JPH04137051U - 真空吸着保持装置 - Google Patents
真空吸着保持装置Info
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- JPH04137051U JPH04137051U JP4355391U JP4355391U JPH04137051U JP H04137051 U JPH04137051 U JP H04137051U JP 4355391 U JP4355391 U JP 4355391U JP 4355391 U JP4355391 U JP 4355391U JP H04137051 U JPH04137051 U JP H04137051U
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- Japan
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- suction
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- vacuum
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- vacuum suction
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体基板などの薄片の移動に対し、薄片を
ステージ面とほぼ平行な姿勢に保って、安全に戴置可能
な真空保持装置の提供。 【構成】 真空保持具10の吸着面14Aを人手等によ
って把持される棒状の把持部11に対して斜めに傾けて
形成する。
ステージ面とほぼ平行な姿勢に保って、安全に戴置可能
な真空保持装置の提供。 【構成】 真空保持具10の吸着面14Aを人手等によ
って把持される棒状の把持部11に対して斜めに傾けて
形成する。
Description
【0001】
本考案は、真空吸着保持装置に関し、詳しくは、半導体素子形成用の基板など
、薄片を移動若しくは移し換えのために先端部に真空を供給して保持可能な真空
吸着保持装置に関する。
【0002】
半導体素子の製造では、その過程において、ウエハーあるいはこれから切出さ
れた基板などが取扱われるが、その取扱いに際しては、従来からピンセットか真
空吸着保持具が多く使用されてきた。このうち、ピンセットによるものは周知の
ように二又に形成されたばね性を有する部材の先端部で薄片の両面を挾持するよ
うになっている。また、真空吸着保持具によるものは、図5に示すように、人手
若しくは移動手段によって把持される把持部1と、把持部1に取付けられた薄片
保持部2、薄片保持部2の先端部に設けられ、吸引口3を具えた吸着部4および
不図示の真空ポンプに連絡され、吸着部4に真空を供給するための吸引チューブ
5等を具えている。
【0003】
そして、このような真空吸着保持具6によるものは、その吸着部4に送給され
る真空を利用して、ここに基板などの表面または裏面のいずれかを吸着させ、保
持した状態で移動させた上、図6の(a)に示すようにして、次の作業がなされ
るステージ7上に運ばれる。なお、本例の場合は、基板8の表面8A側がステー
ジ7上で上向きとなるようにセットされる、例えば、顕微鏡のステージ7へのセ
ット状況を示す。かくして図6の(a)に示すような姿勢で、基板8の一端がス
テージ7上にほぼ接すると、そのあと、真空吸着保持具6への真空供給が停止さ
れ、真空吸着保持具6を図6の(b)で示すように、本例の場合は基板8と平行
する方向に移動させることにより基板8をステージ7上に倒す形で戴置すること
ができる。
【0004】
なお、図6において、θは上記の状態で基板8がステージ7の面との間でなす
角度を示し、上述の矢印で示す移動方向Aを以下では作業方向と呼ぶこととする
。
【0005】
しかしながら、上述したような従来保持具のうち、ピンセットによるものは、
基板の両面をその二又の先端部で挾持するために、基板の大切な表面に傷がつく
のみならずピンセットを介して汚れが付き易い。そこで、最近では真空保持装置
が多く使用されているが、従来のこの種の装置では、図6に示すように、吸着部
4の吸着面と、保持具6が操作のために移動される作業方向Aとが一致している
ために、基板8とステージ7との間に角度θが保たれることになる。よって、図
6の(a)の状態から保持具6を作業方向Aに操作して、(b)のように基板8
をステージ7上に倒すときに、その衝撃で基板8を破損する虞があった。なお、
このような問題は、あるステージ上に基板が裏向きの状態で戴置される場合につ
いても発生する。
【0006】
本考案の目的は、以上に述べたような従来の問題に着目し、その解決を図るべ
く、基板をこれが移動される先の台上にほぼ平行する姿勢を保って、戴置可能な
ようにした真空吸着保持装置を提供することにある。
【0007】
かかる目的を達成するために、本考案は、人手等によって把持される棒状の把
持部と、該把持部の先端部に設けられ、薄片の真空吸着が可能な吸着面を有する
吸着部とを具えた真空吸着保持装置であって、前記吸着面を前記把持部に対して
斜めに傾けて形成したことを特徴とするものである。
【0008】
本考案によれば、人手等によって把持される把持部の自然体による傾斜にかか
わらず、真空吸着される方の基板を水平に保つことができるので、ステージ上か
ら基板を吸着したり、基板をステージ上にセットするのに基板を破損させたりす
ることなく安全に実施することができる。
【0009】
以下に、図面を参照しつつ本考案の実施例を具体的に説明する。
【0010】
図1は、本考案の一実施例を示す。ここで、10は本考案にかかる真空吸着保
持具の一例を示し、11はその把持部、12は薄片保持部、13は吸引口、14
は吸引口13を有し、薄片保持部12の先端に設けられた吸着部材である。本例
の真空吸着保持具10は吸着部材14により移動前の台(前段のステージという
)で基板の裏面側を吸着保持し移動先の台(後段のステージという)上に基板の
表面側を上向きにして戴置するに好適な例である。本例の保持具10におけるそ
の吸着部材14は、図示のようにくの字型に折曲げられていて、その基板吸着面
14Aを有する吸着部14Bが、把持部11から延在される薄片保持部12の延
在方向に対して上向きの傾斜を持つようにしてある。
【0011】
なおここで、吸着面14Aが上記延在方向となす角度は先に述べた作業方向A
がステージ7の面となす角度θと近い角度に設定されることが望ましい。
【0012】
このように設定することにより以下に示すような基板の取扱い時に基板をステ
ージ上にほぼ平坦な形でセットすることが可能となる。
【0013】
図2は、このように構成した真空吸着保持具10により基板を保持し、基板の
表面を常に上向きに保つようにしてステージ間の移動を行う例を示す。なお、図
2では好適例として、前段,後段のステージ7上にそれぞれ吸着部14Bの差込
みが可能な基板操作用の溝7Aが設けられている場合の例が示されている。従っ
て、この場合は、保持具を作業方向Aに沿ってステージ7に向け移動させ、その
吸着部14Bを溝7Aに沈めるようにすることにより基板8の裏面側をステージ
7の上面にほぼ合わせた状態に保つことかできる。そこで、このあと、吸着部材
14への真空の供給を停止することにより、基板8を保持具10から解放して、
基板8の表面8Aを上向きに保った状態でステージ7上にセットすることができ
る。
【0014】
図3は、基板の裏面を常に上向きに保つようにしてステージ間の移動を行うに
好適な真空吸着保持具10の例を示す。すなわち、本例では、作業方向Aに対し
て適切な角度(好ましくは先に述べた角度θ)折曲げて形成された吸着部材14
に対し、その吸着部14Bの図1とは反対側の面が吸着面14Aとして構成され
ている。従って、吸引口13も把持部11からすれば外向きの吸着面14Aに形
成されるもので、このような保持具10によってステージ7上の基板8を移動操
作するときの状態を図4に示す。
【0015】
本例の場合は、前段のステージ7上から基板8を取上げるときも後段のステー
ジ7上にセットするときも共に基板8の表面8Aが下向きに置かれるような作業
時に好適なものである。すなわち、作業者は、真空吸着保持具10の把持部11
を把持した通常の作業姿勢において把持部11を水平面に対してほぼ角度θ°傾
けた状態に保つことができるので、そのまま把持部11を作業方向Aに移動させ
ることによりその吸着面14Aを水平な状態に保ったまま、基板8に対して真空
吸着および吸着からの解放を行うことができる。
【0016】
なお、以上に述べた実施例では、好適例として半導体基板を取扱うために使用
される場合について述べたが、本考案の適用は半導体基板には限らず、半導体基
板が切出されるウエハーや、その他の微細な薄片を、特に人手で移動させる場合
に広く適用できるものであることはいうまでもない。
【0017】
以上説明してきたように、本考案によれば、人手等によって把持される棒状の
把持部と、該把持部の先端部に設けられ、薄片の真空吸着が可能な吸着面を有す
る吸着部とを具えた真空吸着保持装置であって、前記吸着面を前記把持部に対し
て斜めに傾けて形成したので、吸着面に半導体基板などの薄片を真空吸着させて
、ステージ間を移動させるのに、人手等によって自然体のまま把持される把持部
がステージ面に対して傾くにかかわらず、吸着面に吸着保持される薄片の方はス
テージに対してほぼ平行に保たれることにより作業がしやすいばかりでなく、特
に薄片を後段のステージにセットする場合の薄片の姿勢をステージ面に合わせて
水平に保つことができるので、ステージ上に薄片を倒して破損させたりするのを
防止することができる。
【図1】本考案の構成の一例を示す斜視図である。
【図2】図1に示す保持装置による動作の説明図であ
る。
る。
【図3】本考案の他の実施例の構成を示す側面図であ
る。
る。
【図4】図3に示す保持装置による動作の説明図であ
る。
る。
【図5】従来例の構成を示す斜視図である。
【図6】図5に示す装置による動作の説明図である。
8 基板
8A 表面
10 真空保持具
11 把持部
12 薄片保持部
13 吸引口
14 吸着部材
14A 吸着面
14B 吸着部
A 作業方向
Claims (1)
- 【請求項1】 人手等によって把持される棒状の把持部
と、該把持部の先端部に設けられ、薄片の真空吸着が可
能な吸着面を有する吸着部とを具えた真空吸着保持装置
であって、前記吸着面を前記把持部に対して斜めに傾け
て形成したことを特徴とする真空吸着保持装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4355391U JPH04137051U (ja) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | 真空吸着保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4355391U JPH04137051U (ja) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | 真空吸着保持装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04137051U true JPH04137051U (ja) | 1992-12-21 |
Family
ID=31923877
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4355391U Pending JPH04137051U (ja) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | 真空吸着保持装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04137051U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100308784B1 (ko) * | 1998-10-30 | 2001-12-17 | 곽정소 | 웨이퍼의 진공 흡착기 |
JP2016162914A (ja) * | 2015-03-03 | 2016-09-05 | 株式会社ディスコ | 真空ピンセット |
-
1991
- 1991-06-11 JP JP4355391U patent/JPH04137051U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100308784B1 (ko) * | 1998-10-30 | 2001-12-17 | 곽정소 | 웨이퍼의 진공 흡착기 |
JP2016162914A (ja) * | 2015-03-03 | 2016-09-05 | 株式会社ディスコ | 真空ピンセット |
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