JP2001011598A - 成膜マスク装置 - Google Patents

成膜マスク装置

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JP2001011598A
JP2001011598A JP18465799A JP18465799A JP2001011598A JP 2001011598 A JP2001011598 A JP 2001011598A JP 18465799 A JP18465799 A JP 18465799A JP 18465799 A JP18465799 A JP 18465799A JP 2001011598 A JP2001011598 A JP 2001011598A
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JP
Japan
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mask
film
spacer
forming
magnet
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JP18465799A
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English (en)
Inventor
Susumu Hirao
進 平尾
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Daishinku Corp
Original Assignee
Daishinku Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 成膜マスク装置の組立作業を容易にするとと
もに、被成膜形成体のずれ込み、成膜不良をなくす。 【解決手段】 水晶板Bを複数個収納する収納孔41を
形成し、水晶板をこの収納孔に収納した磁性体からなる
スペーサ4と、このスペーサの上側に配置され、成膜形
成用の上部マスクパターンが形成された上部マスク5
と、このスペーサの下側に配置され、成膜形成用の下部
マスクパターンが形成された下部マスク3とを少なくと
も有する成膜マスク装置において、前記スペーサと前記
下部マスクの間に密着配置され、前記マスクパターンを
露出させるとともに、前記スペーサの収納孔に対応した
貫通孔71を有するシート状マグネット7を具備してな
ることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は水晶板、セラミック
板等に電極材料を形成する成膜マスク装置に関するもの
であり、特に磁力を用いマスクを吸着する成膜マスク装
置の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、水晶振動子の電極形成工程にお
いて、電極用の金属材料の物理蒸着を行う場合、機械的
マスク装置を用いて真空蒸着法、スパッタリング法によ
り水晶板の必要な部分に電極を形成していた。この機械
的マスク装置を用いる蒸着方法は、水晶板を収納するス
ペーサ、上下のマスク板、その他の補助治具等複数のマ
スク等の板体を重ねて、ネジ止め等により一体化して使
用することが一般的であった。
【0003】このようなネジ止め作業を簡略化するため
に、磁力によりマスク板等を密着させる方法が発明され
ており、その例として例えば、特公平6−74498号
がある。図2は従来の磁力を用いた成膜マスク装置を示
す分解斜視図である。
【0004】最下部には磁性体からなるマスク押さえ下
板1が配置されている。このマスク押さえ下板1は後述
のマスク構成体を位置決めする突起部13,14が長手
方向の両端に設けられるとともに、上述の下部マスクの
下部マスクパターンを露出させる貫通孔11が複数個形
成されている。
【0005】このマスク押さえ下板1の上面には磁石保
持板2が密着配置されている。磁石保持板2には前述の
貫通孔11に対応し下部マスクパターンを露出させる貫
通孔21が複数個形成されているとともに、磁石Mを位
置決め収納する磁石収納部22が複数個形成されてい
る。
【0006】この磁石保持板2の上面には下部マスク3
が密着配置されている。下部マスク3には後述の水晶板
Bの所定の位置に対応する下部マスクパターン31が複
数個形成されているとともに、前記磁石の配置された上
部に対応する位置に、その磁力を後述のスペーサ等に伝
える透磁孔(貫通孔)32が形成されている。
【0007】この下部マスク3の上面にはスペーサ4が
密着配置されている。スペーサ4は磁性体からなり、水
晶板Bを所定の間隔で複数個位置決め収納する貫通孔4
1が設けられている。
【0008】このスペーサ4の上面には上部マスク5が
密着配置されている。上部マスク5には前述の水晶板B
の所定の位置に対応する上部マスクパターン51が複数
個形成されているとともに、前記磁石の配置された上部
に対応する位置に、その磁力を後述のマスク押さえに伝
える透磁孔(貫通孔)52が形成されている。
【0009】最上部には磁性体からなるマスク押さえ上
板6が配置されている。このマスク押さえ上板6には、
上述の上部マスクの上部マスクパターンを露出させる貫
通孔61が複数個形成されている。なお、各マスク構成
体には、前述の突起部13,14が貫通する貫通孔2
3,24,33,34,43,44,53,54,6
3,64が設けられている。このような構成により、従
来必要とされていたネジ止めを必要とせず、極めて簡単
な手順で成膜マスク装置を組み立てることができた。
【0010】このように着脱可能な状態で成膜マスク装
置を使用する理由は、マスク等に付着した蒸着電極材料
(銀、金、アルミニウム等)を剥離除去する作業が必要
であるからである。そして、この剥離除去作業は特定の
洗浄液に浸漬することにより行い、上記電極形成工程を
行う前に、前記スペーサ、上下部のマスク、その他の補
助治具等を重ねて再び一体化する。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】このような着脱作業に
おいて、上述の構成では、個々の磁石Mについても、上
記磁石保持板から着脱する必要があり、非常に手間が掛
かり、作業性の低下、マスキング装置の組立工程数の大
幅な増加を招いていた。
【0012】また、上記磁石保持板の磁石収納部から、
磁石がずれ込んだ状態で取り付けられると、マスクの一
部が浮き上がった状態で保持され、水晶板B側がずれた
り、浮き上がったりした状態で固定されることもあっ
た。このために水晶板の所望の位置に電極が形成され
ず、成膜状態が極めて悪くなることがあった。
【0013】このように、上述の構成においても作業
性、信頼性の面で問題があった。
【0014】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたもので、成膜マスク装置の組立作業を容易にする
とともに、被成膜形成体のずれ込みをなくし、成膜不良
をなくした、作業性、信頼性の高い成膜マスク装置を提
供することを目的とするものである。
【0015】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明による成
膜マスク装置は、請求項1に示すように、被成膜形成体
を複数個収納する収納孔を形成し、被成膜形成体をこの
収納孔に収納した磁性体からなるスペーサと、このスペ
ーサの上側に配置され、成膜形成用の上部マスクパター
ンが形成された上部マスクと、このスペーサの下側に配
置され、成膜形成用の下部マスクパターンが形成された
下部マスクとを少なくとも有する成膜マスク装置におい
て、前記スペーサと前記上部マスク、または、前記スペ
ーサと前記下部マスクの間に密着配置され、前記マスク
パターンを露出させるとともに、前記スペーサの収納孔
に対応した貫通孔を有するシート状マグネットを具備し
てなることを特徴とする。
【0016】上記構成により、磁石保持板が不要とな
り、薄型化が可能である。しかも、成膜マスク装置の着
脱作業におけるシート状のマグネットの着脱も、極めて
簡単に行えるため、マスキング装置の組立作業、分解作
業につき、飛躍的に作業性を高めることができる。
【0017】また、シート状マグネットを採用したこと
により、スペーサ、上下部マスクの密着面に対して、均
一に磁力がはたらき、マスクの一部が浮き上がった状態
で保持されることもなくなり、水晶板がずれたり、浮き
上がったりした状態で固定されることがなくなる。従っ
て、水晶板の所望の位置に電極が形成されず、成膜状態
が低下することもなくなった。
【0018】また、請求項2に示すように、前記上部マ
スクの上面に前記成膜形成用の上部マスクパターンに対
応する貫通孔が設けられた磁性体からなるマスク押さえ
上板を配置し、前記下部マスクの下面に前記成膜形成用
の下部マスクパターンに対応する貫通孔が設けられた磁
性体からなるマスク押さえ下板を配置したことを特徴と
する。
【0019】上記構成により、上記作用効果に加えて、
上下部マスクの固定がより確実になる。
【0020】また、請求項3に示すように、被成膜形成
体を複数個収納する収納孔を形成し、被成膜形成体をこ
の収納孔に収納した磁性体からなるスペーサと、このス
ペーサの上側に配置され、成膜形成用の上部マスクパタ
ーンが形成された上部マスクと、このスペーサの下側に
配置され、成膜形成用の下部マスクパターンが形成され
た下部マスクとを具備し、前記上部マスクの上面に前記
成膜形成用の上部マスクパターンに対応する貫通孔が設
けられた磁性体からなるマスク押さえ上板を配置し、前
記下部マスクの下面に前記成膜形成用の下部マスクパタ
ーンに対応する貫通孔が設けられた磁性体からなるマス
ク押さえ下板を配置してなる成膜マスク装置において、
前記マスク押さえ上板と前記上部マスク、または、前記
マスク押さえ下板と前記下部マスクの間に密着配置さ
れ、前記マスクパターンに対応する貫通孔を有するシー
ト状マグネットを具備してなることを特徴とする。
【0021】上記構成により、上下部マスクの固定がよ
り確実になるとともに、磁石保持板が不要となり、薄型
化が可能である。しかも、成膜マスク装置の着脱作業に
おけるシート状のマグネットの着脱も、極めて簡単に行
えるため、マスキング装置の組立作業、分解作業につ
き、飛躍的に作業性を高めることができる。
【0022】また、シート状マグネットを採用したこと
により、上下のマスク押さえ板、上下部マスクの密着面
に対して、均一に磁力がはたらき、マスクの一部が浮き
上がった状態で保持されることもなくなり、水晶板がず
れたり、浮き上がったりした状態で固定されることがな
くなる。従って、水晶板の所望の位置に電極が形成され
ず、成膜状態が低下することもなくなった。
【0023】
【実施の形態】本発明による実施例を、円盤形状の水晶
板を用いる水晶振動子の電極形成を例にとり、図面とと
もに説明する。図1は本発明の実施例による成膜マスク
装置を示す分解斜視図である。なお、従来例と同様の部
分については同番号により説明する。
【0024】成膜マスク装置は最下部から、マスク押さ
え下板1、下部マスク3、シート状マグネット7、スペ
ーサ4、上部マスク5、マスク押さえ上板6からなる。
最下部のマスク押さえ下板1は例えばSUS−430等
の磁性体からなる。このマスク押さえ下板1は後述の各
マスク構成体を位置決めする突起部13,14が長手方
向の両端に設けられるとともに、上述の下部マスクの下
部マスクパターンを露出させる貫通孔11が複数個形成
されている。
【0025】この下部押さえ板1の上面には例えばSU
S−403等の非磁性体からなる下部マスク3が密着し
て配置されている。下部マスク3には後述の複数の水晶
板Bの所定の位置に対応する下部マスクパターン31が
水晶板個々に対応して複数個形成されているとともに、
後述するシート状マグネットの磁力を前記マスク押さえ
下板1に伝える透磁孔(貫通孔)32が形成されてい
る。なお、図示しないが、前記透磁孔32の代わりにメ
ッシュの窓を設けてもよい。
【0026】この下部マスク3の上面にはシート状マグ
ネット7が密着して配置されている。シート状マグネッ
ト7には前述の貫通孔11に対応し、下部マスクパター
ンを露出させる貫通孔71が複数個形成されている。こ
のシート状マグネットは、例えば、鉄・クロム・コバー
ル合金等からなる磁性体金属板に公知の手法を用いて磁
化し、シート状マグネットとして構成したものである。
【0027】このシート状マグネット7の上面にはスペ
ーサ4が密着して配置されている。スペーサ4は例えば
SUS−430等の磁性体からなり、水晶板Bを所定の
間隔で複数個位置決め収納する貫通孔41が設けられて
いる。
【0028】このスペーサ4の上面には非磁性体からな
る上部マスク5が密着配置されている。上部マスク5に
は前述の水晶板Bの所定の位置に対応する上部マスクパ
ターン51が水晶板個々に対応して複数個形成されてい
るとともに、前記シート状マグネットの磁力を後述する
マスク押さえ板6に伝える透磁孔(貫通孔)52が形成
されている。なお、図示しないが、前記透磁孔52の代
わりにメッシュの窓を設けてもよい。
【0029】最上部には磁性体からなるマスク押さえ上
板6が配置されている。このマスク押さえ上板6には、
上述の上部マスクの上部マスクパターンを露出させる貫
通孔61が複数個形成されている。
【0030】なお、各マスク構成体には、前述の突起部
13,14が貫通する貫通孔33,34,73,74,
43,44,53,54,63,64が設けられてい
る。このような構成により、各マスク構成体は位置ずれ
することなく磁力により一体化することができる。
【0031】このように被成膜形成体を一体化した成膜
マスク装置を真空蒸着法、スパッタリング法等により物
理蒸着を行うことにより、所望の成膜パターンの成膜形
成体を得ることができる。
【0032】なお、上記実施例では、下部マスク3とス
ペーサ4の間にシート状マグネット7を密着配置した構
成であるが、上部マスク5とスペーサ4の間にシート状
マグネット7を密着配置した構成でもよい。さらに、マ
スク押さえ下板1と下部マスク3の間にシート状マグネ
ット7を密着配置した構成、または、マスク押さえ上板
6と上部マスク5の間にシート状マグネット7を密着配
置した構成でもよい。そして、上下部マスクを非磁性体
とした構成であるが、一方のマスクのみを磁性体とし、
他方のマスクを非磁性体としてもよい。さらに、両方の
マスクを磁性体にしてもよい。このように磁性体として
構成されたマスクには前記透磁孔を形成しなくてもよ
い。また、マスク押さえ上板、マスク押さえ下板を有す
る構成について説明したが、マスク押さえ上板、マスク
押さえ下板を割愛した構成とすることもできる。また、
被成膜形成体を円盤形状の水晶板としたが、矩形状、音
叉形状等の他の形状の水晶板、ならびに水晶フィルタに
も適用できる。さらに、他の圧電振動子であってもよ
く、電子部品の電極形成等幅広く成膜形成体に適用でき
るものである。
【0033】
【発明の効果】請求項1によれば、磁石保持板が不要と
なり、薄型化が可能である。しかも、成膜マスク装置の
着脱作業におけるシート状のマグネットの着脱も、極め
て簡単に行えるため、マスキング装置の組立作業、分解
作業につき、飛躍的に作業性を高めることができる。
【0034】また、シート状マグネットを採用したこと
により、スペーサ、上下部マスクの密着面に対して、均
一に磁力がはたらき、マスクの一部が浮き上がった状態
で保持されることもなくなり、水晶板がずれたり、浮き
上がったりした状態で固定されることがなくなる。従っ
て、水晶板の所望の位置に電極が形成されず、成膜状態
が低下することもなくなった。
【0035】請求項2によれば、上記作用効果に加え
て、上下部マスクの固定がより確実になるため、水晶板
のずれ込み、浮き上がりをなくし、より確実で信頼性の
高い成膜が行える。
【0036】請求項3によれば、上下部マスクの固定が
より確実になるとともに、磁石保持板が不要となり、薄
型化が可能である。しかも、成膜マスク装置の着脱作業
におけるシート状のマグネットの着脱も、極めて簡単に
行えるため、マスキング装置の組立作業、分解作業につ
き、飛躍的に作業性を高めることができる。
【0037】また、シート状マグネットを採用したこと
により、上下のマスク押さえ板、上下部マスクの密着面
に対して、均一に磁力がはたらき、マスクの一部が浮き
上がった状態で保持されることもなくなり、水晶板がず
れたり、浮き上がったりした状態で固定されることがな
くなる。従って、水晶板の所望の位置に電極が形成され
ず、成膜状態が低下することもなくなった。
【0038】このように、本発明よれば、成膜マスク装
置の組立作業を容易にするとともに、被成膜形成体のず
れ込みをなくし、成膜不良をなくした、作業性、信頼性
の高い成膜マスク装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す分解斜視図。
【図2】従来例を示す図。
【符号の説明】
1 マスク押さえ下板 2 磁石保持板 3 下部マスク 4 スペーサ 5 上部マスク 6 マスク押さえ上板 7 シート状マグネット M 磁石

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被成膜形成体を複数個収納する収納孔を
    形成し、被成膜形成体をこの収納孔に収納した磁性体か
    らなるスペーサと、このスペーサの上側に配置され、成
    膜形成用の上部マスクパターンが形成された上部マスク
    と、このスペーサの下側に配置され、成膜形成用の下部
    マスクパターンが形成された下部マスクとを少なくとも
    有する成膜マスク装置において、 前記スペーサと前記上部マスク、または、前記スペーサ
    と前記下部マスクの間に密着配置され、前記マスクパタ
    ーンを露出させるとともに、前記スペーサの収納孔に対
    応して形成された貫通孔を有するシート状マグネットを
    具備してなることを特徴とする成膜マスク装置。
  2. 【請求項2】前記上部マスクの上面に前記成膜形成用の
    上部マスクパターンに対応する貫通孔が設けられた磁性
    体からなるマスク押さえ上板を配置し、前記下部マスク
    の下面に前記成膜形成用の下部マスクパターンに対応す
    る貫通孔が設けられた磁性体からなるマスク押さえ下板
    を配置したことを特徴とする特許請求項1記載の成膜マ
    スク装置。
  3. 【請求項3】 被成膜形成体を複数個収納する収納孔を
    形成し、被成膜形成体をこの収納孔に収納した磁性体か
    らなるスペーサと、このスペーサの上側に配置され、成
    膜形成用の上部マスクパターンが形成された上部マスク
    と、このスペーサの下側に配置され、成膜形成用の下部
    マスクパターンが形成された下部マスクとを具備し、 前記上部マスクの上面に前記成膜形成用の上部マスクパ
    ターンに対応する貫通孔が設けられた磁性体からなるマ
    スク押さえ上板を配置し、前記下部マスクの下面に前記
    成膜形成用の下部マスクパターンに対応する貫通孔が設
    けられた磁性体からなるマスク押さえ下板を配置してな
    る成膜マスク装置において、 前記マスク押さえ上板と前記上部マスク、または、前記
    マスク押さえ下板と前記下部マスクの間に密着配置さ
    れ、前記マスクパターンに対応する貫通孔を有するシー
    ト状マグネットを具備してなることを特徴とする成膜マ
    スク装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007077471A (ja) * 2005-09-15 2007-03-29 Daishinku Corp 成膜マスク装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007077471A (ja) * 2005-09-15 2007-03-29 Daishinku Corp 成膜マスク装置
JP4618066B2 (ja) * 2005-09-15 2011-01-26 株式会社大真空 成膜マスク装置

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