JP2822706B2 - 薄膜加工用マスク及びその保持方法 - Google Patents
薄膜加工用マスク及びその保持方法Info
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 4
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 31
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229910000963 austenitic stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 229910001105 martensitic stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は薄膜加工用マスクに関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の薄膜加工用マスクは、図４と図５
に示すように、薄膜加工対象部品（圧電振動子等）１
７、２７を位置決めする中マスク１２、２２を上マスク
１１、２１と下マスク１３、２３にはさむために、図４
の例では上下にはさみ込み板１４を固定ネジ１５によっ
て締結固定し、図５の例ではベースプレート２４を鉄系
の磁性材料としてマグネット２５の磁力により押え込み
を行なっていた。
に示すように、薄膜加工対象部品（圧電振動子等）１
７、２７を位置決めする中マスク１２、２２を上マスク
１１、２１と下マスク１３、２３にはさむために、図４
の例では上下にはさみ込み板１４を固定ネジ１５によっ
て締結固定し、図５の例ではベースプレート２４を鉄系
の磁性材料としてマグネット２５の磁力により押え込み
を行なっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来技
術では図４のネジ固定する際に多くの時間を費やすこと
と均一な押え力を得ずらい為に部分的にマスクの密着状
態が悪くなり、薄膜加工精度が低下する。また、図５の
マグネットを上マスクの上に載せベースプレートとによ
り押え込む場合にも多くのマグネットを扱うため多くの
時間を費やすこととマグネットの形状サイズの制約より
十分な押え力を得られずにマスクの密着状態が悪くな
る。
術では図４のネジ固定する際に多くの時間を費やすこと
と均一な押え力を得ずらい為に部分的にマスクの密着状
態が悪くなり、薄膜加工精度が低下する。また、図５の
マグネットを上マスクの上に載せベースプレートとによ
り押え込む場合にも多くのマグネットを扱うため多くの
時間を費やすこととマグネットの形状サイズの制約より
十分な押え力を得られずにマスクの密着状態が悪くな
る。
【０００４】この様に、従来技術では作業能率が悪い、
薄膜加工精度が得ずらいという問題点を有する。
薄膜加工精度が得ずらいという問題点を有する。
【０００５】そこで本発明はこの様な問題点を解決する
もので、その目的とするところは、容易かつ短時間でマ
スクと部品（圧電振動子等）の組立固定を行ない、高精
度の薄膜パターン形状を得ることのできる薄膜加工用マ
スク及び圧電振動子電極加工用マスクを提供するところ
にある。
もので、その目的とするところは、容易かつ短時間でマ
スクと部品（圧電振動子等）の組立固定を行ない、高精
度の薄膜パターン形状を得ることのできる薄膜加工用マ
スク及び圧電振動子電極加工用マスクを提供するところ
にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の薄膜加工用マス
クは、被加工対象部品の両面に対して薄膜加工を行う際
に用いられるマスクであって、少なくとも、被加工対象
部品の一方の面に対応した上マスクと、被加工対象部品
の他方の面に対応した下マスクとから構成され、上マス
クと前記下マスクとでは、磁性の強さが異なっていると
共に、上マスクと下マスクとで被加工対象部品を挟持
し、磁性の弱い方のマスク側から、磁力によって被加工
対象部品が保持されるように構成したことを特徴とす
る。
クは、被加工対象部品の両面に対して薄膜加工を行う際
に用いられるマスクであって、少なくとも、被加工対象
部品の一方の面に対応した上マスクと、被加工対象部品
の他方の面に対応した下マスクとから構成され、上マス
クと前記下マスクとでは、磁性の強さが異なっていると
共に、上マスクと下マスクとで被加工対象部品を挟持
し、磁性の弱い方のマスク側から、磁力によって被加工
対象部品が保持されるように構成したことを特徴とす
る。
【０００７】この場合、上マスクと下マスクとの間に被
加工対象部品の外形を案内する開口を有する中マスクを
有し、中マスクの磁性の強さは、上マスクと下マスクの
うち磁性の弱い方よりも強く、上マスクと下マスクのう
ち磁性の強い方よりも弱くなるように構成してもよい。
または、上マスクあるいは下マスクのいずれか一方に
は、被加工対象部品の外形を案内する有底穴を有するよ
うにしてもよい。
加工対象部品の外形を案内する開口を有する中マスクを
有し、中マスクの磁性の強さは、上マスクと下マスクの
うち磁性の弱い方よりも強く、上マスクと下マスクのう
ち磁性の強い方よりも弱くなるように構成してもよい。
または、上マスクあるいは下マスクのいずれか一方に
は、被加工対象部品の外形を案内する有底穴を有するよ
うにしてもよい。
【０００８】また、本発明の薄膜加工は、圧電振動子の
電極加工に適用することが望ましい。
電極加工に適用することが望ましい。
【０００９】
【実施例】以下、本発明について実施例に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
【００１０】図１は、本発明の薄膜加工用マスク及び圧
電振動子電極加工用マスクの説明図である。１、２、３
は部品７（以下部品と記した場合圧電振動子等を含め
る）の薄膜パターンを形成するための上・下マスクであ
り、１、３は薄膜パターン形状を有するマスク、２はパ
ターン形状に部品位置を合わせる中マスクである。６は
薄膜パターンを形成する開口部であり、部品の必要性に
応じ、上・下マスク１、３に有する場合と各々一方だけ
の場合がある。これらのマスク、部品を組立固定するた
めにベースプレート４にマグネット５を装着して、マグ
ネット５の磁力により保持できるようにしてある。
電振動子電極加工用マスクの説明図である。１、２、３
は部品７（以下部品と記した場合圧電振動子等を含め
る）の薄膜パターンを形成するための上・下マスクであ
り、１、３は薄膜パターン形状を有するマスク、２はパ
ターン形状に部品位置を合わせる中マスクである。６は
薄膜パターンを形成する開口部であり、部品の必要性に
応じ、上・下マスク１、３に有する場合と各々一方だけ
の場合がある。これらのマスク、部品を組立固定するた
めにベースプレート４にマグネット５を装着して、マグ
ネット５の磁力により保持できるようにしてある。
【００１１】図２で、磁力により保持する構成を説明す
る。一般的に、磁力は磁力線密度が高いほど大きく、磁
性の弱い材料ほど透磁性が高く磁力線の透過がよいとい
う概念を触れておく。従って、図２のマグネット５より
出る磁力線８により各マスク１、２、３を引き付け、ベ
ースプレート４に保持しようとする場合に、磁力線８は
上マスク１に十分働かなければならない。しかし、部品
７を下マスク３と中マスク２へ組み立てる作業を考える
とき、下マスク３と中マスク２も適度にベースプレート
に保持されていることが望ましく、中マスク２に対して
も磁力線８は働かなければならない。以上の各マスクへ
の磁力線８の働く吸引力の関係を見ると、下マスク３は
ゼロ（１００％の磁力線透過）、中マスク２は微弱な磁
性力を持ち、上マスク１は強磁性体であることが理想的
である。本発明の実施例では、上マスク１にはＳＫ材や
マルテンサイト系ステンレス鋼を、中マスク２には、フ
ェライト系ステンレス鋼を、また下マスク３には、非磁
性のオーステナイト系ステンレス鋼を選択している。材
料選択や組み合わせは多数考えられるが、要は、前述し
た磁力線８が働くことによる吸引力の関係が、下マスク
３＜中マスク２＜上マスク１となり、下マスク３がゼロ
に近いことが望ましい。
る。一般的に、磁力は磁力線密度が高いほど大きく、磁
性の弱い材料ほど透磁性が高く磁力線の透過がよいとい
う概念を触れておく。従って、図２のマグネット５より
出る磁力線８により各マスク１、２、３を引き付け、ベ
ースプレート４に保持しようとする場合に、磁力線８は
上マスク１に十分働かなければならない。しかし、部品
７を下マスク３と中マスク２へ組み立てる作業を考える
とき、下マスク３と中マスク２も適度にベースプレート
に保持されていることが望ましく、中マスク２に対して
も磁力線８は働かなければならない。以上の各マスクへ
の磁力線８の働く吸引力の関係を見ると、下マスク３は
ゼロ（１００％の磁力線透過）、中マスク２は微弱な磁
性力を持ち、上マスク１は強磁性体であることが理想的
である。本発明の実施例では、上マスク１にはＳＫ材や
マルテンサイト系ステンレス鋼を、中マスク２には、フ
ェライト系ステンレス鋼を、また下マスク３には、非磁
性のオーステナイト系ステンレス鋼を選択している。材
料選択や組み合わせは多数考えられるが、要は、前述し
た磁力線８が働くことによる吸引力の関係が、下マスク
３＜中マスク２＜上マスク１となり、下マスク３がゼロ
に近いことが望ましい。
【００１２】次に、本発明の別の実施例について説明す
る。図３は、前述した図２のマスクを応用したものであ
るが、相違点は図２の中マスクと下マスク３を複合した
合成マスク９にある。これは、中マスクとしたマスクを
一体化することにより部品の組立作業性を向上したり、
薄膜パターン成形精度を向上するとかマスク数を減らす
ことによる管理上の簡便性をよくしている。この合成マ
スク９の材質は、前述の中マスク２や下マスク３に相当
する材料で作る。
る。図３は、前述した図２のマスクを応用したものであ
るが、相違点は図２の中マスクと下マスク３を複合した
合成マスク９にある。これは、中マスクとしたマスクを
一体化することにより部品の組立作業性を向上したり、
薄膜パターン成形精度を向上するとかマスク数を減らす
ことによる管理上の簡便性をよくしている。この合成マ
スク９の材質は、前述の中マスク２や下マスク３に相当
する材料で作る。
【００１３】さらに、図３の応用例としては、図２の上
マスク１と中マスク２の合成したマスクも考案としては
容易に考えられるところである。部品の組立固定作業方
法によっては有効な手段と成り得る。
マスク１と中マスク２の合成したマスクも考案としては
容易に考えられるところである。部品の組立固定作業方
法によっては有効な手段と成り得る。
【００１４】
【発明の効果】以上に述べた本発明の薄膜加工用マスク
及び圧電振動子電極加工用マスクによれば、 １）薄膜加工や圧電振動子電極加工のマスクと部品の組
立固定作業が簡便に短時間でできる。 ２）マグネットの磁力により安定したマスクの保持がで
きるため、薄膜（電極等）の成形パターン精度が向上す
る。
及び圧電振動子電極加工用マスクによれば、 １）薄膜加工や圧電振動子電極加工のマスクと部品の組
立固定作業が簡便に短時間でできる。 ２）マグネットの磁力により安定したマスクの保持がで
きるため、薄膜（電極等）の成形パターン精度が向上す
る。
【００１５】等の効果があり、薄膜（電極等）を必要と
する電子部品の品質向上やコスト低減に大きく寄与でき
る。
する電子部品の品質向上やコスト低減に大きく寄与でき
る。
【図１】本発明の薄膜加工用マスク及び圧電振動子電極
加工用マスクの説明図。
加工用マスクの説明図。
【図２】本発明の磁力によるマスク保持方法の説明図。
【図３】本発明の別の実施例の断面図。
【図４】従来技術の説明図。
【図５】他の従来技術の説明図。
１ 上マスク ２ 中マスク ３ 下マスク ４ ベースプレート ５ マグネット ６ 開口部 ７ 部品（圧電振動子等） ８ 磁力線 ９ 合成マスク １１ 上マスク １２ 中マスク １３ 下マスク １４ はさみ込み板 １５ 固定ネジ １６ 開口部 １７ 部品（圧電振動子等） ２１ 上マスク ２２ 中マスク ２３ 下マスク ２４ ベースプレート ２５ マグネット ２６ 開口部 ２７ 部品（圧電振動子等）
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C30B 1/00 - 35/00 H01L 21/00 - 21/205
Claims (5)
- 【請求項１】 被加工対象部品の両面に対して薄膜加工
を行う際に用いられるマスクであって、 少なくとも、前記被加工対象部品の一方の面に対応した
上マスクと、前記被加工対象部品の他方の面に対応した
下マスクとから構成され、 前記上マスクと前記下マスクとでは、磁性の強さが異な
っていると共に、 前記上マスクと前記下マスクとで前記被加工対象部品を
挟持し、磁性の弱い方のマスク側から、磁力によって前
記被加工対象部品が保持されるように構成したことを特
徴とする薄膜加工用マスク。 - 【請求項２】 前記上マスクと前記下マスクとの間に前
記被加工対象部品の外形を案内する開口を有する中マス
クを有し、 前記中マスクの磁性の強さは、前記上マスクと前記下マ
スクのうち磁性の弱い方よりも強く、前記上マスクと前
記下マスクのうち磁性の強い方よりも弱いことを特徴と
する請求項１記載の薄膜加工用マスク。 - 【請求項３】 前記上マスクあるいは前記下マスクのい
ずれか一方には、前記被加工対象部品の外形を案内する
有底穴を有することを特徴とする請求項１記載の薄膜加
工用マスク。 - 【請求項４】 前記薄膜加工は、圧電振動子の電極加工
であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載
の薄膜加工用マスク。 - 【請求項５】 少なくとも、被加工対象部品の一方の面
に対応した上マスクと、前記被加工対象部品の他方の面
に対応した下マスクとから構成される薄膜加工用マスク
を有し、 前記上マスクと前記下マスクとでは、磁性の強さが異な
っていると共に、前記上マスクと前記下マスクとで前記
被加工対象部品を挟持し、 マグネットを装着したベースプレートを、前記上マスク
と前記下マスクのうち磁性の弱い方の側に配置し、前記
被加工対象部品を挟持した前記上マスクと前記下マスク
を、前記ベースプレートの磁力により保持することを特
徴とする薄膜加工用マスクの保持方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19551291A JP2822706B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | 薄膜加工用マスク及びその保持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19551291A JP2822706B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | 薄膜加工用マスク及びその保持方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0543387A JPH0543387A (ja) | 1993-02-23 |
| JP2822706B2 true JP2822706B2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=16342315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19551291A Expired - Fee Related JP2822706B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | 薄膜加工用マスク及びその保持方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2822706B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030002947A (ko) * | 2001-07-03 | 2003-01-09 | 엘지전자 주식회사 | 풀칼라 유기 ｅｌ 표시소자 및 제조방법 |
| JP2011190509A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-09-29 | Seiko Instruments Inc | マスク材、圧電振動子、圧電振動子の製造方法、発振器、電子機器および電波時計 |
| KR101817246B1 (ko) | 2016-04-22 | 2018-01-10 | (주)포인트엔지니어링 | 유기발광다이오드용 마스크 |
-
1991
- 1991-08-05 JP JP19551291A patent/JP2822706B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0543387A (ja) | 1993-02-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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