JPH04139632A - 情報記録媒体作成用スタンパーの製造方法 - Google Patents
情報記録媒体作成用スタンパーの製造方法Info
- Publication number
- JPH04139632A JPH04139632A JP26212590A JP26212590A JPH04139632A JP H04139632 A JPH04139632 A JP H04139632A JP 26212590 A JP26212590 A JP 26212590A JP 26212590 A JP26212590 A JP 26212590A JP H04139632 A JPH04139632 A JP H04139632A
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Links
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- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 73
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、情報記録媒体作成用スタンパーの製造方法に
関するものである。
関するものである。
［従来の技術］
従来、レーザーディスク、コンパクトディスク等に代表
される情報記録媒体（光ディスク）のスタンパーを製造
するには、ガラス円板上にフォトレジストを塗布し、記
録すべき情報に応じて変調したレーザー光で露光した後
、現像してフォトレジストの露光部分を除去し、その表
面に導電化膜を設けると共にニッケルメッキを板杖に所
要の厚さに施し、この後ガラス円板より剥離させニッケ
ルメッキ板よりフォトレジストを除去し、かつ内、外径
加工して形を整えスタンパーとする。
される情報記録媒体（光ディスク）のスタンパーを製造
するには、ガラス円板上にフォトレジストを塗布し、記
録すべき情報に応じて変調したレーザー光で露光した後
、現像してフォトレジストの露光部分を除去し、その表
面に導電化膜を設けると共にニッケルメッキを板杖に所
要の厚さに施し、この後ガラス円板より剥離させニッケ
ルメッキ板よりフォトレジストを除去し、かつ内、外径
加工して形を整えスタンパーとする。
［発明が解決しようとする課題］
このようなスタンパーの製造方法において、前記導電化
膜としては通常銀の蒸着膜、又はニッケルのスパッタ膜
若しくは無電解ニッケル膜等が使用され、その厚さはほ
ぼ１０００λ程度となっているが、銀の蒸着膜の場合に
は、銀の耐候性が劣るため表面に欠陥が生じ易く、一方
導電化膜がニッケルの場合には、ニッケルの抵抗率が銀
より高いためニッケルメッキの初期電流密度を低めにし
なければならず、所定厚のマスターを製造するのに長時
間を要することになる。この場合、ニッケルメッキの初
期電流密度を高めると、ニッケルの導電化膜中に大きな
内部応力が発生し、フオレジストからの剥離や破損の原
因になるので不都合である。
膜としては通常銀の蒸着膜、又はニッケルのスパッタ膜
若しくは無電解ニッケル膜等が使用され、その厚さはほ
ぼ１０００λ程度となっているが、銀の蒸着膜の場合に
は、銀の耐候性が劣るため表面に欠陥が生じ易く、一方
導電化膜がニッケルの場合には、ニッケルの抵抗率が銀
より高いためニッケルメッキの初期電流密度を低めにし
なければならず、所定厚のマスターを製造するのに長時
間を要することになる。この場合、ニッケルメッキの初
期電流密度を高めると、ニッケルの導電化膜中に大きな
内部応力が発生し、フオレジストからの剥離や破損の原
因になるので不都合である。
［課題を解決するための手段コ
本発明は、上記のような従来のスタンパ−の製造方法の
問題点を全て解決する目的でなされ、その解決手段とし
ては基板の表面にフォトレジスト層を設け、記録すべき
情報を露光した後現像して露光部分のフォトレジストを
除去し、蒸着により表面に銀膜を設けると共にスパッタ
リングによりニッケル膜を積層して導電化膜を形成し、
この導電化膜の表面にニッケルメッキを所要の厚さに施
し、この後前記フォトレジスト層で層間剥離させ、かつ
前記銀膜を除去してニッケル膜を表面に有するマスター
を形成することを要旨とするものである。
問題点を全て解決する目的でなされ、その解決手段とし
ては基板の表面にフォトレジスト層を設け、記録すべき
情報を露光した後現像して露光部分のフォトレジストを
除去し、蒸着により表面に銀膜を設けると共にスパッタ
リングによりニッケル膜を積層して導電化膜を形成し、
この導電化膜の表面にニッケルメッキを所要の厚さに施
し、この後前記フォトレジスト層で層間剥離させ、かつ
前記銀膜を除去してニッケル膜を表面に有するマスター
を形成することを要旨とするものである。
［作 用コ
このような方法によると、導電化膜が銀とニッケルの二
層膜構造となるから、従来の銀単層の場合よりも表面の
欠陥が生し難くなり、またニッケル単層の場合とは異な
ってニッケルメッキ時に銀膜の存在により初期電流密度
を高めることができるので、短時間で所定厚さのマスタ
ーを製造することができる。更に、スタンパ−として銀
膜を除去すると表面の良好なニッケル導電化膜が現れる
。
層膜構造となるから、従来の銀単層の場合よりも表面の
欠陥が生し難くなり、またニッケル単層の場合とは異な
ってニッケルメッキ時に銀膜の存在により初期電流密度
を高めることができるので、短時間で所定厚さのマスタ
ーを製造することができる。更に、スタンパ−として銀
膜を除去すると表面の良好なニッケル導電化膜が現れる
。
［実施例］
以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。
第１図において、１はガラス板からなる基板であり、こ
の基板１の上にクロム膜等の下引き層（図示せず）を介
してフォトレジスト層２を１２００λ程度の厚さに形成
し、ベーキング後に記録すべき情報に応じて変調したレ
ーザー光で露光する。
の基板１の上にクロム膜等の下引き層（図示せず）を介
してフォトレジスト層２を１２００λ程度の厚さに形成
し、ベーキング後に記録すべき情報に応じて変調したレ
ーザー光で露光する。
この露光後に現像して、露光された部分のフォトレノス
トを除去する。次に、その表面に蒸着により１００〜１
０００人の銀膜３を形成すると共に、この銀膜３の外周
部をリング状にマスキングしてからスパッタリングによ
り５００〜１０００人のニッケル膜４を積層することに
より導電化膜りを形成する。
トを除去する。次に、その表面に蒸着により１００〜１
０００人の銀膜３を形成すると共に、この銀膜３の外周
部をリング状にマスキングしてからスパッタリングによ
り５００〜１０００人のニッケル膜４を積層することに
より導電化膜りを形成する。
前記銀の蒸着とニッケルのスパッタ膜の成膜は、真空を
破らずに同一真空槽内で行う。
破らずに同一真空槽内で行う。
この後前記導電化膜りの表面に、初期電流密度０．１〜
Ｉ Ａ／ｄｍ２でスルファミン酸ニッケル浴中にて電解
メツキし、徐々に電流密度を上げて最終的にはｌθ〜２
０Ａ／ｄＩ１１２の一定電流密度にて所定厚（０゜３ｍ
ｍ程度）になるまでニッケルメッキ５を施す（第２図）
。このニッケルメッキに際して、図示は省略したがメツ
キ治具の電極を、前記マスキングにより保護されて導電
化膜りの外周部に露出している銀膜３′に接触させるこ
とにより初期電流密度を高めに設定することができる。
Ｉ Ａ／ｄｍ２でスルファミン酸ニッケル浴中にて電解
メツキし、徐々に電流密度を上げて最終的にはｌθ〜２
０Ａ／ｄＩ１１２の一定電流密度にて所定厚（０゜３ｍ
ｍ程度）になるまでニッケルメッキ５を施す（第２図）
。このニッケルメッキに際して、図示は省略したがメツ
キ治具の電極を、前記マスキングにより保護されて導電
化膜りの外周部に露出している銀膜３′に接触させるこ
とにより初期電流密度を高めに設定することができる。
ニッケルメッキ５の終了後、第３図に示すように前記フ
ォトレジスト層２で層間剥離させ、銀膜３の表面に残っ
ているフォトレジストを除去し、更に銅除去剤等を用い
て銀膜３を除去して第４図に示すようなニッケル膜４を
表面に有するマスターＭを形成する。このマスターＭを
研磨し、かつ整形のため内、外径加工すれば目的とする
スタンパ−を得ることができる。
ォトレジスト層２で層間剥離させ、銀膜３の表面に残っ
ているフォトレジストを除去し、更に銅除去剤等を用い
て銀膜３を除去して第４図に示すようなニッケル膜４を
表面に有するマスターＭを形成する。このマスターＭを
研磨し、かつ整形のため内、外径加工すれば目的とする
スタンパ−を得ることができる。
尚、前記マスターＭを基にしていわゆるマザー型を作成
し、このマザー型からスタンパ−を得る場合もあるが、
前記のようにマスターをそのままスタンパ−として用い
る場合もある。
し、このマザー型からスタンパ−を得る場合もあるが、
前記のようにマスターをそのままスタンパ−として用い
る場合もある。
［発明の効果コ
以上説明したように、本発明によれば、情報記録媒体作
成用のスタンパ−の製造において、基板の上に形成する
導電化膜を銀とニッケルの二層膜構造にしたので、従来
の銀単層の場合よりも表面の欠陥が生じ難くなり、また
ニッケル単層の場合とは異なりニッケルメッキ時に銀膜
の一部を利用して初期電流密度を高めることにより、短
時間で所定厚さのマスターを製造できるのでその生産能
率を著しく向上させる効果を奏する。更に、現像された
フォレジストの形状が銀膜によって忠実に表され、これ
にニッケルをスパッタリングするのでスタンパーとして
銀膜を除去したときに欠陥の少ないニッケル導電化膜が
表面に現れ、このため品質の優れたスタンパーを提供す
ることができる。
成用のスタンパ−の製造において、基板の上に形成する
導電化膜を銀とニッケルの二層膜構造にしたので、従来
の銀単層の場合よりも表面の欠陥が生じ難くなり、また
ニッケル単層の場合とは異なりニッケルメッキ時に銀膜
の一部を利用して初期電流密度を高めることにより、短
時間で所定厚さのマスターを製造できるのでその生産能
率を著しく向上させる効果を奏する。更に、現像された
フォレジストの形状が銀膜によって忠実に表され、これ
にニッケルをスパッタリングするのでスタンパーとして
銀膜を除去したときに欠陥の少ないニッケル導電化膜が
表面に現れ、このため品質の優れたスタンパーを提供す
ることができる。
第１図から第４図は本発明方法によるスタンパーの製造
工程を示すもので、第１図は導電化膜を形成した状態で
の断面図、第２図はニッケルメッキを施した状態での断
面図、第３図はフォトレジスト層で剥離させた状態での
断面図、第４図は銀膜を除去した状態での断面図、第５
図は第１図の上面図である。 １・・・、Ｍ板 ２−・・フォトレジスト層
３・・・銀膜 ４・・・ニッケル膜５・・・
ニッケルメッキ Ｌ・・・導電化膜 Ｍ・・・マスター
工程を示すもので、第１図は導電化膜を形成した状態で
の断面図、第２図はニッケルメッキを施した状態での断
面図、第３図はフォトレジスト層で剥離させた状態での
断面図、第４図は銀膜を除去した状態での断面図、第５
図は第１図の上面図である。 １・・・、Ｍ板 ２−・・フォトレジスト層
３・・・銀膜 ４・・・ニッケル膜５・・・
ニッケルメッキ Ｌ・・・導電化膜 Ｍ・・・マスター
Claims (3)
- （１）基板の表面にフォトレジスト層を設け、記録すべ
き情報を露光した後現像して露光部分のフォトレジスト
を除去し、その表面に蒸着により銀膜を設けると共にス
パッタリングによりニッケル膜を積層して導電化膜を形
成し、この導電化膜の表面にニッケルメッキを所要の厚
さに施し、この後前記フォトレジスト層で層間剥離させ
、かつ前記銀膜を除去してニッケル膜を表面に有するマ
スターを形成することを特徴とする情報記録媒体作成用
スタンパーの製造方法。 - （２）請求項（１）において、基板外周部分には、ニッ
ケル膜を設けず、銀膜を露出させることを特徴とする情
報記録媒体作成用スタンパーの製造方法。 - （３）請求項（１）において、銀の蒸着とニッケルのス
パッタ膜を、真空を破らずに同一真空層内で行うことを
特徴とする情報記録媒体作成用スタンパーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26212590A JPH04139632A (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 情報記録媒体作成用スタンパーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26212590A JPH04139632A (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 情報記録媒体作成用スタンパーの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04139632A true JPH04139632A (ja) | 1992-05-13 |
Family
ID=17371399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26212590A Pending JPH04139632A (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 情報記録媒体作成用スタンパーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04139632A (ja) |
-
1990
- 1990-09-28 JP JP26212590A patent/JPH04139632A/ja active Pending
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