JPH04141843A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH04141843A JPH04141843A JP26488390A JP26488390A JPH04141843A JP H04141843 A JPH04141843 A JP H04141843A JP 26488390 A JP26488390 A JP 26488390A JP 26488390 A JP26488390 A JP 26488390A JP H04141843 A JPH04141843 A JP H04141843A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光磁気記録媒体、特には透明基体の入射側にH
を含むCかうなる保護膜を設けることによって化学的安
定性、熱安定性、光透過性がよく、耐湿性で硬く機械的
強度も大きくした光磁気記録媒体に関するものである。
を含むCかうなる保護膜を設けることによって化学的安
定性、熱安定性、光透過性がよく、耐湿性で硬く機械的
強度も大きくした光磁気記録媒体に関するものである。
(従来の技術)
近年、情報化社会の進展に伴なって書換可能な光磁気メ
モリが注目を集めており、これについてはその透明基板
としてポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂など
を用いたものが汎用されているが、これらの基板は硬度
、耐摩耗性、耐薬品性、耐水性がわるいし、傷つき易く
、再生信号のC/Nも十分でないという欠点がある。
モリが注目を集めており、これについてはその透明基板
としてポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂など
を用いたものが汎用されているが、これらの基板は硬度
、耐摩耗性、耐薬品性、耐水性がわるいし、傷つき易く
、再生信号のC/Nも十分でないという欠点がある。
(発明が解決しようとする課題)
そのため、この種の光磁気記録媒体については従来公知
の透明基板上に紫外線硬化性樹脂を塗布(スピンコード
)シて、これを透明基板の保護膜とすることが行なわれ
ているが、この保護膜についてはざらに耐湿性、耐酸性
がよく、機械的強度、熱安定性がすぐれており、さらに
は光透過性もすぐれているものが求められている。
の透明基板上に紫外線硬化性樹脂を塗布(スピンコード
)シて、これを透明基板の保護膜とすることが行なわれ
ているが、この保護膜についてはざらに耐湿性、耐酸性
がよく、機械的強度、熱安定性がすぐれており、さらに
は光透過性もすぐれているものが求められている。
(課題を解決するための手段)
本発明はこのような課題を解決することのできる光磁気
記録媒体に関するもので、これは光の入射側に置かれた
透明基板上に、誘電体膜、磁性膜、反射膜を有する光磁
気記録媒体において、透明基板の入射側にHを含むCか
らなる保護膜を設けてなることを特徴とするものである
。
記録媒体に関するもので、これは光の入射側に置かれた
透明基板上に、誘電体膜、磁性膜、反射膜を有する光磁
気記録媒体において、透明基板の入射側にHを含むCか
らなる保護膜を設けてなることを特徴とするものである
。
すなわち、本発明者らは化学的安定性、光透過性がすぐ
れていて、耐湿性が高く、機械的強度が大きい光磁気記
録媒体を開発すべく種々検討した結果、透明基材の表面
に屈折率が基板に近いかまたは同等、あるいは膜厚、屈
折率を調節し任意の特定波長での光の振幅反射率を0と
なるように設計した、Hを含むCからなる保護膜を設け
ると、1)このHを含むCからなる保護膜は従来公知の
紫外線硬化性樹脂からなる保護膜とくらべて剥離しにく
く、化学的安定性、熱安定性、耐湿性、耐薬品性、機械
的強度、硬度がすぐれており、複屈折もないので透明基
板保護効果が大きい、2)Hを含むCからなる保護膜は
従来公知の紫外線硬化性樹脂からなる保護膜にくらべて
光透過性もすぐれており、特に可視〜赤外領域では極め
て高い透過性を有する、ということを見出し、このHを
含むCからなる保護膜の形成方法などについての研究を
進めて本発明を完成させた。
れていて、耐湿性が高く、機械的強度が大きい光磁気記
録媒体を開発すべく種々検討した結果、透明基材の表面
に屈折率が基板に近いかまたは同等、あるいは膜厚、屈
折率を調節し任意の特定波長での光の振幅反射率を0と
なるように設計した、Hを含むCからなる保護膜を設け
ると、1)このHを含むCからなる保護膜は従来公知の
紫外線硬化性樹脂からなる保護膜とくらべて剥離しにく
く、化学的安定性、熱安定性、耐湿性、耐薬品性、機械
的強度、硬度がすぐれており、複屈折もないので透明基
板保護効果が大きい、2)Hを含むCからなる保護膜は
従来公知の紫外線硬化性樹脂からなる保護膜にくらべて
光透過性もすぐれており、特に可視〜赤外領域では極め
て高い透過性を有する、ということを見出し、このHを
含むCからなる保護膜の形成方法などについての研究を
進めて本発明を完成させた。
以下にこれをさらに詳述する。
(作用)
本発明は透明基板の入射側に保護膜を設けてなる光磁気
記録媒体に関するものである。
記録媒体に関するものである。
本発明の光磁気記録媒体は透明基板の入射側に透明基板
表面の保護膜を、その屈折率が基板に近いかまたは同等
である、あるいは膜厚、屈折率を調節し任意の特定波長
での光の振幅反射率を0となるようい設計した、Hを含
むCからなる保護膜を設けたものとされるが、この光磁
気記録媒体自体は公知のものでよく、したがりてこれは
第1図に示したようにトラッキング用ガイドグループが
形成されたポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂
などからなる透明基板1の上に、Si、SiNなどをタ
ーゲットとするスパッタリング法または化学気相蒸着法
あるいは真空蒸着法で厚さ50〜2000人のSiC,
SiN、SiO,5iC−H,5JN−H,5jCN−
Hなどからなる誘電体膜2を設け、ついでこの誘電体膜
2の上にTd、Dy、Gd、Ndなどの希土類元素とF
e、(:o、Niなどの1容金属元素からなるTbFe
、TbFeCo、GdTbFeGdDyFeCoなどの
ような非晶質金属からなる磁性膜3をスパッタリング法
や化学気相蒸着法で厚さ200〜1,000人に形成さ
せ、この上に上記と同じ誘電体@4を設け、さらにこの
上に^l、 Au、Ag。
表面の保護膜を、その屈折率が基板に近いかまたは同等
である、あるいは膜厚、屈折率を調節し任意の特定波長
での光の振幅反射率を0となるようい設計した、Hを含
むCからなる保護膜を設けたものとされるが、この光磁
気記録媒体自体は公知のものでよく、したがりてこれは
第1図に示したようにトラッキング用ガイドグループが
形成されたポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂
などからなる透明基板1の上に、Si、SiNなどをタ
ーゲットとするスパッタリング法または化学気相蒸着法
あるいは真空蒸着法で厚さ50〜2000人のSiC,
SiN、SiO,5iC−H,5JN−H,5jCN−
Hなどからなる誘電体膜2を設け、ついでこの誘電体膜
2の上にTd、Dy、Gd、Ndなどの希土類元素とF
e、(:o、Niなどの1容金属元素からなるTbFe
、TbFeCo、GdTbFeGdDyFeCoなどの
ような非晶質金属からなる磁性膜3をスパッタリング法
や化学気相蒸着法で厚さ200〜1,000人に形成さ
せ、この上に上記と同じ誘電体@4を設け、さらにこの
上に^l、 Au、Ag。
Cuなどからなる反射lNl5を厚さ200〜i、oo
o人で設けたものとすればよいが、これは第2図に示し
たように透明基板8の上に上記と同じ誘電体膜9、磁性
膜10、誘電体膜11を形成させた3層構造体であって
もよいし、さらには透明基板上に磁性膜、上記誘電体膜
、反射膜を順次形成させた3層構造体としてもよいが、
これらにおいてはこの透明基板1.8の光の入射側から
光7.13で入射されると光7は反射膜で反射され、光
13は磁性膜10で反射される。
o人で設けたものとすればよいが、これは第2図に示し
たように透明基板8の上に上記と同じ誘電体膜9、磁性
膜10、誘電体膜11を形成させた3層構造体であって
もよいし、さらには透明基板上に磁性膜、上記誘電体膜
、反射膜を順次形成させた3層構造体としてもよいが、
これらにおいてはこの透明基板1.8の光の入射側から
光7.13で入射されると光7は反射膜で反射され、光
13は磁性膜10で反射される。
本発明の光磁気記録媒体は第1区、第2図に示したよう
に上記のように構成される光磁気記録媒体の透明基板1
.8の光の入射側であるが誘電体膜、磁性膜、反射膜な
どが形成される面と反対の側にHを含むCからなる保護
@6,12を設けたものであるが、このHを含むCから
なる保護膜は公知の紫外線硬化性樹脂からなる保護膜に
くらべて、剥離しにくく、化学的安定性、熱安定性、耐
湿性、耐薬品性がすぐれているし、機械的強度、硬度も
すぐれており、さらには複屈折もなく、光透過性もすぐ
れているので、本発明の光磁気記録媒体は従来品にくら
べて耐湿性が高く、化学的安定性、光透過性がすぐれて
おり、さらには機械的強度の大きいものになるという有
利性が与えられる。
に上記のように構成される光磁気記録媒体の透明基板1
.8の光の入射側であるが誘電体膜、磁性膜、反射膜な
どが形成される面と反対の側にHを含むCからなる保護
@6,12を設けたものであるが、このHを含むCから
なる保護膜は公知の紫外線硬化性樹脂からなる保護膜に
くらべて、剥離しにくく、化学的安定性、熱安定性、耐
湿性、耐薬品性がすぐれているし、機械的強度、硬度も
すぐれており、さらには複屈折もなく、光透過性もすぐ
れているので、本発明の光磁気記録媒体は従来品にくら
べて耐湿性が高く、化学的安定性、光透過性がすぐれて
おり、さらには機械的強度の大きいものになるという有
利性が与えられる。
なお、このHを含むCからなる保護膜の形成はCあるい
はSiをターゲットとするCH4−Ar、CI4−Ar
またはCI2−AmあるいはCI(4−82,02H4
−)+2. C2H2−82の混合ガス雰囲気中でスパ
ッタリングする方法、またはCH4,CzH< −C2
H2ガス、あるいはCHt−ArCI4−Ar、 C2
H2−ArさらにはCH4−H2,C2H4−)+2.
C2H2H2の混合ガス中でプラズマ、光あるいは熱
で分解する化学気相蒸着法または真空蒸着法で行なえば
よいが、このものは屈折率(n)が1.50〜2.00
の範囲のものとすることがよく、この厚さは2,000
人〜20μmのものとすればよい。
はSiをターゲットとするCH4−Ar、CI4−Ar
またはCI2−AmあるいはCI(4−82,02H4
−)+2. C2H2−82の混合ガス雰囲気中でスパ
ッタリングする方法、またはCH4,CzH< −C2
H2ガス、あるいはCHt−ArCI4−Ar、 C2
H2−ArさらにはCH4−H2,C2H4−)+2.
C2H2H2の混合ガス中でプラズマ、光あるいは熱
で分解する化学気相蒸着法または真空蒸着法で行なえば
よいが、このものは屈折率(n)が1.50〜2.00
の範囲のものとすることがよく、この厚さは2,000
人〜20μmのものとすればよい。
(実施例)
つぎに本発明の実施例をあげる。
実施例、比較例
直径が130mm、厚さが1.2mmであるポリカーボ
ネート樹脂製の透明基板上に、 SiCをターゲットと
しアルゴン−水素ガス混合ガス雰囲気中でのスパッタリ
ング法で厚さ1400人のHを含むSiC膜(SiC−
H)からなる話電体膜を形成し、この上にアルゴンガス
圧7 トール、高周波電力200wという条件のスパッ
タリング法で厚さ200人のTbFe磁性膜と厚さ30
0人の上記と同じ5iC−Hからなる話電体膜を形成し
たのち、さらにこの上に上記と同じ条件のスパッタリン
グ法で厚さ500人のアルミニウム反射膜を順次形成し
、このものの最適記録パワーを測定したところ、これは
5.5mWであった。
ネート樹脂製の透明基板上に、 SiCをターゲットと
しアルゴン−水素ガス混合ガス雰囲気中でのスパッタリ
ング法で厚さ1400人のHを含むSiC膜(SiC−
H)からなる話電体膜を形成し、この上にアルゴンガス
圧7 トール、高周波電力200wという条件のスパッ
タリング法で厚さ200人のTbFe磁性膜と厚さ30
0人の上記と同じ5iC−Hからなる話電体膜を形成し
たのち、さらにこの上に上記と同じ条件のスパッタリン
グ法で厚さ500人のアルミニウム反射膜を順次形成し
、このものの最適記録パワーを測定したところ、これは
5.5mWであった。
つぎにこのようにして作成した光磁気記録媒体をA、B
2fi準備し、このAについてはその透明基板の光の入
射側に紫外線硬化性樹脂を塗布(スピンコード)して保
護膜を作ると共に、このBについてはその透明基板の光
の入射側にCをターゲットとしCH,−Ar混合ガス雰
囲気下に、5mトール、100Wの条件でのプラズマC
VD法によってHを含むCからなる保護膜を厚さ2μm
に作成し、このA、Bの85℃、85%RHにおける耐
久性をしらべたところ、第3図に示したとおりの結果が
得られ、本発明によるHを含むCからなる保護膜を設け
たBは紫外線硬化性樹脂からなる保護膜を設けたAより
も耐久性のすぐれたものであることが確認された。
2fi準備し、このAについてはその透明基板の光の入
射側に紫外線硬化性樹脂を塗布(スピンコード)して保
護膜を作ると共に、このBについてはその透明基板の光
の入射側にCをターゲットとしCH,−Ar混合ガス雰
囲気下に、5mトール、100Wの条件でのプラズマC
VD法によってHを含むCからなる保護膜を厚さ2μm
に作成し、このA、Bの85℃、85%RHにおける耐
久性をしらべたところ、第3図に示したとおりの結果が
得られ、本発明によるHを含むCからなる保護膜を設け
たBは紫外線硬化性樹脂からなる保護膜を設けたAより
も耐久性のすぐれたものであることが確認された。
(発明の効果)
本発明は透明基板の光の入射側に屈折率が基板に近いか
または同等である、あるいは膜厚、屈折率を調節し任意
の特定波長での光の振幅反射基を0となるように設計し
た、Hを含むCからなる保護膜を設けてなる光磁気記録
媒体に関するものであるが、これによればこのHを含む
Cからなる保護膜が公知の紫外線硬化性樹脂から作られ
る保護膜にくらべて剥離しにくく、化学的安定性、熱安
定性、耐湿性、耐薬品性がすぐれており、機械的強度、
硬度がすぐれていて光透過性もよいことがら、この保護
膜を設けた光磁気記録媒体は従来品にくらべて耐湿性が
高く、化学的安定性、光透過性がすぐれており、さらに
は機械的強度の大きいものになるという有利性が与えら
れる。
または同等である、あるいは膜厚、屈折率を調節し任意
の特定波長での光の振幅反射基を0となるように設計し
た、Hを含むCからなる保護膜を設けてなる光磁気記録
媒体に関するものであるが、これによればこのHを含む
Cからなる保護膜が公知の紫外線硬化性樹脂から作られ
る保護膜にくらべて剥離しにくく、化学的安定性、熱安
定性、耐湿性、耐薬品性がすぐれており、機械的強度、
硬度がすぐれていて光透過性もよいことがら、この保護
膜を設けた光磁気記録媒体は従来品にくらべて耐湿性が
高く、化学的安定性、光透過性がすぐれており、さらに
は機械的強度の大きいものになるという有利性が与えら
れる。
第1図、第2図は本発明の光磁気記録媒体の構成図、第
3図は実施例、比較例で作られた光磁気記録媒体(B、
A)の85℃、85%RHにおける耐久性試験結果のグ
ラフを示したものである。
3図は実施例、比較例で作られた光磁気記録媒体(B、
A)の85℃、85%RHにおける耐久性試験結果のグ
ラフを示したものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光の入射側に置かれた透明基板上に、誘電体膜、磁
性膜、反射膜を有する光磁気記録媒体において、透明基
板の入射側にHを含むCからなる保護膜を設けてなるこ
とを特徴とする光磁気記録媒体。 2、Hを含むCからなる保護膜がモル比として2〜50
%のHを含む非晶質材料からなるものとされる請求項1
に記載した光磁気記録媒体。 3、Hを含むCからなる保護膜が屈折率(n)=1.5
0〜2.00のものとされる請求項1に記載した光磁気
記録媒体。 4、Hを含むCからなる保護膜がスパッタリング法、化
学的気相成長法または真空蒸着法によって形成されてな
るものである請求項1に記載した光磁気記録媒体。 5、Hを含むCからなる保護膜がCH_4,C_2H_
4またはC_2H_2ガスのプラズマ、光あるいは熱に
よる分解によって形成されてなるものである請求項1ま
たは4に記載した光磁気記録媒体。 6、Hを含むCからなる保護膜がCH_4−Ar,C_
2H_4−ArまたはC_2H_2_−Arの混合ガス
あるいはCH_4−H_2,C_2H_4−H_2また
はC_2H_2−H_2の混合ガスのプラズマ、光ある
いは熱による分解によって形成されてなるものである請
求項1,4または5に記載した光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26488390A JPH04141843A (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26488390A JPH04141843A (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04141843A true JPH04141843A (ja) | 1992-05-15 |
Family
ID=17409553
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26488390A Pending JPH04141843A (ja) | 1990-10-02 | 1990-10-02 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04141843A (ja) |
-
1990
- 1990-10-02 JP JP26488390A patent/JPH04141843A/ja active Pending
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