JPH0543387A - 薄膜加工用マスク及び圧電振動子電極加工用マスク - Google Patents
薄膜加工用マスク及び圧電振動子電極加工用マスクInfo
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- JPH0543387A JPH0543387A JP19551291A JP19551291A JPH0543387A JP H0543387 A JPH0543387 A JP H0543387A JP 19551291 A JP19551291 A JP 19551291A JP 19551291 A JP19551291 A JP 19551291A JP H0543387 A JPH0543387 A JP H0543387A
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- mask
- thin film
- magnet
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄膜加工用の金属マスクを磁力保持で固定さ
せる。また、マスクの材質を磁力線を有効に働かせるこ
とにより作業性及び薄膜加工精度を向上させる。 【構成】 薄膜加工用マスク及び圧電振動子電極加工用
マスクにおいて、マスクのと部品の組立固定保持を磁力
により行う。さらに、組立保持ベースプレートにマグネ
ット側より磁力線の透過性のよい材質でマスクを構成す
る。
せる。また、マスクの材質を磁力線を有効に働かせるこ
とにより作業性及び薄膜加工精度を向上させる。 【構成】 薄膜加工用マスク及び圧電振動子電極加工用
マスクにおいて、マスクのと部品の組立固定保持を磁力
により行う。さらに、組立保持ベースプレートにマグネ
ット側より磁力線の透過性のよい材質でマスクを構成す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は薄膜加工用マスクに関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の薄膜加工用マスクは、図４と図５
に示すように、薄膜加工対象部品（圧電振動子等）１
７、２７を位置決めする中マスク１２、２２を上マスク
１１、２１と下マスク１３、２３にはさむために、図４
の例では上下にはさみ込み板１４を固定ネジ１５によっ
て締結固定し、図５の例ではベースプレート２４を鉄系
の磁性材料としてマグネット２５の磁力により押え込み
を行なっていた。
に示すように、薄膜加工対象部品（圧電振動子等）１
７、２７を位置決めする中マスク１２、２２を上マスク
１１、２１と下マスク１３、２３にはさむために、図４
の例では上下にはさみ込み板１４を固定ネジ１５によっ
て締結固定し、図５の例ではベースプレート２４を鉄系
の磁性材料としてマグネット２５の磁力により押え込み
を行なっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来技
術では図４のネジ固定する際に多くの時間を費やすこと
と均一な押え力を得ずらい為に部分的にマスクの密着状
態が悪くなり、薄膜加工精度が低下する。また、図５の
マグネットを上マスクの上に載せベースプレートとによ
り押え込む場合にも多くのマグネットを扱うため多くの
時間を費やすこととマグネットの形状サイズの制約より
十分な押え力を得られずにマスクの密着状態が悪くな
る。
術では図４のネジ固定する際に多くの時間を費やすこと
と均一な押え力を得ずらい為に部分的にマスクの密着状
態が悪くなり、薄膜加工精度が低下する。また、図５の
マグネットを上マスクの上に載せベースプレートとによ
り押え込む場合にも多くのマグネットを扱うため多くの
時間を費やすこととマグネットの形状サイズの制約より
十分な押え力を得られずにマスクの密着状態が悪くな
る。
【０００４】この様に、従来技術では作業能率が悪い、
薄膜加工精度が得ずらいという問題点を有する。
薄膜加工精度が得ずらいという問題点を有する。
【０００５】そこで本発明はこの様な問題点を解決する
もので、その目的とするところは、容易かつ短時間でマ
スクと部品（圧電振動子等）の組立固定を行ない、高精
度の薄膜パターン形状を得ることのできる薄膜加工用マ
スク及び圧電振動子電極加工用マスクを提供するところ
にある。
もので、その目的とするところは、容易かつ短時間でマ
スクと部品（圧電振動子等）の組立固定を行ない、高精
度の薄膜パターン形状を得ることのできる薄膜加工用マ
スク及び圧電振動子電極加工用マスクを提供するところ
にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の薄膜加工用マス
ク及び圧電振動子電極加工用マスクは、 １）薄膜加工用マスクにおいて、金属マスクを強磁性マ
グネットの磁力により、組立固定することを特徴とす
る。
ク及び圧電振動子電極加工用マスクは、 １）薄膜加工用マスクにおいて、金属マスクを強磁性マ
グネットの磁力により、組立固定することを特徴とす
る。
【０００７】また、金属マスクを２枚以上使用する場合
に、 ２）マグネットに近い側のマスクほど磁性の弱い（透磁
性の高い）金属材料で作ったことを特徴とする。
に、 ２）マグネットに近い側のマスクほど磁性の弱い（透磁
性の高い）金属材料で作ったことを特徴とする。
【０００８】さらに、圧電振動子を組立固定して電極膜
を加工する手段として、 ３）強磁性マグネットの磁力により、上下のマスクに圧
電振動子をはさみ込み固定するとき、マグネットに近い
側のマスクを透磁性のよい金属材料としたことを特徴と
する。
を加工する手段として、 ３）強磁性マグネットの磁力により、上下のマスクに圧
電振動子をはさみ込み固定するとき、マグネットに近い
側のマスクを透磁性のよい金属材料としたことを特徴と
する。
【０００９】
【実施例】以下、本発明について実施例に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
【００１０】図１は、本発明の薄膜加工用マスク及び圧
電振動子電極加工用マスクの説明図である。１、２、３
は部品７（以下部品と記した場合圧電振動子等を含め
る）の薄膜パターンを形成するための上・下マスクであ
り、１、３は薄膜パターン形状を有するマスク、２はパ
ターン形状に部品位置を合わせる中マスクである。６は
薄膜パターンを形成する開口部であり、部品の必要性に
応じ、上・下マスク１、３に有する場合と各々一方だけ
の場合がある。これらのマスク、部品を組立固定するた
めにベースプレート４にマグネット５を装着して、マグ
ネット５の磁力により保持できるようにしてある。
電振動子電極加工用マスクの説明図である。１、２、３
は部品７（以下部品と記した場合圧電振動子等を含め
る）の薄膜パターンを形成するための上・下マスクであ
り、１、３は薄膜パターン形状を有するマスク、２はパ
ターン形状に部品位置を合わせる中マスクである。６は
薄膜パターンを形成する開口部であり、部品の必要性に
応じ、上・下マスク１、３に有する場合と各々一方だけ
の場合がある。これらのマスク、部品を組立固定するた
めにベースプレート４にマグネット５を装着して、マグ
ネット５の磁力により保持できるようにしてある。
【００１１】図２で、磁力により保持する構成を説明す
る。一般的に、磁力は磁力線密度が高いほど大きく、磁
性の弱い材料ほど透磁性が高く磁力線の透過がよいとい
う概論を振れておく。従って、図２のマグネット５より
出る磁力線８により各マスク１、２、３を引き付けベー
スプレート４に保持しようとする場合に磁力線８は上マ
スク１に十分働かなければならない。しかし、部品０７
を下マスク３と中マスク２へ組立てる作業を考えると
き、下マスク３と中マスク２も適度にベースプレート４
に保持されていることが望ましく、中マスク２に対して
も磁力線８は働かなければならない。以上の各マスクへ
の磁力線８の働く吸引力の関係をみると、下マスク３は
ゼロ（１００％の磁力線透過）、中マスク２は微弱な磁
性力を持ち、上マスク１は強磁性体であることが理想的
である。本発明の実施例では、上マスク１にはＳＫ材や
マルテンサイト系ステンレス鋼を、中マスクには、フェ
ライト系ステンレス鋼また、下マスクには、非磁性のオ
ーステナイト系ステンレス鋼を選択している。材料選択
や組み合わせは多数考えられるが。要は、前述した磁力
線８が働くことによる吸引力の関係が、下マスク３＜中
マスク２＜上マスク１となり、下マスク３がゼロに近い
ことが望ましい。
る。一般的に、磁力は磁力線密度が高いほど大きく、磁
性の弱い材料ほど透磁性が高く磁力線の透過がよいとい
う概論を振れておく。従って、図２のマグネット５より
出る磁力線８により各マスク１、２、３を引き付けベー
スプレート４に保持しようとする場合に磁力線８は上マ
スク１に十分働かなければならない。しかし、部品０７
を下マスク３と中マスク２へ組立てる作業を考えると
き、下マスク３と中マスク２も適度にベースプレート４
に保持されていることが望ましく、中マスク２に対して
も磁力線８は働かなければならない。以上の各マスクへ
の磁力線８の働く吸引力の関係をみると、下マスク３は
ゼロ（１００％の磁力線透過）、中マスク２は微弱な磁
性力を持ち、上マスク１は強磁性体であることが理想的
である。本発明の実施例では、上マスク１にはＳＫ材や
マルテンサイト系ステンレス鋼を、中マスクには、フェ
ライト系ステンレス鋼また、下マスクには、非磁性のオ
ーステナイト系ステンレス鋼を選択している。材料選択
や組み合わせは多数考えられるが。要は、前述した磁力
線８が働くことによる吸引力の関係が、下マスク３＜中
マスク２＜上マスク１となり、下マスク３がゼロに近い
ことが望ましい。
【００１２】次に、本発明の別の実施例について説明す
る。図３は、前述した図２のマスクを応用したものであ
るが、相違点は図２の中マスクと下マスク３を複合した
合成マスク９にある。これは、中マスクとしたマスクを
一体化することにより部品の組立作業性を向上したり、
薄膜パターン成形精度を向上するとかマスク数を減らす
ことによる管理上の簡便性をよくしている。この合成マ
スク９の材質は、前述の中マスク２や下マスク３に相当
する材料で作る。
る。図３は、前述した図２のマスクを応用したものであ
るが、相違点は図２の中マスクと下マスク３を複合した
合成マスク９にある。これは、中マスクとしたマスクを
一体化することにより部品の組立作業性を向上したり、
薄膜パターン成形精度を向上するとかマスク数を減らす
ことによる管理上の簡便性をよくしている。この合成マ
スク９の材質は、前述の中マスク２や下マスク３に相当
する材料で作る。
【００１３】さらに、図３の応用例としては、図２の上
マスク１と中マスク２の合成したマスクも考案としては
容易に考えられるところである。部品の組立固定作業方
法によっては有効な手段と成り得る。
マスク１と中マスク２の合成したマスクも考案としては
容易に考えられるところである。部品の組立固定作業方
法によっては有効な手段と成り得る。
【００１４】
【発明の効果】以上に述べた本発明の薄膜加工用マスク
及び圧電振動子電極加工用マスクによれば、 １）薄膜加工や圧電振動子電極加工のマスクと部品の組
立固定作業が簡便に短時間でできる。 ２）マグネットの磁力により安定したマスクの保持がで
きるため、薄膜（電極等）の成形パターン精度が向上す
る。
及び圧電振動子電極加工用マスクによれば、 １）薄膜加工や圧電振動子電極加工のマスクと部品の組
立固定作業が簡便に短時間でできる。 ２）マグネットの磁力により安定したマスクの保持がで
きるため、薄膜（電極等）の成形パターン精度が向上す
る。
【００１５】等の効果があり、薄膜（電極等）を必要と
する電子部品の品質向上やコスト低減に大きく寄与でき
る。
する電子部品の品質向上やコスト低減に大きく寄与でき
る。
【図１】本発明の薄膜加工用マスク及び圧電振動子電極
加工用マスクの説明図。
加工用マスクの説明図。
【図２】本発明の磁力によるマスク保持方法の説明図。
【図３】本発明の別の実施例の断面図。
【図４】従来技術の説明図。
【図５】他の従来技術の説明図。
１ 上マスク ２ 中マスク ３ 下マスク ４ ベースプレート ５ マグネット ６ 開口部 ７ 部品（圧電振動子等） ８ 磁力線 ９ 合成マスク １１ 上マスク １２ 中マスク １３ 下マスク １４ はさみ込み板 １５ 固定ネジ １６ 開口部 １７ 部品（圧電振動子等） ２１ 上マスク ２２ 中マスク ２３ 下マスク ２４ ベースプレート ２５ マグネット ２６ 開口部 ２７ 部品（圧電振動子等）
Claims (3)
- 【請求項１】物理的気相成長法やドライエッチング法を
用いて電子部品、ガラスパネルや電気回路の配線、電極
等々の金属薄膜や有機・無機系の薄膜の形状パターンを
形成する場合に使う金属マスクを強磁性マグネットの磁
力により、組立固定することを特徴とする薄膜加工用マ
スク。 - 【請求項２】マスクを２枚以上重合わせにより加工対象
物を組立固定する場合、マグネットに近い側のマスクほ
ど磁性の弱い（透磁性の高い）金属材料で作ったことを
特徴とする第１項記載の薄膜加工用マスク。 - 【請求項３】マスク保持用のベースプレートにマグネッ
トを埋め込み、ベースプレートに近い側のマスクを非磁
性金属、次のマスクは半磁性金属、最遠い側のマスクを
強磁性金属で構成したことを特徴とする圧電振動子電極
加工用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19551291A JP2822706B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | 薄膜加工用マスク及びその保持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19551291A JP2822706B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | 薄膜加工用マスク及びその保持方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0543387A true JPH0543387A (ja) | 1993-02-23 |
| JP2822706B2 JP2822706B2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=16342315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19551291A Expired - Fee Related JP2822706B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | 薄膜加工用マスク及びその保持方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2822706B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7694648B2 (en) * | 2001-07-03 | 2010-04-13 | Lg Display Co., Ltd. | Organic EL display device and method for fabricating the same |
| US20110220493A1 (en) * | 2010-03-15 | 2011-09-15 | Kiyoshi Aratake | Masking material, piezoelectric vibrator, method of manufacturing piezoelectric vibrator, oscillator, electronic apparatus, and radio-controlled timepiece |
| US10170731B2 (en) | 2016-04-22 | 2019-01-01 | Point Engineering Co., Ltd. | Mask and masking assembly |
-
1991
- 1991-08-05 JP JP19551291A patent/JP2822706B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7694648B2 (en) * | 2001-07-03 | 2010-04-13 | Lg Display Co., Ltd. | Organic EL display device and method for fabricating the same |
| US20110220493A1 (en) * | 2010-03-15 | 2011-09-15 | Kiyoshi Aratake | Masking material, piezoelectric vibrator, method of manufacturing piezoelectric vibrator, oscillator, electronic apparatus, and radio-controlled timepiece |
| CN102195588A (zh) * | 2010-03-15 | 2011-09-21 | 精工电子有限公司 | 掩模材料、压电振动器、压电振动器的制造方法、振荡器、电子设备及电波钟 |
| JP2011190509A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-09-29 | Seiko Instruments Inc | マスク材、圧電振動子、圧電振動子の製造方法、発振器、電子機器および電波時計 |
| US10170731B2 (en) | 2016-04-22 | 2019-01-01 | Point Engineering Co., Ltd. | Mask and masking assembly |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2822706B2 (ja) | 1998-11-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080904 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080904 Year of fee payment: 10 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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