JPH04147900A - レジストマスクによる画像彫食刻方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、硬質体表面のレジストマスクによる画像形食
刻方法に関するものである。

【従来の技術】

硬質体表面の彫食刻は、硬質体、例えばガラス、石材、
陶磁器、金属、プラスチック、木質材、皮革の表面に希
望する写真画像、模様文字などをサンドブラストおよび
ケミカルエツチング等で彫食刻するものであり、インテ
リアなど多方面において利用されている。この彫食刻す
る工程において、レジストマスクを硬質体表面に形成す
ることにより希望する画像が彫食刻されるのである。 硬質体である加工材料の表面に画像を彫刻出現させる表
面加工法として従来から行なわれている方法には、以下
の方法が知られている。 加工材料面に直接にスクリーン印刷法によってレジスト
インキを印刷し目的の画像のレジストマスクを形成する
方法がある。また、キャリヤフィルム上にスクリーン印
刷法により画像を印刷した後、乾燥しスプレー状粘着剤
を画像上に噴霧し加工材料面に接着する方法や離型剤を
コートしたキャリヤフィルム上に液状感光性樹脂をコー
トした後、キャリヤフィルム上で露光、現像し形成した
画像を加工材料面に転写する方法がある。いずれの場合
も紫外線による硬化反応を利用しており、写真フィルム
の作成が不可欠である。写真フィルムの作成には原稿、
版下作成、製版カメラによる撮影、写真現像まで時間と
手間がかかる。 写真フィルムを使用しない方法にはカッティング法があ
るが、手作業のカッティングによるレジストマスクの作
成には熟練と時間が必要であり、最近になりＣＡＤによ
る直接カッティング法なども行なわれているが、装置が
高価であるうえ画像が微細になると対応できない欠点を
有している。

【発明が解決しようとする課題】

本発明は前記の問題を解決するためになされたものであ
り、ガラス、金属、プラスチック等の加工材料面に彫食
刻を施す際に用いられるレジストマスクの製作において
写真フィルムを全く使用せず、安価で能率的に微細な画
像を加工することができるレジストマスクによる画像彫
食刻方法を提供するものである。

【課題を解決するための手Ｐｊ１ 本発明者らは、前記の課題を解決するために鋭意研究を
重ねた結果、複写機、プリンタにより形成されたトナー
画像が水洗いの水圧に十分耐えられることを見出し、簡
便に微細な画像を再現できかつ加工材料面上に水現像に
よるレジストマスクを形成する方法を見出し本発明を完
成するに至った。 以下、本発明のレジストマスクによる画像彫食刻方法に
ついて、実施例に対応する第１図〜第５図に従って説明
する。 本発明のレジストマスクによる画像彫食刻方法は、以下
の通りである。使用する積層フィルム１０は、支持体ｌ
と水溶性ポリマーフィルム２から成っている（第１図参
照）。水溶性ポリマーフィルム２の上に複写機またはプ
リンタによりトナー画像３を形成した後、支持体１を剥
離する（第２図参照）　次に、支持体１を剥離した水溶
性ポリマーフィルム２を加工材料４の表面に接着した後
（第３図参照）、エアー圧２〜５　ｋｇ／ｃｍ”程度の
水スプレーで水洗し、水溶性ポリマーフィルム２上のト
ナーが付着していない部分を除去すると、トナー画像お
よびそのトナー画像に対応する水溶性ポリマーフィルム
が残存する（第４図参照）にのようにしてレジストマス
クを形成した加工材料面に、サンドブラスト加工で彫食
刻を行なう（第５図参照）。また、ケミカルエツチング
で彫食刻を行なってもよい。 支持体ｌは、積層体の製造上及び使用時の取り扱い上必
要なものであり、さらに複写機内もしくはプリンタ内で
スムーズにコピーするために必要なものであり、例えば
ポリエステル、ポリカーボネート等の合成樹脂フィルム
や合成紙、紙が挙げられる。取扱い、保持性の上から厚
さは５０１ｍ〜５００μ園程度のものが腰があり、好適
である。 水溶性ポリマーフィルム２はトナーとの接着力があり、
サンドブラスト耐性を有する水溶性ポリマーであればよ
い。前記の性質を有するものとしては、例えばポリビニ
ルアルコールとその誘導体、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピル
セルロースなどのセルロース誘導体、ポリエチレングリ
コール、ポリビニルピロリドン、水溶性紙が挙げられる
。さらにこれらの水溶性ポリマー中には水現像性、解像
度及びトナーとの接着力の向上のために、例えばポリ酢
酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
スチレン、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸エス
テル、ポリエステル、ポリアミド及びポリブタジェンの
エマルジョン、ラテックス、酸化チタン、アルミナ、シ
リカ、金属粉末の添加も妨げない。また、前記の成分以
外に例えば可塑剤、染料、顔料、界面活性剤の各種添加
剤も必要に応じて混合してもよい。これらの組成物の水
溶液を調製した後、前記の支持体１に塗布、乾燥して積
層フィルムｌＯを形成する。水溶性ポリマーフィルム２
の厚さは、サンドブラスト加工で彫食刻する場合に使用
する研磨剤の粒度、噴射空気圧彫刻の深さ（同一箇所へ
の噴射時間）によって選択され、また薬液の侵食性、濃
度、浸漬時間に応じて適性な厚さを選択すればよい。通
常、その厚さは０，０５■−〜２Ｉｌ■程度である。 また、水溶性ポリマーフィルム２を加工材料４に接着す
るには、水性接着媒体または熱により接着される。水性
接着媒体としては、例えば水、水性粘着剤及び水とアル
コールとの混合液が挙げられる。熱による接着の場合は
、例えばアイロンが使用される。 本発明に使用する複写機、または静電方式、インクジェ
ット、ドツトマトリックスもしくは熱転写方式のプリン
タは、トナーを使用するものであればよく、特に限定は
しない。使用するトナーは、カーボンブラック、熱可塑
性樹脂（例えばスチレン−アクリル樹脂、ポリアミド）
、染料、界面活性剤等の混合物であり、一般的に利用さ
れているものでよい。 【作用】 水溶性ポリマーフィルム２は水に溶解するが、トナー画
像３が形成された部分の水溶性ポリマフィルムは、トナ
ーが撥水性をもつため水に溶解しない。従って、水溶性
ポリマーフィルムを水洗することにより、トナーが付着
していない部分は取り除かれ、トナー画像およびそのト
ナー画像に対応する水溶性ポリマーフィルムが水現像さ
れてレジストマスクとして形成される。

【実施例】

以下、本発明の詳細な説明する。 実施例１ 支持体である７５部ｍのポリエステルフィルム上にクリ
スタルバイオレットを０．１部添加したポリビニルアル
コール（信越化学制ＰＡ−２０）の１０ｗｔ％水溶液を
コートし、乾燥後の厚さを５０μ■とした。 それをＡ４サイズに切り、複写機（ミノルタ製ＥＰ８５
０口）の紙供給部より挿入し、ｌＯポイントの明朝体文
字原稿を水溶性ポリマーフィルムであるポリビニルアル
コールフィルム面にコピーした。 次に、ポリエステルフィルムをポリビニルアルコールフ
ィルムより剥離した後、ゴムローラにより水で濡らした
板ガラス面にポリビニルアルコールフィルムを接着して
余分な水をふき取り、４０℃で３０分間乾燥する。その
後、ポリビニルアルコールフィルムを水スプレーでよく
水洗し、画像が完全に現像されたら乾燥し、　２２０番
のアランダム、エアー圧２　ｋｇ／ｃｍ”でサンドブラ
スト加工を行なった。加工後は、水中でスポンジを用い
て強くこすることによりレジストマスクを取り除いた。 細線の飛び、ブラストの抜けがなく、１０ポイントの明
朝体文字の反転画像が奇麗に加工できた。 実施例２ 支持体である７５１１１ｍのポリエステルフィルム上に
ポリビニルアルコール（信越化学制ＰＡ−２０）５０部
、ポリ酢酸ビニルエマルジョン（ヘキスト合成製モビニ
ール５０Ｍ）の固形分４９部、クリスタルバイオレット
１部の組成物の２０ｗｔ％水溶液をコートし、乾燥後の
厚さを４０μｍとし、実施例１と同様の条件でコピー、
水洗し、ブラスト加工を行なった。 細線の飛び、ブラストの抜けなく１［１ポイントの明朝
体文字の反転画像が奇麗に加工できた。 実施例３ 支持体の５０ｇ■ポリエステルフィルム上にポリビニル
アルコール〔信越化学制Ｐ−１８）２０部、ポリ酢酸ビ
ニルエマルジョン（ヘキスト合成製モビニール５０Ｍ）
７９部、クリスタルバイオレット１部の組成物の２５ｗ
ｔ％水溶液をコートし、乾燥後の厚さを２００ｕｍとし
た。これをＡ４サイズに切りパソナルコンピュータ（Ｍ
ａｃｉｎｔｏｓｈ　Ｉｆ　）と接続したレーザープリン
タ（Ｌａｓｅｒ　Ｗｒｉｔｅｒ　　ＩＩ　ＮＴＸ　）で
１５ポイントゴシック体文字を水溶性ポリマーフィルム
面にプリントした。この時パーソナルコンピュータ上で
ポジーネガ反転した文字も同様にプリントした。 次に、ポリエステルフィルムを水溶性ポリマーフィルム
より剥離した後、板ガラス面に水溶性ポリマーフィルム
をあて１２０℃に加熱したアイロンで圧着しながら接着
した。その後、水溶性ポリマーフィルムを水スプレーで
よく水洗し現像、乾燥後、　１２０番のアランダム、エ
アー圧５　ｋｇ７ｃｍ”でサンドブラスト加工を行なっ
た。加工後は、水中でスポンジを用いて強くこすること
によりレジストマスクを取り除いた。 ポジ像、ネガ像とも細線の飛び、ブラスト抜けのない１
５ポイントのゴシック体文字が奇麗に加工できた。 実施例４ 支持体である７５μｍのポリエステルフィルム上にヒド
ロキシメチルセルロース（信越化学製メトローズ６０Ｓ
Ｈ）　６０部、ポリ塩化ビニリデンエマルジョン（脂化
成製サランラテックス）４０部の組成物の２５ｗｔ％水
溶液をコートし、乾燥後の厚さを８０１１Ｉとした。実
施例１の複写機により１８ポイントゴシック体文字をコ
ピーし、ガラスコツプの側面に実施例１に従い接着し現
像を行なった。乾燥後、１０％フッ酸水溶液中に２０℃
、５分間浸漬してエツチングを行なった。 細線の脱落もなく、１８ポイントのゴシック体文字の奇
麗なエツチングが加工できた。 実施例５ 実施例３の積層フィルムに、パーソナルコンピュータ（
ＩＢＭ製５５５１）と接続した熱転写プリンタ（Ｉ　Ｂ
　Ｍ　５２０２−００１）とワイヤドツトプリンタ（Ｉ
ＢＭ５２０４〜００１）でそれぞれ１３ポイント明朝体
文字をプリントし、支持体を剥離後、加工材料であるポ
リメチルメタクリレート板に実施例１に従い接着、現像
し、サンドブラスト加工の後、レジストマスクを取り除
いた。 両プリンタとも細線の飛び、ブラスト抜けなく１３ポイ
ントの明朝体文字が奇麗に加工できた。 実施例６ 実施例２の積層フィルムに、インクジェット（トッドウ
ェル製ＭＡＣＲＯＪＥＴ２　）によりシングルライン７
Ｘ５マトリツクスのアルファベットをプリントし実施例
１と同様の条件で接着、水洗し、ブラスト加工を行なっ
た。 細線の飛び、ブラスト抜けなくアルファベット文字の反
転画像が奇麗に加工できた。

【発明の効果】

以上、説明したように本発明を適用するレジストマスク
による画像彫食刻方法を用いれば、レジストマスクの製
作において装置が簡単であり、微細な画像が安価にまた
能率的に加工できる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第５図は、本発明を適用する画像彫食刻方法の
工程を順に説明する図である。 １・・・支持体 ２・・・水溶性ポリマーフィルム ３−・・トナー画像　　　　４−・・加工材料５・・・
スプレーガン　　　６・・・水７・・・サンドブラスト
用ノズル ８・・・研磨剤　　　　　　１０・・・積層フィルム第 図 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、支持体上の水溶性ポリマーフィルムに複写機または
   プリンタによりトナー画像を形成し、該支持体を剥離し
   た水溶性ポリマーフィルムを加工材料面に接着した後、
   水洗して該水溶性ポリマーフィルム上のトナーが付着し
   ていない部分を除去し、トナー画像およびそのトナー画
   像に対応する水溶性ポリマーフィルムが残存している加
   工材料面に彫食刻をすることを特徴とするレジストマス
   クによる画像彫食刻方法。