KR100334738B1 - 기념용 석물(石物)의 가공방법 - Google Patents

기념용 석물(石物)의 가공방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기념용 석물(石物)의 가공방법에 관한 것으로, 소정의 형상으로 석물(10)의 표면이 깨끗하게 가공된 상태로 준비하는 석물준비단계와;
석물(10)에 표현하고자 하는 사진을 스캐너로 판독하여 네가필름을 얻도록 하는 필름성형단계와;
석물(10)의 표면에 자외선에 의해 명암이 구분되게 감광시키는 감광액(20)을 일정 두깨로 도포하여 건조시키는 감광액도포단계와;
석물(10) 표면에 감광액(20)이 도포된 그 상부로 필름선형단계에서 얻어진 필름(30)을 밀착시키는 필름밀착단계와;
이 필름밀착단계에 의해 감광액(20)의 상부에 필름(30)이 부착된 상태에서 자외선램프(40)에 의해 소정의 시간동안 감광토록 하는 감광단계와;
감광단계에서 자외선에 의해 감광액(20)이 필름(30)의 내용과 같이 부식된 상태에서 필름(30)을 제거하는 필름제거단계와;
감광액(20)이 소정의 형상을 따라 부식된 상태의 석물(10) 표면에 샌드브라스트기(50)로부터 샌딩노즐(51)을 통해 소정의 압력으로 강하게 분출되는 샌드에 의해 부식된 위치와 부식되지 않은 위치의 경계에서 석물 표면이 미세히 파내어져 필름(30)의 내용과 같이 음각으로 형상이 표시되는 샌딩단계와;
석물(10)의 표면에 부착된 감광액을 제거하는 감광액제거단계가 순차적으로 이루어 지는 것에 의해 달성된다.
따라서, 석물에 사진에 같은 해상도의 내용을 파내어 가공할 수 있으므로 비석이나 각종 기념석등의 기념효과와 상품성을 향상시킬 수 있다.
또, 그 가공이 용이하고 신속하게 이루어져 경제적인 이익을 주는 등의 매우 유용한 발명인 것이다.

Description

기념용 석물(石物)의 가공방법 {Method for processing memorial stone figures}
본 발명은 각종 비석이나 장식용 돌 기념패등의 석물에 원하는 인물사진이나 사인등을 실제와 같이 가공할 수 있도록 발명된 것이다.
일반적으로 비석이나 기념패등에 원하는 무늬나 문자등을 표시하는 방법으로 수공구를 이용하거나 레이져공구등을 이용해 직접 파내여 음각 방식으로 가공하게 된다.한편, 대한민국 특허 184948 호에서는 비석등의 기념물 위에 실크 스크린의 인쇄기법을 이용해 인물등을 인쇄하데 도료 및 안료가 돌출되어 보다 실감 효과를 갖도록 한것도 제안된바있다.
이와같이 수공구나 레이져를 이용해 석물을 음각으로 파내는 방법은 그 표현방법에 한계가 있어 정밀한 인물묘사나 사진과 같이 매우 실제적인 표현은 가공할 수 없었던 것이다.
따라서, 그 표현에 한계가 있으므로 비석을 예로 보면 해당자의 과거나 업적등을 문자밖에 표현하지 못하므로 후세나 타인으로 하여금 기념이 될 만한 인물을 인지시킬 수가 없었던 것이다.
또, 기념패나 광고용 각종 석물등도 그 표현의 한계로 인하여 소비의욕을 충족하지 못하는 등의 폐단이 있었던 것이다.한편, 대한민국 특허 184948 호에서는 알려진 실크 스크린의 인쇄기법으로 도료 및 안료가 돌출되도록하는 방법은, 다소 초상의 실감효과를 갖기는하나, 장시간에 걸친 방치로 빗물등의 기후 변화로 인쇄잉크등이 손상될 확률이 매우 높을 뿐만아니라, 석물에 직접 내용물이 조각된 것과 같은 품위는 전혀 느끼지 못하여 그 상품가치가 저하되었던 것이다.
본 발명의 목적은 사진에 나타난 윤곽이나 음영을 그대로 사진과 같이 가공하여 보다 사질적인 표현에 의해 기념효과와 상품성을 향상시킬 수 있도록 한 기념용 석물(石物)의 가공방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 그 가공이 용이하고 신속하게 이루어져 경제적인 이익을 줄 수 있는 기념용 석물(石物)의 가공방법을 제공하는 데 있다.
도 1 내지 도 5는 본 발명의 공정을 이해도로 도시한 것으로
도 1은 감광액이 도포된 석물 표면에 필름을 부착하는 과정을 보인 이해도
도 2는 필름이 감광액 상부에 부착된 상태에서 램프에 의해 빛을 투과하는 공정을 보인 이해도
도 3은 필름이 제거된 상태에서 필름의 형상에 따라 감광액이 부식 변화된 상태를 보인 이해도
도 4는 샌딩노즐로 부터 샌드가 분출되어 부식된 부분이 파내어 지는 공정을 보인 이해도
도 5는 샌드충격에 의해 특정부위가 음각으로 파내어진 상태를 보인 단면도
도 6은 본 발명의 공정에 의해 얻어진 석물에 사진 인물이 가공된 상태를 실시예로 도시한 정면도
도면중 주요 부분에 대한 부호의 설명
10 - 석물 20 - 감광액
30 - 필름 40 - 자외선램프
51 - 샌딩노즐
이러한 본 발명의 목적은 소정의 형상으로 석물(10)의 표면이 깨끗하게 가공된 상태로 준비하는 석물준비단계와;
석물(10)에 표현하고자 하는 사진을 스캐너로 판독한후 필름현상으로 네가필름을 얻도록 하는 필름성형단계와;
석물(10)의 표면 자외선에 의해 명암이 구분되게 감광시키는 감광액(20)을 일정 두깨로 도포하여 건조시키는 감광액도포단계와;
석물(10) 표면에 감광액(20)이 도포된 그 상부로 필름선형단계에서 얻어진 필름(30)을 밀착시키는 필름밀착단계와;
이 필름밀착단계에 의해 감광액(20)의 상부에 필름(30)이 부착된 상태에서 자외선램프(40)에 의해 소정의 시간동안 감광토록 하는 감광단계와;
감광단계에서 자외선에 의해 감광액(20)이 필름(30)의 내용과 같이 부식된 상태에서 필름(30)을 제거하는 필름제거단계와;
감광액(20)이 소정의 형상을 따라 부식된 상태의 석물(10) 표면에 샌드브라스트기(50)로부터 샌딩노즐(51)을 통해 소정의 압력으로 강하게 분출되는 샌드에 의해 부식된 위치와 부식되지 않은 위치의 경계에서 석물 표면이 미세히 파내어져 필름(30)의 내용과 같이 음각으로 형상이 표시되는 샌딩단계와;
석물(10)의 표면에 부착된 감광액을 제거하는 감광액제거단계가 순차적으로 이루어 지는 것에 의해 달성된다.
따라서, 석물에 사진에 같은 해상도의 내용을 파내어 가공할 수 있으므로 비석이나 각종 기념석등의 기념효과와 상품성을 향상시킬 수 있다.
또, 그 가공이 용이하고 신속하게 이루어져 경제적이다.
이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 감광액(20)이 도포된 석물(10) 표면에 필름(30)을 부착하는 과정을 보이고, 도 2는 필름(30)이 부착된 상태에서 자외선램프(40)에 의해 자외선을 투과하는 공정을, 도 3은 필름(30)이 제거된 상태에서 감광액(20)이 부식되어 변화된 상태를 도 4는 샌딩노즐(51)로 부터 샌드가 분출되어 부식된 부분이 파내어 지는 공정을, 도 5는 샌드충격에 의해 특정부위가 파내어진 상태를 이해도로 각각 도시하고 있다.
한편, 도 6은 본 발명의 공정에 의해 얻어진 석물(10)의 표면에 사진 인물이 가공된 상태를 예로서 도시하고 있다.
즉, 도 1에서와 같이 표면이 평편하게 가공된 석물(10)을 준비한다.
이 석물(10)은 비석이나 각종 형상의 기념석 및 기념패, 광고용 석재등이 포함된다.
여기서 석물(10)의 표면은 깨끗하고 매끈하게 가공된 상태로 준비하는 것이 필요하다.
따라서, 후술하는 바와같이 샌드충격에 의해 파손되는 부위가 미세하더라도 그 반사면 차이등에 의해서도 현저한 윤곽차이를 얻을 수 있는 것이다.
이와같이 석물준비단계를 거쳐 다음에는 원하는 내용물의 표현하기 위한 사진내용이 필름(30)에 담겨지도록 하는 필름성형단계를 수행하게 된다.
필름성형단계는 석물(10)에 표현하고자 하는 사진을 원하는 크기와 형상을 가지며 네가티브(-)형식의 필름(30)으로 제작하게 된다.
즉, 통상 소유하고 있는 작은 크기의 사진을 스캐너로 판독하여 이미지화일로 만든다음 필름인쇄기에서 네가티브상태로 명암이 바뀌는 인쇄한후 현상액을 도포하는것에 의해 네가필름을 현상하게 되는데, 이 네가 필름(30)은 명암에 따른 윤곽만을 얻으면 되므로 칼라가 필요없으며 흑백상태로 필름인쇄기에서 성형하게 된다.
이때, 필름(30)의 크기는 석물(10)의 크기등을 감안하여 확대배율을 결정하게 되며, 필름의 해상도를 약 20-40선 사이에서 선택하여 흑백의 필름(30)을 성형하게 되는 것이다.네가 필름은 필름 베이스 위에 유제와 베이스가 잘 접착하도록 하도층(下塗層)을 도포한 다음 감광유제를 도포하고, 그 위에 보호막인 젤라틴층이 있다. 유제층은 단층인 경우도 있으나, 일반용 필름에서는 래티튜드를 넓게 하기 위해서 밑에 저감도(低感度) 유제, 위에 고감도 유제를 도포한 중층유제(重層乳劑)를 채택하고 있다. 필름 베이스 아래쪽에는 헐레이션(halation)을 방지하기 위해서 젤라틴 색소(色素)를 혼합한 헐레이션 방지층이 있는것이 이용된다.
그리고, 석물(10)에는 감광액(20)을 일정두께 기포없이 도포하는 감광액도포단계가 수행된다.
감광액(20)은 후술하는 감광단계의 빛, 자외선이 투과되는 부위와 투과되지 않는 부위의 차이에 따라 흑먹이 위치된 부위에서는 그 성질이 거의 부식되어 취약해 지고, 흑먹이 위치되지 않은 필름부는 감광액(20)이 정상적인 투막상태를 유지하게 된다.필름 제판에 상용되는 감광재료는 은염 감광제, 중크롬산염, 디아조화합물, 아지드 화합물, 감광성 수지 및 철염 등이 있으나 은염 감광재료가 주로 사용된다.은염 감광제는 할로겐(F,CI,Br,I)과 은과의 화합물을 할로겐 화합물이라하고 그 중 AgF는 물에 녹기때문에 은염감광제로 사용하지 못하고 염화은(AgCI), 브롬화은(AgBr),브롬화은(AgI)의 3가지가 은염감광제로 사용되며 할로겐화은 단독으로 인화지는 필름 등에 사용되는 것이 아니라 각각의 목적에 맞게 혼합하여 사용한다. AgCI은 저감도, 미립자로 입상성이 좋고, AgBr은 고감도, 큰입자를 가지며 가장 일반적인 감광재료로 이용되며, AgI은 제일 저감도, 입상성이 좋다. 한편, 디아조 수지는 네거티브형 필름에 현재 가장 많이 사용하고 있는 감광재료이다.
이와같이 감광액(20)이 투막상태를 유지하게 되면 일정두께로 도포된 막부분이 탄성을 갖게 된다.
따라서, 강한 압력으로 모래가 분사되더라도 이 투막부분에서는 모래가 반사되고 부식된 부위는 석물(10) 표면이 파여져 음각상태의 사진모양으로 가공이 이루어 지는 것이다.
감광액(20)의 두포두께는 0.01-0.03 mm사이가 적당하며 도포후 액 1-2시간 정도 건조하여 표면 탄성을 유지시키게 되며 감광단계에서 부식된 부분은 모래타격단계에서 샌딩 분사력으로 분산되는 것이다.
상기와 같이 필름성형단계에서 얻어진 필름(30)은 도 1에서와 같이 석물(10) 표면에 감광액(20)이 도포된 그 상부로 필름(30)을 밀착시키는 필름밀착단계가 이루어 진다.
이때, 필름(30)과 감광액(20) 사이에는 기포가 없이 고루 밀착되도록 하고, 흑백으로 된 필름(30)의 먹색면이 감광액(20)을 향하도록 부착하게 된다.
그리고, 도 2에서와 같이 필름(30) 외부에서 소정의 거리를 두고 자외선램프(40)를 점등시켜 소정의 시간동안 감광토록 하는 감광단계가 이루어 진다.
감광단계에 필요한 시간은 약 3-5분 정도면 충분하며, 이때 필요한 빛은 자외선이 적합하다.
그리고, 감광단계에서 자외선에 의해 감광액(20)이 필름(30)의 내용과 같이 부식되는 것이며, 이 후 필름(30)을 떼어내어 제거하는 필름제거단계가 수행된다.
이때는 감광액(20)이 소정의 필름(30) 내용을 따라 부식된 상태를 유지하게 되는 것이며, 이후 석물(10) 표면에 샌드브라스트기(50)로부터 샌딩노즐(51)을 통해 소정의 압력으로 강하게 분출되는 샌드(모래)에 의해 감광액(20)이 부식된 위치와 부식되지 않은 위치에서 석물(10) 표면이 미세히 파내어지는 샌딩단계가 이루어 진다.
샌드 분출 압력은 석물(10)의 표면강도보다 다소 높은 압력으로 분사되는 것이며, 감광액(20)이 부식되지 않은 위치에서는 모래알이 반사되고 부식된 부위에서만 표면이 도 5와같이 미세히 파내어져 소정의 사진 형상 그대로 석물(10) 표면에 마치 사진 인화와 같은 상태로 특정 인물이나 사인, 글씨체등을 그대로 표식할 수가 있는 것이다.적합한 샌드분출압력은 5-20㎏/㎠범위가 적합하다.
이와같이 석물(10)이 필름(30) 형상대로 그대로 가공된 후에는 석물(10)의 표면에 부착된 감광액(20)을 제거하는 감광액제거단계가 이루어 진다.
이 감광액(20)은 물로 희석시킨 다음 탈막제에 의해 쉽게 제거되며 석물(10)의 깨끗한 표면이 이때 노출되어 모래압력으로 파내어진 부분과 깨끗한 표면이 함께 노출되는 것에 의해 완전하게 사진과 같은 특정 내용이 그대로 석물(10)에 표식되는 것이다.
상술한 바와같은 본 발명은 석물에 사진에 같은 해상도의 내용을 파내어 가공할 수 있으므로 비석이나 각종 기념석등의 기념효과와 상품성을 향상시킬 수 있다.
또, 그 가공이 용이하고 신속하게 이루어져 경제적인 이익을 주는 등의 매우 유용한 발명인 것이다.

Claims (1)

  1. 소정의 형상으로 석물(10)의 표면이 깨끗하게 가공된 상태로 준비하는 석물준비단계와;
    석물(10)에 표현하고자 하는 사진을 스캐너로 판독한후 필름현상으로 네가필름을 얻도록 하는 필름성형단계와;
    석물(10)의 표면에 자외선에 의해 명암이 구분되게 감광시키는 감광액(20)을 일정 두께로 도포하여 건조시키는 감광액도포단계와;
    석물(10) 표면에 감광액(20)이 도포된 그 상부로 필름선형단계에서 얻어진 필름(30)을 밀착시키는 필름밀착단계와;
    이 필름밀착단계에 의해 감광액(20)의 상부에 필름(30)이 부착된 상태에서 자외선램프(40)에 의해 소정의 시간동안 감광토록 하는 감광단계와;
    감광단계에서 자외선에 의해 감광액(20)이 필름(30)의 내용과 같이 부식된 상태에서 필름(30)을 제거하는 필름제거단계로 구성된 것에 있어서;
    감광액(20)이 소정의 형상을 따라 부식된 상태의 석물(10) 표면에 샌드브라스트기(50)로부터 샌딩노즐(51)을 통해 소정의 압력으로 강하게 분출되는 샌드에 의해 부식된 위치와 부식되지 않은 위치의 경계에서 석물 표면이 미세히 파내어져 필름(30)의 내용과 같이 음각으로 형상이 표시되는 샌딩단계와;
    석물(10)의 표면에 부착된 감광액을 제거하는 감광액제거단계가 순차적으로 이루어 지는 것을 특징으로 하는 기념용 석물(石物)의 가공방법.
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