JPH04147434A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。

従来の技術 近年磁気記録の高密度化の進展は目覚しく、高Ｈｃの薄
膜媒体で１ギガビツト／（インチ）２の面記録密度の可
能性も発表される［Ｄｉｇｅｓｔ　ｏｆＩｎｔｅｒｍａ
ｇ　Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ、ＦＡ−０１（１９９０）　
］等、垂直磁気記録を含めて、更に一層の高密度化が期
待されている［日本応用磁気学会、第６３回研究会資料
６３−７　（１９９０）］。

現状で最も高密度記録性能が実用レベルで実現されてい
るのは、粒状性の表面を有したポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に、Ｃｏ−Ｎｉ−０系の斜め蒸着膜を配
し、潤滑剤を配したもので、２０μｍトラック、０．４
９μｍの記録波長で、５０　（ｄＢ）を上まわるＣ／Ｎ
　（Ｉ　ＭＨｚ、　３０ＫＨｚリゾリユ一ジヨンバンド
幅条件で）を得ている。

更にＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜に代る垂直磁化膜としてＣｏ
−０膜も提案され、より短波長、狭トラツク化が目指さ
れている。

これらの磁気記録媒体は、直径５０ｃｍから１ｍ程度の
円筒状キャンに沿わせて、高分子フィルムを移動させな
がら、最小入射角を決めるマスクを配し、９０度から最
小入射角の範囲で、酸素の存在下でＣｏ、Ｃｏ−Ｎｉ　
（Ｎｉは１０〜２５ｗｔ％）を電子ビーム蒸着し、磁気
記録層を形成する過程でその特性の大半が決まっている
。

発明が解決しようとする課題 しかしながら、より高密度記録化を図る上で、高保磁力
化、磁化容易軸の垂直化をＣｏ−０゜Ｃｏ−Ｎｉ−０系
で達成すべく酸素導入条件（導入量、導入方向、不活性
気体との混合、イオン化等）を綿密に検討してもエラー
レイトが場所によって不均一であったり、十分な再現性
がみられないといった課題があり、改善が望まれていた
。

本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、高密度記
録特性の均一性に優れた磁気記録媒体を製造する方法を
提供するものである。

課題を解決するための手段 上記した課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、強磁性金属の電子ビーム蒸着時に、導入す
る酸素ガスを冷却体に露呈した後に吹き付けるようにし
たものである。

作用 本発明の磁気記録媒体の製造方法は上記した構成により
、酸素ガスに含まれる水分が直接薄膜に悪影響を与えな
くなるのと、酸素の運動エネルギーが小さ（なり、強磁
性金属薄膜を構成する柱状結晶微粒子の微細化が進み、
より均一な磁気特性をもった磁気記録媒体が得られるこ
とになる。

実施例 以下図面を参照しながら本発明の実施例について説明す
る。第１図は本発明を実施するのに用いた蒸着装置の要
部構成図である。図で、１はポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−２，６ナフタレート、ポリフェニレ
ンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン等の高分
子フィルムで、２は送り出し軸、３は巻取り軸、４は回
転キャン、５は蒸発源容器、６は蒸着材料、７は蒸気流
、８はマスク、９は酸素ノズル、１ｏは導入酸素、１１
は冷却体１２に露呈され水分を除去された酸素である。

１２は−１００〜−１４０℃に冷却されたパネルを用い
ればよい。

蒸発は電子ビーム加熱によって行い、斜め蒸着に限らず
、垂直磁化膜の形成にも本発明は適用することができる
ものである。

導入ガスについては酸素１００％に限らずＡｒ。

Ｘｅ、Ｈｅ、Ｈ２等の他のガスとの混合ガスでもよい。

以下更に具体的に本発明の実施例について比較例との対
比で説明する。

厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に直径１５０ＡのＴｉＯ２微粒子を２２ケ／μ２配した
フィルムを直径１ｍの回転キャン（キャン温度２５℃）
に沿わせて、９０度から蒸着をはじめ最小入射角を３０
度と６０度の２種類選んで、膜厚が０．２μｍとなるよ
うに２回にわけてＣｏＮｉ　（Ｎｉ２０ｗｔ％）を電子
ビーム蒸着した。その際、実施例は、−１４０℃に冷却
したパネルに導入酸素を反射させるようにして用い、比
較例は、ノズルから直接、蒸着ゾーンを見込むように酸
素を導入する方法を採った。

夫々パーフルオロポリエーテルラウリルを゛４０Ａ塗布
し、０．４μｍのバックコート層を配し、８ミリ幅の磁
気テープに加工し、幅４０　ａｍ　、長さ２０００ｍの
原反から任意の８ケ所をサンプリングして、改造した８
ミリビデオにより、ビット長０．２５μｍ、）ラックピ
ッチ８μｍのディジタル記録を行い、ロービットエラー
レイトを比較した。

磁気特性と得られた特性を表に示した。

ピットエラーレイトは、８ケ所の平均値と最大値で示し
た。

（以　下　余　白） 表より明らかなように本実施例によれば、微視的均一性
が良好であることが、平均値と最大値に殆ど差がなく、
エラーレイトも良好であることより理解される。

この効果は、４０度から１０度の入射角範囲でＣｏ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ　（Ｎｉ２０ｗｔ％）を酸素とＡｒを導入して
Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｎｉ　−０垂直磁化膜を形成したとき
にも同様に確認できた。

発明の効果 以上のように本発明によれば、高密度記録に於ける特性
の均一性にすぐれた磁気記録媒体を製造できるといった
すぐれた効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における蒸着装置の要部構成
図である。 １・・・・・・高分子フィルム、６・・・・・・蒸着材
料、９・・・・・・酸素導入ノズル、１２・・・・・・
冷却体。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 電子ビーム蒸着時に酸素ガスを導入して強磁性金属溝膜
   を形成するのに、酸素ガスを冷却体に露呈した後に吹き
   付けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。