KR20010035391A - 석판상에 사진 또는 그림을 가공하는 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 오석(烏石)의 석판(石板)상에 사진이나 그림 등을 표현하기 위한조각 가공방법에 관한 것으로 좀더 구체적으로는 망점(網點)으로 촬영한 사진이나 그림 등의 필름을 이용하여 필름의 망점에 해당되는 도트(DOT)형태의 코팅층을 석판상에 남긴 뒤 이에 샌드 블라스팅을 통해 코팅층 이외의 부분이 깍여지도록 하여 코팅부위와 가공부위간의 명암의 차이를 통해 사진이나 그림이 표현될 수 있도록 한 것으로, 가공작업이 신속하고 정밀하여 생산성의 향상과 입체감 있는 표현이 가능하고 장기간 보존에도 표현상태가 안정적으로 유지될 수 있으며 사용효과를 장구히 보유할 수 있도록 하여 제품의 신뢰성을 증대시킬 수 있도록 한 것이다.

Description

석판상에 사진 또는 그림을 가공하는 방법 {PROCESSING METHOD OF PHOTOGRAPH OR PICTURE ON STONE PLATE}
본 발명은 오석(烏石)의 석판(石板)상에 사진이나 그림 등을 표현하기 위한 가공방법에 관한 것으로 좀더 구체적으로는 망점(網點)으로 촬영한 사진이나 그림 등의 필름을 이용하여 필림의 망점에 해당되는 도트(DOT)형태의 코팅층을 석판상에 남긴 뒤 이에 샌드 블라스팅을 통해 코팅층 이외의 부분이 깍여지도록 하여 코팅부위와 가공부위간의 명암의 차이를 통해 사진이나 그림이 표현될 수 있도록 한 것으로, 가공작업이 신속하고 정밀하여 생산성의 향상과 입체감 있는 표현이 가능하고 장기간 보존에도 표현상태가 안정적으로 유지될 수 있으며 사용효과를 장구히 보유할 수 있도록 하여 제품의 신뢰성을 증대시킬 수 있도록 한 것이다.
통상적으로 석판 상에 일정한 그림이나 글씨 등을 표현시키기 위해서는 대부분 미세한 끌이나 정을 이용하여 석판의 표면을 쪼거나 긁어 가공한 부분과 미가공부분과의 거칠기, 명암차이들을 이용하여 그림이나 글씨 등을 표현하는 것이었으나 이와 같은 완전 수공방식은 입체감이 요구되지 않는 일반적인 그림이나 글씨 등에 한정되고 명암의 미세한 차이를 통해 본래의 형태를 재현시킬 수 있는 사진이나 정밀한 그림의 경우에는 적용할 수 없었던 문제가 있다.
또한 제품의 동일성이 이루어지기 어렵고 작업에 많은 시간과 인력이 소용되어 생산성이 크게 저하되고 제조원가가 크게 높아져 제품의 경쟁력과 실용성이 저하되는 문제가 있다.
한편 이러한 수공의 가공방식 외에도 레이저 광선을 이용하여 석판의 표피를 연소시켜 연소부위의 변색을 통해 그림이나 사진을 표현하고 있으나,
이는 석판의 표면을 물리적으로 파손시켜 가공하는 것이 아니라 단순히 변색시키는 시각적인 표현방식이어서 가공상태를 촉감으로 인지할 수 없고 표면이 매끈하여 표현시킨 사진이나 그림의 입체감이 저하되며 장기간 보존 시 미가공 부분의 변색을 통해 가공부분과의 구분이 어려워 사진이나 그림의 모양이 불분명해지는 문제가 있다.
따라서, 본 발명은 전술한 바와 같은 기존의 방식에서 기인되는 제반 문제점을 해결 보완하기 위한 것으로,
본 발명의 목적은 가공작업이 신속하고 정밀하여 생산성의 향상과 입체감 있는 표현이 가능하고 장기간 보존에도 표현상태가 안정적으로 유지될 수 있어 사용효과를 장구히 보유할 수 있고 제품의 신뢰성을 증대시킬 수 있는 석판상에 사진이나 그림 등을 표현하기 위한 가공방법을 제공함에 있는 것이며,
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 망점(網點)으로 촬영한 사진이나 그림 등의 필름을 이용하여 필림의 망점에 해당되는 도트(DOT)형태의 코팅층을 석판상에 남긴 뒤 이에 샌드 블라스팅을 통해 코팅층 이외의 부분이 깍여지도록 하여 코팅부위와 가공부위간의 명암의 차이를 통해 사진이나 그림이 표현될 수 있도록 한 것으로, 이하 첨부 도면에 의거 본 발명의 가공방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명에 적용되는 가공방법을 예시한 가공 순서도.
도 2는 본 발명에 적용되는 망점(網點)필림의 일 구성 예시도.
도 3은 본 발명을 이용하여 석판에 사진을 표현시킨 상태도.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명※
1:망점 필름 2:석판
2A:가공부 2B:미가공부
3:가공 차단층 3A:경화된 부위
3B:노출면 4:자외선 발생기
도 1은 본 발명에 적용되는 가공방법을 예시한 가공 순서도로서,
표현시킬 인물이나 기타의 그림 등을 촬영하여 표현시킬 대상의 명암이나 윤곽 등을 자외선을 차단할 수 있는 무수한 흑색 도트와 자외선이 통과될 수 있는 도트사이의 투명한 여백부를 통해 표현시키는 망점 필름(1)(도 2참조)으로 구성하는 제 1단계와;
표면을 매끈하게 연마 처리한 오석(烏石)의 석판(2) 표면에 자외선의 조사 시 경화될 수 있는 크림상의 물질로 된 가공 차단층(3)을 코팅하는 제 2단계와;
상기 가공 차단층(3)의 표면에 상기의 망점필림(1)을 올려놓고 자외선 발생기(4)를 이용하여 망점필림(1)상에 자외선을 조사(照査)하는 제 3단계와;
상기의 3단계를 거침으로써 흑색 도트부에 의해 자외선이 차단되어 미경화된 부위와 투명한 여백부에 의해 자외선이 조사되어 경화된 부위를 공유하는 가공 차단층(3)을 세척하여 경화된 부위(3A)만 석판(2)위에 붙어 있도록 하고 상기 미 경화된 부위를 제거하여 제거된 자리에는 노출면(3B)이 마련되도록 하는 제 4단계와;
상기 제 4단계를 거쳐 경화된 부위(3A)와, 미 경화된 부위의 제거를 통해 마련되는 노출면(3B)상에 샌드 블라스팅 공정을 부여하여 경화된 부위(3A)가 있는 자리는 보호되고 노출면(3B)만 깍여지도록 하는 제 5단계와;
상기 샌드 블라스팅 공정을 거친 다음 석판(2)상에 남아있는 경화된 부위(3A)를 제거하여 석판(2)상에 형성되는 가공부(2A)와 미가공부(2B)를 통해 망점필림의 대상이 표현되는 완성품을 얻는 제 6단계로 이루어진 것이다.
이와 같은 공정으로 이루어지는 본 발명에서 석판(2)은 기본적으로 순도가 우수한 오석(烏石)을 사용하나 특정한 종류의 석재로 한정되는 것은 아니며 다만 전체적으로 균일한 색상을 띠고 미가공부위와 가공부위와의 명암이나 색상의 차이가 확연한 정도의 소재면 족하다.
상기의 망점 필림(1)은 필림제판기를 통해 제작되며 흑색도트의 직경은 사진이나 그림의 종류 또는 사용자의 필요성에 의해 변경될 수 있는 것으로 각 도트의 직경이 클수록 사진이나 그림의 표현상태가 정밀하지 못하고 성글게 되며, 직경이 작을수록 보다 세밀하게 표현할 수 있다.
상기에서 가공 차단층(3)을 구성하는 물질은 특정한 것으로 한정되지 않으나 자외선이 조사된 부위는 물에 제거되지 않으며 샌드 블라스팅을 통해서도 파손되지 않을 견고성으로 경화되고, 자외선이 조사되지 않은 부위는 미 경화상태로 물에 의해 제거될 수 있는 요건을 충족할 수 있는 소재면 족하다.
경화된 부위(3A)만 남아있는 석판(2)상에 샌드 블라스팅 공정을 부여하면 경화된 부위(3A)가 있던 자리는 금강사가 침투하지 못해 원래대로 흑색을 띄게되고 미경화부위가 있었던 석판(2)의 노출면(3B)은 금강사에 의해 깍아지면서 가공되어 밝은 회색을 띄게되는 것으로 이 미가공된 흑색부분과 가공된 회색부분의 명암차이를 통해 대상의 윤곽이나 형태, 입체감 등을 표현하게되는 것이다.
이상과 같은 본 발명에 따르면, 상기와 같은 본 발명의 각 공정은 자동화 기계를 이용하여 연속적으로 처리하는 것이 가능하여 생산성이 향상되며 표면을 깍아내어 표현하는 것이므로 뛰어난 입체감을 보유할 수 있으며, 장기간 보존에도 표현상태가 안정적으로 유지될 수 있고, 망점필림을 이용하여 매우 섬세하고 정밀한 표현이 가능한 것으로 제품의 신뢰성을 증대시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (1)

  1. 표현시킬 인물이나 기타의 그림 등을 촬영하여 표현시킬 대상의 명암이나 윤곽 등을 자외선을 차단할 수 있는 무수한 흑색 도트와 자외선이 통과될 수 있는 도트사이의 투명한 여백부를 통해 표현시키는 망점 필름으로 구성하는 제 1단계와;
    표면을 매끈하게 연마 처리한 오석(烏石)의 석판 표면에 자외선의 조사 시 경화될 수 있는 크림상의 물질로 된 가공 차단층을 코팅하는 제 2단계와;
    상기 가공 차단층의 표면에 상기의 망점필림을 올려놓고 자외선 발생기를 이용하여 망점필림상에 자외선을 조사(照査)하는 제 3단계와;
    상기의 3단계를 거침으로써 흑색 도트부에 의해 자외선이 차단되어 미경화된 부위와 투명한 여백부에 의해 자외선이 조사되어 경화된 부위를 공유하는 가공 차단층을 세척하여 경화된 부위만 석판위에 붙어 있도록 하고 상기 미 경화된 부위를 제거하여 제거된 자리에 노출면을 마련하는 제 4단계와;
    상기 제 4단계를 거쳐 경화된 부위와, 미 경화된 부위의 제거를 통해 마련되는 노출면상에 샌드 블라스팅 공정을 부여하여 경화된 부위가 있는 자리는 보호되고 노출면만 깍여지도록 하는 제 5단계와;
    상기 샌드 블라스팅 공정을 거친 다음 석판상에 남아있는 경화된 부위를 제거하여 석판상에 형성되는 가공부와 미가공부를 통해 망점필림의 대상이 표현되는 완성품을 얻는 제 6단계로 이루어짐을 특징으로 하는 석판(石板)상에 사진 또는 그림을 가공하는 방법.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020096120A (ko) * 2001-06-18 2002-12-31 전귀동 비석용 사진조각판 및 그 제조방법
KR100712133B1 (ko) * 2006-04-21 2007-04-27 정응모 채색된 색상 보존성이 우수한 석판 제조방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4652513A (en) * 1985-09-18 1987-03-24 Vacuum Applied Coatings Corp. Method for creating a design in relief in a hard smooth substrate and apparatus for use in the method
JPH01134361A (ja) * 1987-11-20 1989-05-26 Fujikura Kasei Co Ltd フォトマスク
KR0184948B1 (ko) * 1995-04-19 1999-04-01 양방운 망인초상석의 제조방법
KR100334738B1 (ko) * 1999-03-31 2002-05-04 추두호 기념용 석물(石物)의 가공방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4652513A (en) * 1985-09-18 1987-03-24 Vacuum Applied Coatings Corp. Method for creating a design in relief in a hard smooth substrate and apparatus for use in the method
JPH01134361A (ja) * 1987-11-20 1989-05-26 Fujikura Kasei Co Ltd フォトマスク
KR0184948B1 (ko) * 1995-04-19 1999-04-01 양방운 망인초상석의 제조방법
KR100334738B1 (ko) * 1999-03-31 2002-05-04 추두호 기념용 석물(石物)의 가공방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020096120A (ko) * 2001-06-18 2002-12-31 전귀동 비석용 사진조각판 및 그 제조방법
KR100712133B1 (ko) * 2006-04-21 2007-04-27 정응모 채색된 색상 보존성이 우수한 석판 제조방법

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