナイロン、澱粉等が用いられる。
層又はブロッキング層等として機能するもので、通常の
バインダ樹脂の外に、例えばポリビニルアルコール、エ
チルセルロース、カルボキシメチルセルロース、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体、カゼイン、N−アルコキンメ
チル化ナイロン、澱粉等が用いられる。
本発明に用いられる感光体を構成する導電性支持体Iと
しては、主として下記のものが用いられるが、これらに
より限定されるものではない。
しては、主として下記のものが用いられるが、これらに
より限定されるものではない。
l)アルミニウム板、ステンレス板などの金属板。
2)紙あるいはプラスチックフィルムなどの支持体上に
、アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラミ
ネートもしくは蒸着によって設けたもの。
、アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラミ
ネートもしくは蒸着によって設けたもの。
3)紙あるいはプラスチックフィルムなどの支持体上l
コ、導電性ポリマー、酸化インジウム、酸化錫などの導
電性化合物の層を塗布もしくは蒸着j二よって設けたも
の。
コ、導電性ポリマー、酸化インジウム、酸化錫などの導
電性化合物の層を塗布もしくは蒸着j二よって設けたも
の。
前記感光体の感光層4は第1図乃至第4図のように二層
構成、第5図及び第6図のように単層構成としてもよく
、二層構成とする場合、キャリア発生層2とキャリア輸
送層3のいづれを上層とするかは、帯電極性を正、負い
づれを選ぶかによって決定される。すなわち負帯電型感
光体とする場合はキャリア輸送層3を上層とするのが優
利であり、正帯電型感光体とする場合は、キャリア発生
層2を上層とするのが有利である。これはキャリア輸送
層3中のキャリア輸送物質が正孔に対して高い輸送能を
有する物質であるからである。次に前記二層構成の感光
層4を有する感光体は次の方法によって形成される。
構成、第5図及び第6図のように単層構成としてもよく
、二層構成とする場合、キャリア発生層2とキャリア輸
送層3のいづれを上層とするかは、帯電極性を正、負い
づれを選ぶかによって決定される。すなわち負帯電型感
光体とする場合はキャリア輸送層3を上層とするのが優
利であり、正帯電型感光体とする場合は、キャリア発生
層2を上層とするのが有利である。これはキャリア輸送
層3中のキャリア輸送物質が正孔に対して高い輸送能を
有する物質であるからである。次に前記二層構成の感光
層4を有する感光体は次の方法によって形成される。
(1)真空蒸着法
(2)キャリア発生物質を適当な溶剤に溶解した溶液を
塗布する方法 (3)キャリア発生物質をボールミル、サンドグライン
ダ等によって分散媒中で微細粒子状とし必要に応じて、
バインダと混合分散して得られる分散液を塗布する方法
。
塗布する方法 (3)キャリア発生物質をボールミル、サンドグライン
ダ等によって分散媒中で微細粒子状とし必要に応じて、
バインダと混合分散して得られる分散液を塗布する方法
。
即ち具体的には、真空蒸着、スパッタリング、CVD等
の気相堆積法あるいはディッピング、スプレィ、ブレー
ド、ロール法等の塗布方法が任意に用いられる。
の気相堆積法あるいはディッピング、スプレィ、ブレー
ド、ロール法等の塗布方法が任意に用いられる。
このようにして形成されるキャリア発生層2の厚さは、
0.O1〜5μ−であることが好しく、更に好ましくは
0.05〜3μ■である。このキャリア発生層2は通常
径1pm以下の微粒子状キャリア発生物質を主成分とし
てバインダ樹脂中に分散含有する層とされ、キャリア発
生物質1重量部に対してバインダ樹脂0.1〜3重量部
とされる。また該キャリア発生層2中には必要に応じて
キャリア輸送物質を0〜1重量部含有されてもよい。ま
た、キャリア輸送層3はキャリア輸送物質を主成分とし
てバインダ樹脂中に相溶して含有する層とされ、キャリ
ア輸送物質1重量部に対してバインダ樹脂0.1〜5重
量部とされる。
0.O1〜5μ−であることが好しく、更に好ましくは
0.05〜3μ■である。このキャリア発生層2は通常
径1pm以下の微粒子状キャリア発生物質を主成分とし
てバインダ樹脂中に分散含有する層とされ、キャリア発
生物質1重量部に対してバインダ樹脂0.1〜3重量部
とされる。また該キャリア発生層2中には必要に応じて
キャリア輸送物質を0〜1重量部含有されてもよい。ま
た、キャリア輸送層3はキャリア輸送物質を主成分とし
てバインダ樹脂中に相溶して含有する層とされ、キャリ
ア輸送物質1重量部に対してバインダ樹脂0.1〜5重
量部とされる。
次に本発明の感光体に用いられる感光体の感光層4は単
層構成であってもよく、その場合、感光層の厚さは10
〜50μ諺、好ましくは15〜40μlであり、キャリ
ア発生物質1重量部当り、キャリア輸送物質0.5〜5
重量部バインダ樹脂0.5〜IO重量部である。
層構成であってもよく、その場合、感光層の厚さは10
〜50μ諺、好ましくは15〜40μlであり、キャリ
ア発生物質1重量部当り、キャリア輸送物質0.5〜5
重量部バインダ樹脂0.5〜IO重量部である。
本発明に用いられる感光体は以上の構成とされ高速での
反復転写式電子写真に供したとき電子写真性能にすぐれ
ていて疲労劣化が少なく耐久性にすぐれる。
反復転写式電子写真に供したとき電子写真性能にすぐれ
ていて疲労劣化が少なく耐久性にすぐれる。
以上が感光体に関する説明であったが、以下現像剤につ
いて説明する。
いて説明する。
即ち本発明の画像形成方法に用いられる現像剤としては
、現像剤の流動性及び摩擦帯電性に優れ、従ってまた現
像性に優れた二成分現像剤が用いられる。こうした二成
分現像剤としては、非磁性微粒子トナーと磁性キャリア
粒子とから成るものが好ましい。
、現像剤の流動性及び摩擦帯電性に優れ、従ってまた現
像性に優れた二成分現像剤が用いられる。こうした二成
分現像剤としては、非磁性微粒子トナーと磁性キャリア
粒子とから成るものが好ましい。
前記非磁性微粒子トナーを得るには、後記する熱可塑性
又は熱硬化性樹脂中にカーボンブラック等の着色剤を2
Qvt%以下、必要により電荷制御剤を5wt%以下混
合し、銘融、練肉、冷却、粉砕、分級し、更に必要によ
り熱処理して、体積抵抗10”Ω−01以上の絶縁性粒
子で、かつ重量平均粒子径が2〜20μmの粒子とされ
る。又、前記着色剤その他の添加剤をバインダ樹脂の七
ツマー中に含有せしめたものを撹拌下に重合して、球形
トナーを得るようにしてもよい。
又は熱硬化性樹脂中にカーボンブラック等の着色剤を2
Qvt%以下、必要により電荷制御剤を5wt%以下混
合し、銘融、練肉、冷却、粉砕、分級し、更に必要によ
り熱処理して、体積抵抗10”Ω−01以上の絶縁性粒
子で、かつ重量平均粒子径が2〜20μmの粒子とされ
る。又、前記着色剤その他の添加剤をバインダ樹脂の七
ツマー中に含有せしめたものを撹拌下に重合して、球形
トナーを得るようにしてもよい。
前記トナーに用いられるバインダ樹脂としては、スチレ
ン樹脂、スチレン−アクリル樹脂、スチレン−ブタシュ
ン樹脂、アクリル樹脂等の付加重合型樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ
スルホネート樹脂、ポリウレタン樹脂等の縮合重合樹脂
、更にエポキシ樹脂等を例示することができる。
ン樹脂、スチレン−アクリル樹脂、スチレン−ブタシュ
ン樹脂、アクリル樹脂等の付加重合型樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ
スルホネート樹脂、ポリウレタン樹脂等の縮合重合樹脂
、更にエポキシ樹脂等を例示することができる。
これら樹脂のうち付加重合型11R脂を形成するための
単量体としては、スチレン、O−メチルスチレン、■−
メチルスチレン、p−メチルスチレン、3.4−ジクロ
ルスチレン等のスチレン類;エチレン、プロピレン、ブ
チレン、インブチレン等のエチレン系不飽和モノオレフ
ィン類;塩化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル、弗
化ビニル等のハロゲン化ビニル類;酸酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、ベンジェ酸ビニル、厳厳ビニル等のビニ
ルエステル類;アクリル酸ブチル、アクリル厳エチル、
アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ドデシル、
アクリル酸ラウリル、アクリル酸−2−エチルヘキシル
、メタアクリル酸オクチル、メタアクリル酸ドデシル、
メタアクリル酸ラウリル、メタアクリル厳−2−エチル
ヘキシル、メタアクリル酸ステアリル、メタアクリル厳
フェニル、メタアクリル酸ジメチルアミノエチル、メタ
アクリル酸ジエチルアミノエチル等のa−メチレン脂肪
族モノカルボン酸エステル;アクリロニトリル、メタア
クリロニトリル、アクリルアミド等のアクリル酸若しく
はメタアクリル厳鰐導体:ビニルメチルエーテル、ビニ
ルエチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル等のビニ
ルエーテル類:ビニルメチルケトン、ビニルへキシルケ
トン、メチルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類
HN−ヒニルピロール、N−ビニルカルバゾール、N−
ビニルインドール、N−ビニルピロリドン等のN−ビニ
ル化合物類;ビニルナフタリン類等のモノオレフィン系
単量体;プロパジエン、ブタジェン、イソプレン、クロ
ロブレン、ペンタジェン、ヘキサジエン等のジオレフィ
ン系単量体を例示することができる。
単量体としては、スチレン、O−メチルスチレン、■−
メチルスチレン、p−メチルスチレン、3.4−ジクロ
ルスチレン等のスチレン類;エチレン、プロピレン、ブ
チレン、インブチレン等のエチレン系不飽和モノオレフ
ィン類;塩化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル、弗
化ビニル等のハロゲン化ビニル類;酸酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、ベンジェ酸ビニル、厳厳ビニル等のビニ
ルエステル類;アクリル酸ブチル、アクリル厳エチル、
アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ドデシル、
アクリル酸ラウリル、アクリル酸−2−エチルヘキシル
、メタアクリル酸オクチル、メタアクリル酸ドデシル、
メタアクリル酸ラウリル、メタアクリル厳−2−エチル
ヘキシル、メタアクリル酸ステアリル、メタアクリル厳
フェニル、メタアクリル酸ジメチルアミノエチル、メタ
アクリル酸ジエチルアミノエチル等のa−メチレン脂肪
族モノカルボン酸エステル;アクリロニトリル、メタア
クリロニトリル、アクリルアミド等のアクリル酸若しく
はメタアクリル厳鰐導体:ビニルメチルエーテル、ビニ
ルエチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル等のビニ
ルエーテル類:ビニルメチルケトン、ビニルへキシルケ
トン、メチルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類
HN−ヒニルピロール、N−ビニルカルバゾール、N−
ビニルインドール、N−ビニルピロリドン等のN−ビニ
ル化合物類;ビニルナフタリン類等のモノオレフィン系
単量体;プロパジエン、ブタジェン、イソプレン、クロ
ロブレン、ペンタジェン、ヘキサジエン等のジオレフィ
ン系単量体を例示することができる。
これらの単量体は、単独で或いは2種以上のものを組合
せて用いることができる。また、縮合型樹脂を形成する
ための単量体としては、エチレングリコール、トリエチ
レングリコール、1.3−プロピレングリコール等を例
示することができる。
せて用いることができる。また、縮合型樹脂を形成する
ための単量体としては、エチレングリコール、トリエチ
レングリコール、1.3−プロピレングリコール等を例
示することができる。
また、荷電制御剤としては、特開昭59−88743号
、同59−88745号、同59−79256号、同5
9−78362号、同59−228259号、同59−
124344号に負の荷電制御剤が、また、特開昭51
−9456号、同59−204851号、同59−20
4850号、同59−177571号には正荷電制剤が
記載されているが、これらのいずれも使用可能である。
、同59−88745号、同59−79256号、同5
9−78362号、同59−228259号、同59−
124344号に負の荷電制御剤が、また、特開昭51
−9456号、同59−204851号、同59−20
4850号、同59−177571号には正荷電制剤が
記載されているが、これらのいずれも使用可能である。
また、トナーの定着ローラへの付着によるオフセット現
像を防止する目的で、低分子量ポリオレフィン(ポリプ
ロピレン、ポリエチレン、ワックス等)をバインダ樹脂
に対して0〜5曹t%含有せしめることができる。
像を防止する目的で、低分子量ポリオレフィン(ポリプ
ロピレン、ポリエチレン、ワックス等)をバインダ樹脂
に対して0〜5曹t%含有せしめることができる。
また、現像剤の流動性その他の電荷制御性(負)を付与
する目的で疎水性シリカをトナーに対して0〜3wt%
外添することができる。
する目的で疎水性シリカをトナーに対して0〜3wt%
外添することができる。
本発明に用いられる二成分現像剤のキャリアとしては、
トナーに所望の帯電を付与することができるものが選択
され、磁性材料をそのまま用いる場合、樹脂等を表面に
コーティングして用いる場合、微粉末として樹脂と混合
する場合等があるが、好ましくは磁性粒子表面に樹脂を
コーティングしたコーテッドキャリアである。前記磁性
材料としては、磁場によってその方向に極めて強く磁化
する物質、例えば、鉄、コバルト、ニッケル勢の、金属
、フェライト、マグネタイト、ヘマタイト勢を初めとす
る鉄、コバルト、ニッケル勢の強磁性を示す元素を含む
合金或いは化合物、又は強磁性体を含まないが適当に熱
処理することによって強磁性を示すようになる合金、例
えばマンガン−銅−アルミニウム或いはマンガン−銅−
錫等のマンガンと銅とを含むホイスラー合金又は二酸化
クロム等が用いられる。
トナーに所望の帯電を付与することができるものが選択
され、磁性材料をそのまま用いる場合、樹脂等を表面に
コーティングして用いる場合、微粉末として樹脂と混合
する場合等があるが、好ましくは磁性粒子表面に樹脂を
コーティングしたコーテッドキャリアである。前記磁性
材料としては、磁場によってその方向に極めて強く磁化
する物質、例えば、鉄、コバルト、ニッケル勢の、金属
、フェライト、マグネタイト、ヘマタイト勢を初めとす
る鉄、コバルト、ニッケル勢の強磁性を示す元素を含む
合金或いは化合物、又は強磁性体を含まないが適当に熱
処理することによって強磁性を示すようになる合金、例
えばマンガン−銅−アルミニウム或いはマンガン−銅−
錫等のマンガンと銅とを含むホイスラー合金又は二酸化
クロム等が用いられる。
前記キャリアの重量平均粒子径(d)は40〜120μ
■とされ、バイアス電圧によって電荷がキャリアに注入
されて像形成面にキャリアが付着したり、バイアス電圧
が漏れて潜像電荷を消失させたりすることを防止するた
めに、キャリアの抵抗率はlO8Ω−01以上、好まし
くは1011Ω−C−以上の絶縁性のもの、更に好まし
くは1011Ω−C−以上のものがよい。
■とされ、バイアス電圧によって電荷がキャリアに注入
されて像形成面にキャリアが付着したり、バイアス電圧
が漏れて潜像電荷を消失させたりすることを防止するた
めに、キャリアの抵抗率はlO8Ω−01以上、好まし
くは1011Ω−C−以上の絶縁性のもの、更に好まし
くは1011Ω−C−以上のものがよい。
なお、キャリア(又はトナー)の固有抵抗は、粒子を0
.5c■3の断面積を有する容器に入れてタッピングし
た後、詰められた粒子上に1kg/c■1の荷重をかけ
、荷重と底面電極との間に10”〜10’V/c■の電
解が生じる電圧を印加し、その時流れる電流値を読取り
、所定の計算を行うことによって求められる。この時キ
ャリア(又はトナー)粒子層の厚さは1■程度とされる
。
.5c■3の断面積を有する容器に入れてタッピングし
た後、詰められた粒子上に1kg/c■1の荷重をかけ
、荷重と底面電極との間に10”〜10’V/c■の電
解が生じる電圧を印加し、その時流れる電流値を読取り
、所定の計算を行うことによって求められる。この時キ
ャリア(又はトナー)粒子層の厚さは1■程度とされる
。
また、本発明に用いられるキャリアにおいては、現像剤
の流動性を向上させると共にキャリアとトナー間の摩擦
帯電性を向上させ、かつキャリア粒子同士又はキャリア
とトナー間のブロッキングを起り難くするため、球形化
されるのが好ましい。
の流動性を向上させると共にキャリアとトナー間の摩擦
帯電性を向上させ、かつキャリア粒子同士又はキャリア
とトナー間のブロッキングを起り難くするため、球形化
されるのが好ましい。
かかる球形化キャリアを得るには、例えば樹脂被覆キャ
リアの場合、予め球形に成形された磁性体粒子に例えば
熱可塑性又は熱硬化性樹脂を0.1〜2μm厚(キャリ
ア重量に対して0.5〜5vt%)の薄層に被覆加工す
ればよく、又、樹脂分散キャリアの場合は、磁性体微粉
末を30〜7Qwt%樹脂に分散して成る分散粒子を熱
処理して球形化するか、もしくはスプレードライ法によ
り直接球形粒子を製造すればよい。
リアの場合、予め球形に成形された磁性体粒子に例えば
熱可塑性又は熱硬化性樹脂を0.1〜2μm厚(キャリ
ア重量に対して0.5〜5vt%)の薄層に被覆加工す
ればよく、又、樹脂分散キャリアの場合は、磁性体微粉
末を30〜7Qwt%樹脂に分散して成る分散粒子を熱
処理して球形化するか、もしくはスプレードライ法によ
り直接球形粒子を製造すればよい。
前記二成分現像剤は、前記キャリアとトナーとを重量比
で(98〜85):(2〜15)で混合し、かつ必要に
よりトナーに対して0.1〜3重量%の疎水性シリカ、
コロイダルシリカ、シリコンワニス等の流動化剤及び脂
肪酸金属塩、弗素系界面活性剤等のクリーニング助剤等
を添加することができる・以上が現像剤の説明であるが
、以下前記感光体及び現像剤を用いた画像形成方法を第
7図の画像形成装置を用いて説明する。図中lOは原稿
台11上に載置された原稿、12及び13は露光ランプ
、14&。
で(98〜85):(2〜15)で混合し、かつ必要に
よりトナーに対して0.1〜3重量%の疎水性シリカ、
コロイダルシリカ、シリコンワニス等の流動化剤及び脂
肪酸金属塩、弗素系界面活性剤等のクリーニング助剤等
を添加することができる・以上が現像剤の説明であるが
、以下前記感光体及び現像剤を用いた画像形成方法を第
7図の画像形成装置を用いて説明する。図中lOは原稿
台11上に載置された原稿、12及び13は露光ランプ
、14&。
14b、t4c及び14dは反射ミラー、15は結像用
レンズである。
レンズである。
16は帯電器、17は現像器で17aは矢印方向に回転
するスリーブ、17bは主現像磁極17dを有する固定
磁石体、17cはトナーTを補給するためのホッパ、1
8は現像剤りの撹拌器である。20は前記高耐久性の有
機感光体ドラム、21はクリーニング装置で21−71
は該クリーニング装置21に組込まれたブレード、22
は現像スリーブ17aにDCバイアスを印加する電源で
ある。23は給紙カセット、24は給紙ローラ、25は
レジストローラ、28は転写極、29は分離極、26は
転写紙搬送装置、27は定着ローラ、28は排出ローラ
、29は排紙皿である。
するスリーブ、17bは主現像磁極17dを有する固定
磁石体、17cはトナーTを補給するためのホッパ、1
8は現像剤りの撹拌器である。20は前記高耐久性の有
機感光体ドラム、21はクリーニング装置で21−71
は該クリーニング装置21に組込まれたブレード、22
は現像スリーブ17aにDCバイアスを印加する電源で
ある。23は給紙カセット、24は給紙ローラ、25は
レジストローラ、28は転写極、29は分離極、26は
転写紙搬送装置、27は定着ローラ、28は排出ローラ
、29は排紙皿である。
まず原稿台ll上の原稿lOは露光ランプ12.13及
び反射ミラー14aより成る露光系により矢印方向にX
の速度で走査され、その走査光はX/2の速度で走行す
る■ミラー14b、 14cにより反射され、結像レン
ズ15及び反射ミラー14dを経て矢印方向に300+
a■/sec以上の周速で回転する予め帯電器I6によ
り400〜5novに帯電された感光体ドラム20上に
像露光されて静電潜像が形成される。この静電潜像は磁
性トナーを主成分とする一成分系現像剤、好ましくは磁
性キャリアと非磁性トナーから成る二成分系現像剤を収
容した磁気ブラシ現像器17により摺擦して現像され、
トナー像が形成される。
び反射ミラー14aより成る露光系により矢印方向にX
の速度で走査され、その走査光はX/2の速度で走行す
る■ミラー14b、 14cにより反射され、結像レン
ズ15及び反射ミラー14dを経て矢印方向に300+
a■/sec以上の周速で回転する予め帯電器I6によ
り400〜5novに帯電された感光体ドラム20上に
像露光されて静電潜像が形成される。この静電潜像は磁
性トナーを主成分とする一成分系現像剤、好ましくは磁
性キャリアと非磁性トナーから成る二成分系現像剤を収
容した磁気ブラシ現像器17により摺擦して現像され、
トナー像が形成される。
ここで現像4v17内の現像剤りはホッパ17c等のト
ナー補給機構により補給されたトナーTと撹拌器18に
より十分撹拌、混合、摩擦されて帯電され、スリーブ1
7a上に磁気的に吸着されて前記静電潜像を現像するた
め現像領域へと搬送される。
ナー補給機構により補給されたトナーTと撹拌器18に
より十分撹拌、混合、摩擦されて帯電され、スリーブ1
7a上に磁気的に吸着されて前記静電潜像を現像するた
め現像領域へと搬送される。
前記スリーブ17Mは高速複写機とはいえ、過大な周速
で回転するとトルクが過大となり機構的に好ましくない
。通常高画質を確保する上で、スリーブの17aの周速
は感光体ドラム20の周速のl〜5倍(周速比K)とさ
れるのでより早い高速機になる程スリーブ17aの周速
はそれだけ増大し、キャリア飛散を生ずるようになる。
で回転するとトルクが過大となり機構的に好ましくない
。通常高画質を確保する上で、スリーブの17aの周速
は感光体ドラム20の周速のl〜5倍(周速比K)とさ
れるのでより早い高速機になる程スリーブ17aの周速
はそれだけ増大し、キャリア飛散を生ずるようになる。
本発明の画像形成方法ではスリーブ面上の磁束密度を少
なくとも950ガウス以上、好ましく 1200ガウス
以下として、キャリア飛散のない現像を達成するように
している。ここで磁束密度が1200ガウスを越えると
現像剤の穂立が硬くなりすぎて本発明に係る改良された
感光体であっても繰返し像形成の過程でその表面が摩耗
劣化することがある。
なくとも950ガウス以上、好ましく 1200ガウス
以下として、キャリア飛散のない現像を達成するように
している。ここで磁束密度が1200ガウスを越えると
現像剤の穂立が硬くなりすぎて本発明に係る改良された
感光体であっても繰返し像形成の過程でその表面が摩耗
劣化することがある。
本発明の画像形成方法では、より早い高速機となる程、
前記周速比Kを小としてスリーブ17aの周速及びスリ
ーブ面上の磁束密度が過大とならないよう設計される。
前記周速比Kを小としてスリーブ17aの周速及びスリ
ーブ面上の磁束密度が過大とならないよう設計される。
しかしながら周速比には画像維持のため少なくとも1以
上とされ、かつスリーブ面上の磁束密度はキャリア飛散
防止のため少なくとも950ガウス以上とすることが必
須の要件とされる。
上とされ、かつスリーブ面上の磁束密度はキャリア飛散
防止のため少なくとも950ガウス以上とすることが必
須の要件とされる。
前記のようにして現像して得られたトナー像は、像形成
とタイミングを合せて給紙カセット23から給11Eロ
ーラ24、レジストローラ25を介して現像領域に搬送
された転写紙上に転写極28により転写され、分離極2
9の作用で転写される。前記トナー像を担持した転写紙
は搬送手段26により定着器27へと搬送され、定着後
排紙ローラ28をへて排紙皿29へと排出される。
とタイミングを合せて給紙カセット23から給11Eロ
ーラ24、レジストローラ25を介して現像領域に搬送
された転写紙上に転写極28により転写され、分離極2
9の作用で転写される。前記トナー像を担持した転写紙
は搬送手段26により定着器27へと搬送され、定着後
排紙ローラ28をへて排紙皿29へと排出される。
以上説明した画像形成方法により高画質の画像が高速で
安定形成可能となる。
安定形成可能となる。
(実施例)
以上本発明を実施例により具体的に説明するが本発明の
実施の態様はこれにより限定されるものではない。
実施の態様はこれにより限定されるものではない。
なお、以下の実施例においてキャリア発生物質、キャリ
ア輸送物質、キャリア発生層及びキャリア輸送層をCG
M、CTM、CにL及びCTLと略称する。
ア輸送物質、キャリア発生層及びキャリア輸送層をCG
M、CTM、CにL及びCTLと略称する。
実施例1
感光体(1)の調製:
ε−アミノ−カプロン酸、アジピン酸及びN−(β−ア
ミノエチル)ピペラジンの比率が1:l:lのモノマー
組成で共重合されたポリアミド30gを50℃に加熱し
た8001Qのメタノール(関東化学社製 −:EL規
格)へ撹拌しながら投入し、溶解させた。
ミノエチル)ピペラジンの比率が1:l:lのモノマー
組成で共重合されたポリアミド30gを50℃に加熱し
た8001Qのメタノール(関東化学社製 −:EL規
格)へ撹拌しながら投入し、溶解させた。
室温迄冷却後、l−ブタノール(関東化学社製:特級)
200t12を加えた。その後、直径100mmのア
ルミニウムドラム上へ浸漬塗布し、0.5μ■厚の中間
層を形成した。
200t12を加えた。その後、直径100mmのア
ルミニウムドラム上へ浸漬塗布し、0.5μ■厚の中間
層を形成した。
次にCGMとしてフルオレノン系ジスアゾ顔料(例示化
合物(2)−23) 20g及びバインダとしてポリビ
ニルブチラール樹脂エスレックBX−1(覆水化学社製
) 10gをメチルエチルケトン(関東化学社製:EL
規格) 100G+s12へ溶解し、サンドミルにて2
4時間ミリングを行い、CGL塗工液を得た。これを上
記中間層上に浸漬塗布して0.3μ■厚のCGLを形成
した。その後スチリル系化合物(例示化合物; (7)
−1) 120gと(例示化合物; (1)−1)の繰
返し単位を単独重合して成るポリカーボネート(分子量
2200)165gを1.2−ジクロルエタン(関東化
学社製;特級) 1000m12へ溶解させ、CTL塗
工液を得た。
合物(2)−23) 20g及びバインダとしてポリビ
ニルブチラール樹脂エスレックBX−1(覆水化学社製
) 10gをメチルエチルケトン(関東化学社製:EL
規格) 100G+s12へ溶解し、サンドミルにて2
4時間ミリングを行い、CGL塗工液を得た。これを上
記中間層上に浸漬塗布して0.3μ■厚のCGLを形成
した。その後スチリル系化合物(例示化合物; (7)
−1) 120gと(例示化合物; (1)−1)の繰
返し単位を単独重合して成るポリカーボネート(分子量
2200)165gを1.2−ジクロルエタン(関東化
学社製;特級) 1000m12へ溶解させ、CTL塗
工液を得た。
これを上記CGLに浸漬塗布後、100℃で1時間乾燥
し、20μ■厚のCTLを形成した。このようにして、
中間層−CGL−CTLを順次積層して成る感光体(1
)を作成した。
し、20μ■厚のCTLを形成した。このようにして、
中間層−CGL−CTLを順次積層して成る感光体(1
)を作成した。
感光体(2)の調製:
前記ポリカーボネートを(例示化合物? (1)−2)
の繰返し単位を単独重合して成る重合体、CTMを(例
示化合物(7)−3)とした他は実施例1を同様にして
感光体(2)を作成した。
の繰返し単位を単独重合して成る重合体、CTMを(例
示化合物(7)−3)とした他は実施例1を同様にして
感光体(2)を作成した。
感光体(3)の調製:
中間層を実施例1と同様に形成した。CGMとして、多
環キノン系顔料(例示化合物; (4)−3) 20g
及びバインダとしてポリカーボネート樹脂L−1250
(奇人化成社製) lOgを1.2−ジクロルエタン(
関東化学社製:特級)へ溶解し、ボールミルにて24時
間ミリングを行いCGL塗工液を得た。これを上記中間
層上に浸漬塗布して0.3μ■厚のCGLを形成した。
環キノン系顔料(例示化合物; (4)−3) 20g
及びバインダとしてポリカーボネート樹脂L−1250
(奇人化成社製) lOgを1.2−ジクロルエタン(
関東化学社製:特級)へ溶解し、ボールミルにて24時
間ミリングを行いCGL塗工液を得た。これを上記中間
層上に浸漬塗布して0.3μ■厚のCGLを形成した。
次いでCTMを(例示化合物; (7)−5)とし、バ
インダ樹脂として(例示化合物; (1)−1)と構造
単位(A)とを3:2の割合で共重合せしめて成るポリ
カーボネートを用いた他は実施例1と同様にしてCTL
を積層して感光体(3)を作成した。
インダ樹脂として(例示化合物; (1)−1)と構造
単位(A)とを3:2の割合で共重合せしめて成るポリ
カーボネートを用いた他は実施例1と同様にしてCTL
を積層して感光体(3)を作成した。
感光体(4)の調製;
ポリビニルブチラール樹脂(エスレツクBX−1゜覆水
化学社製) 12gをメチルエチルケトン1000■a
に溶解しさせた後、CGMとして(例示化合物(4)−
3); 5.7g、 (例示化合物(2)−23)
; 0.3gを混合し、サンドグラインダで10時間分
散した。
化学社製) 12gをメチルエチルケトン1000■a
に溶解しさせた後、CGMとして(例示化合物(4)−
3); 5.7g、 (例示化合物(2)−23)
; 0.3gを混合し、サンドグラインダで10時間分
散した。
これを実施例1で記した中間層上に浸漬塗布し、CGL
を形成、更に実施例2と同様にしてCTLを形成し、感
光体(4)を作成した。
を形成、更に実施例2と同様にしてCTLを形成し、感
光体(4)を作成した。
比較用感光体(1)の調製;
実施fl 1でCTL/<インダとしてビスフェノール
A ポリカーボネート(奇人化成:パンライト ト13
00)を用いた以外は同様にして比較用感光体(1)を
作成した。
A ポリカーボネート(奇人化成:パンライト ト13
00)を用いた以外は同様にして比較用感光体(1)を
作成した。
なお該感光体調製に際して感光液が不安定で保存安定性
が悪く、ゲル化し易いことカ(観察さt二。
が悪く、ゲル化し易いことカ(観察さt二。
比較感光体(2)の調製;
ビスフェノールZポリカーボネート(三菱ガス化学;
Z−200)をCTLの/(インダとしIこ他1ま実施
例1と同様にして比較用感光体(2)を作成した。
Z−200)をCTLの/(インダとしIこ他1ま実施
例1と同様にして比較用感光体(2)を作成した。
現像剤の調製;
(1)トナーの調製
スチレン72重量部、メチルメタクリレート10重量部
、ブチルアクリレート14重量部、モノアクリロイルオ
キンエチルサクシ不−ト4重量部、酸イし亜鉛0.5重
量部を用いて、2山分布の分子量分布を有し、重量平均
公刊1wが170.000、数平均分布量Myが9,0
00の金属架橋されたスチレン−アク1ノル共重合体樹
脂を製造した。
、ブチルアクリレート14重量部、モノアクリロイルオ
キンエチルサクシ不−ト4重量部、酸イし亜鉛0.5重
量部を用いて、2山分布の分子量分布を有し、重量平均
公刊1wが170.000、数平均分布量Myが9,0
00の金属架橋されたスチレン−アク1ノル共重合体樹
脂を製造した。
上記樹脂 100重量部カーボ
ンブラック「モーガルL4 10重量部(キャポット社
製) 以上の物質を混合し、熔融混練し、冷却した後、粗粉砕
し、さらに微粉砕し、次し%で分級して、平均粒径がl
Oμ■のトナーを得た。
ンブラック「モーガルL4 10重量部(キャポット社
製) 以上の物質を混合し、熔融混練し、冷却した後、粗粉砕
し、さらに微粉砕し、次し%で分級して、平均粒径がl
Oμ■のトナーを得た。
(ii)無機粒子の調製;
その構成単位として、下記構造式で表されるアンモニウ
ム塩を官能基として有するポリシロキサンをキシレンに
溶解して、処理液を調製した。
ム塩を官能基として有するポリシロキサンをキシレンに
溶解して、処理液を調製した。
次に、シリカ微粒子「アエロジル200」(日本アエロ
ジル社製)をミキサーに入れ、このシリカ微粒子に対し
て、上記のポリシロキサンが5vt%となるようにな割
合で噴霧した後、これらをフラスコに入れ、撹拌しなが
ら温度200℃にて5時間にわたり溶剤であるキシレン
を除去し、アンモニウム塩を官能基として有するボリン
ロキサン番こより表面処理された無機微粒子を得た。
ジル社製)をミキサーに入れ、このシリカ微粒子に対し
て、上記のポリシロキサンが5vt%となるようにな割
合で噴霧した後、これらをフラスコに入れ、撹拌しなが
ら温度200℃にて5時間にわたり溶剤であるキシレン
を除去し、アンモニウム塩を官能基として有するボリン
ロキサン番こより表面処理された無機微粒子を得た。
この無機微粒子は、1次粒子の平均粒径が12+μ、B
ET法による比表面積が115m”/gであつに。
ET法による比表面積が115m”/gであつに。
(ii)キャリアの調製
流動化ベツド装置を用い、フェライト粒子「F−150
J (E1本鉄粉工業社製)の表面を、下記構造の弗
素樹脂により膜厚的1.5μlで被覆して樹脂被覆キャ
リアを得、得られたキャリア粒子の粒径1よ80μmで
あった。
J (E1本鉄粉工業社製)の表面を、下記構造の弗
素樹脂により膜厚的1.5μlで被覆して樹脂被覆キャ
リアを得、得られたキャリア粒子の粒径1よ80μmで
あった。
弗素樹脂
rHl
まず前記トナー100重量部に無機粒子0.5重量部ヲ
添加し、ヘンシルミキサーにより混合してトナー粒子を
表面に前記無機粒子を付着させ、ざらI:これらとキャ
リアとをvH混合機番こより混合してトナー濃度が5v
t%の現像剤を得た。
添加し、ヘンシルミキサーにより混合してトナー粒子を
表面に前記無機粒子を付着させ、ざらI:これらとキャ
リアとをvH混合機番こより混合してトナー濃度が5v
t%の現像剤を得た。
前記感光体(1)〜(4)、比較用感光体(1)及び(
2)を1l−BIX5000 (コニカ社製)の改造機
に搭載し、かつ複写機の現像器に前記二成分系現像剤を
充填して下記第1表の機械条件に沿って第2表の各テス
トを行なった。各テスト共lO万回の実写テストを行な
うと共に実写前後での表面電位を測定した。
2)を1l−BIX5000 (コニカ社製)の改造機
に搭載し、かつ複写機の現像器に前記二成分系現像剤を
充填して下記第1表の機械条件に沿って第2表の各テス
トを行なった。各テスト共lO万回の実写テストを行な
うと共に実写前後での表面電位を測定した。
又第2表の黒紙電位vbは反射濃度1.3の原稿に対す
る感光体の表面電位、白紙電位Vvは反射濃度0の原稿
に対する感光体の表面電位、残留電位vlは除電後の感
光体の表面電位であって、いづれも実写前後に現像器の
位置に電位計のプローブを配置して測定した。
る感光体の表面電位、白紙電位Vvは反射濃度0の原稿
に対する感光体の表面電位、残留電位vlは除電後の感
光体の表面電位であって、いづれも実写前後に現像器の
位置に電位計のプローブを配置して測定した。
また感光体表面の摩擦による膜減耗については、lO万
ココピー終了後感光体膜厚を測定し、初期と比較した。
ココピー終了後感光体膜厚を測定し、初期と比較した。
画質については、逐次画像サンプルをチエツクし、ド
ラム周方向のキズに基づくスジ、クリーニング不良の発
生コピー数を目視により測定して比較した。
ラム周方向のキズに基づくスジ、クリーニング不良の発
生コピー数を目視により測定して比較した。
前記各測定結果を第2表に揚げた。第2表より、本発明
に係るテストではいづれも感光体の摩耗劣化が少なく、
感光体表面の疵、クリーニング不良等いづれも僅少であ
るが、比較感光体では摩耗、劣化が大であることがわか
る。
に係るテストではいづれも感光体の摩耗劣化が少なく、
感光体表面の疵、クリーニング不良等いづれも僅少であ
るが、比較感光体では摩耗、劣化が大であることがわか
る。
第1表
第2表より本発明に係るテストでは、実施例1の場合と
同様繰返し像形成の過程で感光体の摩耗及び電子写真性
能の劣化がいづれも僅少であるが比較テストでは摩耗、
劣化が大であることがわかる。
同様繰返し像形成の過程で感光体の摩耗及び電子写真性
能の劣化がいづれも僅少であるが比較テストでは摩耗、
劣化が大であることがわかる。
表には示さなかったが、主現像磁極の磁束密度を900
ガウスとした場合は初期より現像剤が飛散し、実用的に
不向なものであった。
ガウスとした場合は初期より現像剤が飛散し、実用的に
不向なものであった。
以上の説明から明らかなように、本発明の画像形成方法
によれば、高速での多数回に亘る像形成の過程で感光体
の摩耗や画像欠陥の発生、電子写真性能の劣化がなく、
高画質の画質が安定して得られる等の効果を示した。
によれば、高速での多数回に亘る像形成の過程で感光体
の摩耗や画像欠陥の発生、電子写真性能の劣化がなく、
高画質の画質が安定して得られる等の効果を示した。
第1図乃至第6図は本発明に適する感光体の層構成を示
す断面図、第7図は本発明の画像形成方法を説明する画
像形成装置の概要図である。 l・・・支持体 2・・・キャリア発生層3・・
・キャリア輸送層
す断面図、第7図は本発明の画像形成方法を説明する画
像形成装置の概要図である。 l・・・支持体 2・・・キャリア発生層3・・
・キャリア輸送層
Claims (1)
- (1)高速で回転駆動される有機光導電性感光体上に帯
電及び像露光を施して静電潜像を形成し、主現像磁極を
有する固定磁石体の外周を回転するスリーブにより現像
剤を搬送して前記静電潜像を現像する工程を有する画像
形成方法において、前記感光体の感光層に構成する少な
くとも最上層が下記一般式〔 I 〕で示される構成単位
を主要繰返し単位として有するポリカーボネートを含有
する感光体を用い、該感光体を少なくとも300mm/
secの周速で回転駆動すると共に、前記主現像磁極の
スリーブ面上での磁束密度を950ガウス以上としたこ
とを特徴とする画像形成方法。 一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2は水素原子又は炭素原子1〜6
のアルキル基を表す。R_3、R_4、R_5、R_6
及びR_7、R_8、R_9、R_1_0は水素原子、
メチル基、塩素原子又は臭素原子を表し、前記置換基の
全てが水素原子であることはない。〕
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28091690A JPH04155365A (ja) | 1990-10-18 | 1990-10-18 | 画像形成方法 |
EP19910309516 EP0481747B1 (en) | 1990-10-18 | 1991-10-16 | Method of image formation |
DE1991628598 DE69128598T2 (de) | 1990-10-18 | 1991-10-16 | Bilderzeugungsverfahren |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28091690A JPH04155365A (ja) | 1990-10-18 | 1990-10-18 | 画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04155365A true JPH04155365A (ja) | 1992-05-28 |
Family
ID=17631724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28091690A Pending JPH04155365A (ja) | 1990-10-18 | 1990-10-18 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04155365A (ja) |
-
1990
- 1990-10-18 JP JP28091690A patent/JPH04155365A/ja active Pending
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