JP2679218B2 - 光磁気記録媒体及びその製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光学的に記録再生を行うことが可能な光磁気
記録媒体に係り、特に光磁気記録媒体の保護膜及びその
製造法に関するものである。

（従来の技術） 従来、光学的に記録再生を行うことが可能な光磁気記
録媒体の磁性膜として希土類−遷移元素非晶質合金膜が
広く用いられているが、この磁性膜は腐食しやすいた
め、通常、磁性膜上に保護膜が設けられている。この保
護膜としては窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウム、
硫化亜鉛などの無機物層が用いられている。しかしなが
ら、この無機物層は磁性膜の腐食からの保護を目的とし
ているために、その膜厚は通常1000Å程度と薄く、基板
上に形成されたピット等の微細パターンを物理的外傷か
ら保護するには不十分であり、また製法上、磁性膜の腐
食の原因となる無機物層のピンホール発生を避けること
が困難であった。

そこで上記問題を解消するために、この無機物層上に
更に有機物からなる層を積層し、この積層物を保護膜と
して用いた光磁気記録媒体が造られている。しかしなが
ら、この積層物を保護膜とする光磁気記録媒体にあって
は、無機物層と有機物層は分子間結合しているためにそ
の密着力は弱く、また両層は熱膨張係数などの物理的性
質が異なるため、特に高温高湿条件下で界面剥離が生じ
やすくなり、剥離した界面に水分が析出することにより
磁性膜が腐食してしまうという問題がある。

（発明が解決しようとする課題） 本発明は上記従来技術の問題点に鑑みてなされたもの
であり、その目的は光磁気記録磁性膜上に、無機物層、
有機物層の積層物からなる保護膜を有する光磁気記録媒
体において、無機物層と有機物層との密着力が大きい光
磁気記録媒体を提供することにある。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは上記課題を解決するために、特に保護膜
の無機物層と有機物層との界面に注目して鋭意検討を行
った結果、本発明を完成するに至った。すなわち本発明
は、光磁気記録磁性膜上に、磁性膜側から順次無機物
層、有機物層を積層してなる保護膜を有する光磁気記録
媒体において、保護膜の無機物層と有機物層との界面
が、アルキルシランを含有する上記無機物層で構成され
ることを特徴とする光磁気記録媒体及びその製造法であ
る。以下、図面に基づき本発明を詳細に説明する。第１
図は本発明の光磁気記録媒体の一実施態様を示す図であ
る。

本発明の光磁気記録媒体は、光磁気記録磁性膜３上
に、磁性膜側から順次無機物層４、有機物層６の積層物
からなる保護膜を有する。上記の磁性膜３及び保護膜は
通常、ガラス、光透過性のプラスチックなどからなる基
板１上に形成される。また、カー効果増大のために基板
１と磁性膜３の間に窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニ
ウム、硫化亜鉛などからなる無機被覆膜２を設けてもよ
い。

本発明の光磁気記録媒体の保護膜を構成する無機物層
４は特に限定されないが、例えば、窒化珪素、酸化珪
素、酸化アルミニウム、硫化亜鉛などからなる透明層が
用いられ、また有機物層６としては例えばポリエステ
ル、ポリエーテル、ポリウレタン系などの紫外線硬化性
樹脂を挙げることができる。

本発明は、上記保護膜の無機物層４と有機物層６との
界面が、アルキルシランを含有する無機物層５から構成
されることに特徴があるものであり、このアルキルシラ
ンを含有する無機物層５は有機物との親和力が強いため
に有機物層６と分子間結合し、また無機物層４とは化学
結合する。従って、アルキルシランを含有する無機物層
５は二層の接着剤として作用し、本発明の光磁気記録媒
体は無機物層４と有機物層６の密着性が向上し、剥離が
生じないものとなる。このとき用いられるアルキルシラ
ンは特に限定されないが、無機物からなる層に含有しや
すく、また有機物層に親和力を示す官能基を有するもの
を用いることが好ましく、トリメチルシランなどを例示
することができる。また、この界面を構成するアルキル
シランを含有する無機物層の厚みについても限定はな
く、例えば無機物層４の表層にアルキルシランの濃度勾
配をもたせて構成してもよく、更に無機物層４の表面に
アルキルシランが単分子膜レベルで付着している場合で
あっても上記効果は得られる。

本発明の光磁気記録媒体は、スパッタリング法、蒸着
法など種々の方法により得られるが、このうち保護膜の
無機物層４と、アルキルシランを含有する無機物層５は
スパッタリング法により形成することにより、簡便に保
護膜を形成することができる。本発明の光磁気記録媒体
における保護膜は例えば、はじめに無機物層をスパッタ
リング法により形成し、その最終段においてスパッタリ
ング雰囲気中にアルキルシランを導入せしめスパッタリ
ングすることによりアルキルシランを含有する無機物層
５が形成され、その後、有機物層６を形成することによ
り得られる。

なお、本発明の製造法における最終段とは所望の膜厚
の無機物層４が形成された後の段階をいい、無機物層４
の形成に連続してアルキルシランを含有する無機物層５
を形成することができる。

また、スパッタリング雰囲気中にアルキルシランを導
入する際に、その導入量が多い場合スパッタリングにお
けるプラズマが不安定となるおそれがあるので、適宜こ
の導入量を調整することが好ましい。

（実施例） 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。

実施例、比較例 はじめに、ポリカーボネートからなる基板１上に、タ
ーゲットとして金属シリコン、スパッタリングガスとし
てアルゴンと窒素の混合ガスを用い、高周波スパッタリ
ング法により窒化珪素からなるカー効果増大のための無
機物被覆膜２を厚さ900Å設け、この無機被覆膜２上
に、ターゲットとしてTbFeCo合金、スパッタリングガス
としてアルゴンガスを用い、直流スパッタリング法によ
りTbFeCo合金薄膜を光磁気磁性膜３として膜厚700Å形
成した。

次に光磁気磁性膜３上に、窒化珪素からなる無機物層
４として層を形成し、更にその上にアルキルシランを含
有する無機物層５としてトリメチルシランを含有する窒
化珪素からなる層を形成した。これらの層は、はじめに
ターゲットとして金属シリコンを用い、スパッタリング
ガスとしてアルゴンガス20sccmと窒素5sccm導入し、高
周波スパッタリング法により窒化珪素からなる層を得、
この層の膜厚が800Åとなった段階でスパッタリングガ
ス中にガス状のトリメチルシランを1sccm導入し、全体
の膜厚が1000Åとなるように形成した。

なお、上記無機物層表面を赤外吸収スペクトルにより
測定した結果、2800〜3000cm^-1にＣ−Ｈ伸縮振動及び指
紋領域のＣ−Ｈ変角振動、また2150cm^-1にはSi−Ｎの伸
縮振動による吸収が認められ、トリメチルシランを含有
する窒化珪素の層が形成されたことが確認された。

その後、トリメチルシランを含有する無機物層５上に
ポリエステル系の紫外線硬化樹脂からなる有機物層６
を、膜厚が10μｍになるように均一にスピンコーティン
グし露光硬化して設け、光磁気記録媒体を得た。

得られた光磁気記録媒体における有機物層を1mm×1mm
角に100個切り、接着テープにより有機物を剥離せしめ
る碁盤目剥離試験を行ったところ、保護膜を構成する両
層の密着性は良好であった。また、温度80℃、湿度90％
の条件下で2000時間の加速試験後の密着性、更に−40℃
で２時間、80℃で２時間、10サイクルの熱衝撃試験後の
密着性についても評価した結果、いずれの環境下におい
ても両層の界面剥離あるいは界面での水分の析出は認め
られず、上記と同様の碁盤目剥離試験においても良好な
密着性を維持していた。

また比較例として、アルキルシランを含有する無機物
層５を形成せず、無機物層４上に直接有機物層６を形成
してなる光磁気記録媒体を製造し、実施例と同様に碁盤
目剥離試験を行った。その結果、全ての有機物層角が剥
離した。

（発明の効果） 以上の説明から明らかなとおり、本発明の無機物層、
有機物層の積層物からなる保護膜を有する光磁気記録媒
体は、保護層を構成する両層の密着性が優れたものであ
り、高信頼性の光磁気記録媒体となる。

更に、本発明の製造法によれば、上記の光磁気記録媒
体を簡便に得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光磁気記録媒体の一実施態様を示す図
である。 図中、 １……基板、２……無機被覆膜 ３……光磁気記録磁性膜 ４……無機物層 ５……アルキルシランを含有する無機物層 ６……有機物層

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光磁気記録磁性膜上に、磁性膜側から順次
   無機物層、有機物層を積層してなる保護膜を有する光磁
   気記録媒体において、保護膜の無機物層と有機物層との
   界面が、アルキルシランを含有する上記無機物層で構成
   されることを特徴とする光磁気記録媒体。
2. 【請求項２】保護膜の無機物層をスパッタリング法によ
   り形成し、その最終段においてスパッタリング雰囲気中
   にアルキルシランを導入せしめスパッタリング法により
   アルキルシランを含有する上記無機物層を形成し、その
   上に有機物層を積層して保護膜を構成することを特徴と
   する特許請求の範囲第１項に記載の光磁気記録媒体の製
   造法。