JPH0413858A - マスキング装置 - Google Patents
マスキング装置Info
- Publication number
- JPH0413858A JPH0413858A JP11789590A JP11789590A JPH0413858A JP H0413858 A JPH0413858 A JP H0413858A JP 11789590 A JP11789590 A JP 11789590A JP 11789590 A JP11789590 A JP 11789590A JP H0413858 A JPH0413858 A JP H0413858A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spacer
- plate
- film
- mask plate
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 title claims description 10
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 7
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 5
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 12
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
膜付けするためのマスキング装置に関するものである。
素子、その他の電子部品(1)には、゛第5図に示すよ
うに、その表面および/または裏面に蒸着、スパッタリ
ング、スクリーン法などによって電極、抵抗体などの膜
付け(2)が行なわれる。
部品(])はマスキング装置によってマスキングされる
。
例えば第6図および第7図に示すように5枚のステンレ
ス板(3a) (3b) (3c) (3d) (3e
)を重合して構成されていた。最下部の下部補助板(3
a)は比較的厚くて硬い厚さ0.4〜1.5mmのステ
ンレス板などからなり、後述する膜付は孔(4)よりや
や大きなにげ孔(5)を有する。下から2番目の下部マ
スク板(3b)は、厚さ0.5■〜0.03+nm程度
のできるだけ薄いステンレス板などからなり、電極、抵
抗などの膜付け(2)をするための膜付は孔(4)を有
する。
一形状のステンレス板などからなり、部品嵌込み孔(6
)を有する。下から4番目の上部マスク板(3d)は前
記下部マスク板(3b)と同一目的の膜付は孔(7)を
有する。最上部の上部補助板(3e)は、前記下部補助
板(3a)と同様のにげ孔(8)を有する。
ーサ(3c)は、3枚重ねにし位置合せをして適当な間
隔でスポット溶接(9)をして1枚の下部板(1o)と
なし、また、これには複数個のねじ通し孔(11)、ピ
ン(12)を差込んで位置合せをする複数個の位置決め
孔(13)を有し、かつ前記下部補助板(3a)の下面
には各ねじ通し孔(11)に一致してナツト(14)が
溶接されている。
2枚重ねにし位置合せをしてスポット溶接(9)をして
1枚の上部板(15)とし、かつねじ通し孔(11)と
位置決め孔(13)とが複数個ずつ有する。
込孔(6)・・にそれぞれ電子部品を収納し、ピン(1
2)で上部板(10)と下部板(15)とを、ピンの差
込みにより位置合せをし、その後、複数本のねじ(16
)で上下板(10) (15)全体を密着させる。この
組込の後、膜付は作業に入る。
わずかな間隔をおいて多数個所をスポット溶接(9)す
るため、歪みが生じ、波をうって、隙間(17)が生じ
るなどして膜付け(2)に問題があった。また、上下板
(10) (15)を隙間なく密着させるため、何本も
のねじ(16)を締めなければならず、膜付は作業前後
の組立て、解体が極めて面倒であるという問題があった
。
d)の厚さを厚くして上下部補助板(3a) (3e)
を使用しないものもみうけられるが、このようにすると
、蒸着、スパッタリングなどが斜めに入射すると、マス
ク板の板厚でかげになる部分が生じ、膜付け(2)の形
状が不正確になり好ましくないという問題があった。
なくても隙間のないマスキングができる装置を得ること
を目的とする。
、このスペーサに膜付は孔を有するマスク板を重合して
前記電子部品に膜付けする装置において、前記スペーサ
とマスク板とを磁力によって互いに密着せしめてなるも
のである。
品嵌込孔に電子部品を収納し、このスペーサの上面と下
面に、それぞれ膜付は孔を有する上部マスク板と下部マ
スク板を、位置合せピン等に差込んで重合し、これらに
、さらに永久磁石を嵌込んだ磁石板を重合する。スペー
サ、上マスク板を鉄、ニッケルなどの磁性体とすること
により、すべてが一体に固定的に重合される。この状態
で膜付けをした後、マスク板をはがして電子部品をとり
出す。
ト保持板(20b)、下部マスク板(20c)、スペー
サ(20d)、上部マスク板(20e)である。これら
のうち、補助板(20a)、スペーサ(20d)、上部
マスク板(20e)が磁性材料(SO5430など)か
らなるステンレス薄板で、マグネット保持板(20b)
と下部マスク板(20c)が非磁性材料(SUS304
など)からなるステンレス薄板である。前記スペーサ(
20d)は、電子部品(1)の厚さと略同じ厚さを有し
、かつ電子部品嵌込孔(6)が多数穿設されている。
抵抗などの膜付け(2)をするための膜付は孔(7)が
多数穿設されている。
多数穿設されるとともに、透磁孔(21)が多数穿設さ
れている。
を保持するためのマグネット保持孔(23)が多数穿設
されるとともに、膜付は孔(4)よりやや大きいにげ孔
(24)が穿設されている。
げ孔(25)が穿設されている。
図および第3図に示すように、電子部品嵌込孔(6)と
膜付は孔(4)(7)は電子部品(1)の規格に応じて
予め決められる。マグネット保持孔(23)は電子部品
(1)の外周に配置するように穿設される。この際、上
部マスク板(20e)まで磁力線が有効に届くように、
電子部品嵌込孔(6)よりやや内側まで位置し、また、
透磁孔(21)は磁力線がスペーサ(20d)と上部マ
スク板(20e)へ有効に届き、かつマグネット(22
)の移動防止のため、マグネット保持孔(23)よりや
や小さくなるように穿設する。
0c) (20d)(20e)には、左右両端に位置合
せピン(]2)の挿入される位置合せ孔(13)が穿設
される。
グネット保持板(20b)をのせ、各マグネット保持孔
(23) にマグネット(22)を収納し、その上に
下部マスク板(20c)をのせ、さらにスペーサ(20
d)をのせる。すると、マグネット(22)にて補助板
(20a)とスペーサ(20d)が吸着され、4枚の板
の重合した状態は、膜付は作業の前後に拘らず一体に重
合状態にある。
)・・・にそれぞれ電子部品(1)・・を嵌込む。最後
に上部マスク板(20e)をのせると、この上部マスク
板(20e)もマグネット(22)で吸着され、5枚す
べて一体に重合する。
の」二部マスク板(20e)だけをはがして膜付け(2
)された電子部品(1)・・・を取り出す。
行う場合を説明したが、片面だけに膜付け(2)をする
場合であってもよく、この場合は、第4図に示すように
、下部マスク板(20c)だけを外した4枚構成で、か
っにげ孔(25) (24)のない補助板(30a)と
マグネット保持板(30b)を用いるようにすればよい
。
合について説明したが、これに限られるものではなく、
また、形状も円形、多角形、その他の形状のものでもよ
い。さらに、大きさも実施例の場合に限られるものでは
ない。
材(]、)の外周の4方に配置したが、被マスキング部
材(1)の大きさ、形状などによって、マグネット(2
2)の数、大きさ、配置などを変更することができる。
。
上部マスク板を剥すだけであり、作業性が極めてよい。
ができ、膜付けが正確となり、上下の位置ずれ防止にす
ぐれている。
び/または下部マスク板だけの交換が簡単にでき、多種
類のパターンに対する汎用性にすぐれている。
ない。
A−A線断面図、第2図は第1図における各板の分解平
面図、第3図は孔位置の説明図、第4図は本発明の他の
実施例の一部拡大断面図、第5図は電子部品の斜視図、
第6図は従来装置の一部拡大断面図、第7図は第6図に
おける各板の分解平面図である。 (1)・・・被マスキング部材としての電子部品、(2
)・・膜付け、(4)・・・膜付は孔、(6)・・・嵌
込孔、(7)・・・膜付は孔、(12)・・・ピン、(
13)・・・位置決め孔、(20a)(30a)・・・
補助板、(20b) (30b)・・・マグネット保持
板、(20c)−下部マスク板、(20d)−・・スペ
ーサ、(20e)・・・上部マスク板、(21)・・・
透磁孔、(22)・・・マグネット、(23)・・・マ
グネット保持孔、(24)・・・にげ孔、(25)・・
・にげ孔。
Claims (3)
- (1)スペーサの嵌込孔に被マスキング部材を収納し、
このスペーサに膜付け孔を有するマスク板を重合して前
記被マスキング部材に膜付けする装置において、前記ス
ペーサとマスク板とを磁力によって互いに密着せしめて
なることを特徴とするマスキング装置。 - (2)被マスキング部材の両面に膜付けをする場合にお
いて、上部マスク板とスペーサを磁性体で構成し、下部
マスク板とマグネット保持板を非磁性体で構成し、前記
マグネット保持板に複数個のマグネットを所定間隔で収
納保持してなる請求項(1)記載のマスキング装置。 - (3)被マスキング部材の片面に膜付けをする場合にお
いて、上部マスク板とスペーサを磁性体で構成し、マグ
ネット保持板を非磁性体で構成し、前記マグネット保持
板に複数個のマグネットを所定間隔で収納保持してなる
請求項(1)記載のマスキング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2117895A JPH0674498B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | マスキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2117895A JPH0674498B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | マスキング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0413858A true JPH0413858A (ja) | 1992-01-17 |
JPH0674498B2 JPH0674498B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=14722870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2117895A Expired - Lifetime JPH0674498B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | マスキング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0674498B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002241936A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-28 | Murata Mfg Co Ltd | 成膜用治具、これに用いる磁石、成膜装置および成膜方法 |
JP2006100674A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Kyocera Kinseki Corp | 環状物への環状電極膜の形成方法 |
US8048228B2 (en) | 2006-10-27 | 2011-11-01 | Tdk Corporation | Masking apparatus and method of fabricating electronic component |
JP2015100745A (ja) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | 名古屋油化株式会社 | マスキング方法 |
US20160351307A1 (en) * | 2015-05-29 | 2016-12-01 | Ralec Electronic Corporation | Method for manufacturing thin film chip resistor device |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5247534U (ja) * | 1975-09-30 | 1977-04-04 | ||
JPS53163351U (ja) * | 1977-05-30 | 1978-12-21 | ||
JPS6342155U (ja) * | 1986-09-04 | 1988-03-19 | ||
JPH01242768A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-27 | Fujitsu Ltd | マスク蒸着方法 |
-
1990
- 1990-05-08 JP JP2117895A patent/JPH0674498B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5247534U (ja) * | 1975-09-30 | 1977-04-04 | ||
JPS53163351U (ja) * | 1977-05-30 | 1978-12-21 | ||
JPS6342155U (ja) * | 1986-09-04 | 1988-03-19 | ||
JPH01242768A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-27 | Fujitsu Ltd | マスク蒸着方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002241936A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-28 | Murata Mfg Co Ltd | 成膜用治具、これに用いる磁石、成膜装置および成膜方法 |
JP4724926B2 (ja) * | 2001-02-19 | 2011-07-13 | 株式会社村田製作所 | 成膜用治具、これに用いる磁石、成膜装置および成膜方法 |
JP2006100674A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Kyocera Kinseki Corp | 環状物への環状電極膜の形成方法 |
US8048228B2 (en) | 2006-10-27 | 2011-11-01 | Tdk Corporation | Masking apparatus and method of fabricating electronic component |
JP2015100745A (ja) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | 名古屋油化株式会社 | マスキング方法 |
US20160351307A1 (en) * | 2015-05-29 | 2016-12-01 | Ralec Electronic Corporation | Method for manufacturing thin film chip resistor device |
US9991032B2 (en) * | 2015-05-29 | 2018-06-05 | Ralec Electronic Corporation | Method for manufacturing thin film chip resistor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0674498B2 (ja) | 1994-09-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1004889B1 (en) | Laminate tile pole piece for an MRI magnet, a method of manufacturing the pole piece and a mold for bonding pole piece tiles | |
JP3662261B2 (ja) | 電気的膜パネルの製造方法 | |
EP1318541A2 (en) | Aligning mask segments to provide an assembled mask for producing oled devices | |
US3833771A (en) | Electro-acoustic transducers | |
KR20050013064A (ko) | 증착용 마스크의 제조방법 및 증착용 마스크 | |
US4220491A (en) | Method for forming an accurately assembled laminate utilizing a vacuum holding press | |
JPH0413858A (ja) | マスキング装置 | |
AU567497B2 (en) | Method and apparatus for captivating a substrate with a holder | |
JP3271507B2 (ja) | 電子部品の電極形成方法およびそれに用いられるマスキング装置 | |
JP6525691B2 (ja) | 金属膜被着用治具および水晶素子の製造方法 | |
JPH08176800A (ja) | 成膜マスク装置 | |
JP2000080462A (ja) | マスキング装置 | |
JP2007288601A (ja) | 電磁変換器 | |
JPS6388875A (ja) | 積層型圧電素子の製造方法 | |
JPH07102762A (ja) | コンクリートの凹凸形成用型枠 | |
JPS585986B2 (ja) | 蒸着電極装着用治具への基板装填方法 | |
JPH08325705A (ja) | 成膜マスク装置 | |
JP2649520B2 (ja) | メタルマスクスクリーンの製法 | |
JPH088817Y2 (ja) | プリント配線用基板の両面同時スクリーン印刷機におけるプリント配線用基板ホルダー | |
US6775146B1 (en) | Laminated printed circuit board fixture assembly and method | |
JP2001011598A (ja) | 成膜マスク装置 | |
JPH0543387A (ja) | 薄膜加工用マスク及び圧電振動子電極加工用マスク | |
JPH0346380A (ja) | 積層容易な圧電素子 | |
JP3010672B2 (ja) | アパチャー電極及びその製造方法 | |
JPH08113285A (ja) | 水晶振動子等の電子部品用ホルダー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080921 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080921 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090921 Year of fee payment: 15 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921 Year of fee payment: 16 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921 Year of fee payment: 16 |