JPH04130656A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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Publication number
JPH04130656A
JPH04130656A JP2253136A JP25313690A JPH04130656A JP H04130656 A JPH04130656 A JP H04130656A JP 2253136 A JP2253136 A JP 2253136A JP 25313690 A JP25313690 A JP 25313690A JP H04130656 A JPH04130656 A JP H04130656A
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JP
Japan
Prior art keywords
wafer
control circuit
circuit
integrated circuit
semiconductor integrated
Prior art date
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Pending
Application number
JP2253136A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuya Kinoshita
充矢 木下
Shigeru Kikuta
菊田 繁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH04130656A publication Critical patent/JPH04130656A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体集積回路に関し、特に複数の機能ブロ
ックを有する半導体集積回路に関するものである。
[従来の技術] 半導体集積回路においてウェハスケールインテグレーシ
ョン(以下WSIと呼ぶ)と呼ばれるデバイスが広く知
られている。このデバイスは、単一のウェハ上に回路を
構成し、ウェハをグイシングすることなくウェハ全体に
まとまった機能をもたせている。
第3図は従来のWSIの一例を示す平面図である。同図
を参照して、この半導体集積回路はランダムアクセス記
憶装置である。ウェハW内には、それぞれ独立した複数
のメインメモリ2がマトリクス状に配置されている。さ
らに、ウェハWの周辺部分に、このWSI全体の制御を
行なう制御[路4が配置されている。制御回路4の内部
には、WSIの外部と信号のやりとりを行なう接続端5
が配置されている。さらに、メインメモリ2、制御回路
4、接続端子5は互いに配線パターン(図示しない)に
よって結ばれている。
この従来のWSIの一例では、メインメモリ2は冗長回
路(図示しない)をもち、制御回路4I。
冗長回路をもたない。この第3図に示した従来σWSI
においては、メインメモリ2のうち、制情回路4に最も
近いメインメモリ2人は、制御回路4から距離り、の近
傍に配置されているため、6線遅延は小さく、メインメ
モリ2Aに対してのツクセスは高速で行なうことができ
る。しかし、市御回路4から最も遠いメインメモリ2B
は、制復回路4から距離L2の位置に配置されており、
L2が長いため配線遅延が大きく、メインメモリ2Bに
対してのアクセスは高速で行なうことができない。この
ため、WS■全体の速度が低下するという問題がある。
さらに、このWSIでは、制御回路4に欠陥か生した場
合は、制御回路4が冗長回路をもたないため、WSI全
体の機能は失われる。したがって、制御回路4は欠陥の
生じにくい部分に配置されることが望ましい。一方、メ
インメモリ2に欠陥が生じた場合には、冗長回路により
多くの場合救済が可能である。しかし、前記従来のWS
Iにおいては、制御回路4は欠陥の生じやすいウェハ周
辺部に配置されている。このウェハの周辺部は製造上の
ばらつきなどによる欠陥が発生しやすいということが知
られている。よって、前記従来のWSIには製造時の歩
留りが低下するという問題がある。
第4図は、U、S、 P、 4.493.055に示さ
れたWSIの他の一例を示す図である。同図のWSIは
、シリアルアクセスメモリと呼ばれる構成をもち、シー
ケンシャルにデータの読書きを行なう記憶装置である。
したがって、通常のランダムアクセスメモリのような、
アドレスを指定してランダムアクセスを行なう機能はも
たない。同図を参照して、ウェハW内には、それぞれ独
立した複数のメインメモリ2がマトリクス状に配置され
ている。それぞれのメインメモリ2の内部にはメインメ
モリ2同士の接続を制御するための回路(図示しない)
が内蔵されている。ウェハWの概略中心には、WSIの
外部と信号のやりとりを行なうための接続端子の組5a
、  5b、  5c、  5dがそれぞれ配置されて
いる。接続端子の組5aに接続されるメインメモリ2を
メインメモリ2aとする。接続端子の組5bに接続され
るメインメモリ2を、メインメモリ2bとする。接続端
子の組5Cに接続されるメインメモリ2を、メインメモ
リ2cとする。接続端子の組5dに接続されるメインメ
モリ2を、メインメモリ2dとする。さらに、メインメ
モリ2は相互に複数の配線パターンによって隣接するす
べての他のメインメモリに接続されている。ここで、こ
のWSIはシリアルアクセスメモリであるため、この配
線パターンはアドレス信号を伝達する必要はな(、多数
のメインメモリ2の相互接続が容易に実現される。
このWSIにおいて、上記半導体集積回路がウェハW上
に形成された後メインメモリ2の検査を行ない、良品で
あったメインメモリ2のみを螺旋状に相互接続する信号
経路8がメインメモリ2同士の接続を制御する回路によ
って形成される。不良となったメインメモリ2は、前記
メインメモリ2同士の接続を制御する回路によって電気
的に切離される。ここで、前記メインメモリ2a、2b
2c、2dのうちいずれか1つか良品であれば、前記接
続端子の組5a、5b、5c、5dのいずれかを用いる
ことにより、wsrの外部と信号のやりとりを行なうこ
とが可能となる。また、メインメモリ2a、  2b、
2c、2d以外のメインメモリ2は、前記メインメモリ
2同士の接続を制御する回路によって置換えが可能であ
るので、製造上のばらつきなどによる欠陥がメインメモ
リ2のいずれかに生じても、多くの場合救済が可能であ
る。しかし、第4図に示したWSIは、シリアルアクセ
スメモリであるためにランダムアクセスが不可能であり
、また前記メモリの階層化を用いていないために高速化
が困難であるという問題がある。
[発明が解決しようとする課題] 以上説明したように、第3図に示した従来の半導体集積
回路においては、制御回路4から最も遠いメインメモリ
2Bが制御回路4から離れて配置されているため、半導
体集積回路全体の速度か低下するという問題がある。さ
らに制御回路4がウェハWの周辺部分に配置されている
ため、製造時の歩留りは低下するという問題がある。
また、第4図に示した従来の半導体集積回路においては
、シリアルアクセスメモリであるためにランダムアクセ
スが不可能である。
本発明は上記のような問題に鑑みてなされたものであり
、効率のよい配置を実現することにより、高速かつ高歩
留りである半導体集積回路を提供することを目的とする
[課題を解決するための手段] 本発明に係る半導体集積回路は、半導体基板と、前記半
導体基板の主表面に形成される、複数の機−能ブロック
と、 外部からの信号に応答して前記複数の機能ブロックを制
御する制御ブロックとを含む半導体集積回路であって、 前記制御ブロックは、前記半導体基板の中央に配置され
、前記複数の機能ブロックが前記制御ブロックの周囲と
前記半導体基板の周辺との間に配置されることを特徴と
する。
また、もう一つの発明は半導体ウェハに形成された複数
のメモリ手段と、外部からの読出/書込信号に応答して
、前記複数のメモリ手段への書込制御および、前記複数
のメモリ手段からの続出制御を行なうための制御手段と
を形成した半導体集積回路であって、 前記制御手段はウェハの中央に配置され、前記複数のメ
モリ手段は前記制御手段の周囲とウェハの周辺との間に
配置されることを特徴とする。
[作用] 上記構成の本発明では、複数の機能ブロックの、制御ブ
ロックからの距離は、従来のものと比較して平均化され
る。このため、配線の長さが異なることによる信号の遅
延が生じにくい。また、制御ブロックと、動作速度の速
い機能ブロックとは、半導体基板の周辺部に配置されな
いため、歩留りか向上する。
[実施例] 第1図は本発明の半導体集積回路の一実施例を示す平面
図である。第1図において、ウェハW内には、それぞれ
独立したメインメモリ2がマトリクス状に配置されてい
る。ここで、メインメモリ2はウェハWの周辺に配置さ
れている。さらに、ウェハWの概略中央に、このWSI
全体の制御を行なうための制御回路4が配置されている
。制御回路4の内部には、WSIの外部と信号のやりと
りを行なうための接続端子5が配置されている。
さらに、メインメモリ2、制御回路4、接続端子5は互
いに配線パターン(図示しない)によって結ばれている
。ここで、メインメモリ2は冗長回路(図示しない)を
持ち、制御回路4は冗長回路をもたない。
第2図は前記第1図の半導体集積回路のブロック図であ
る。同図において、メインメモリ2は、アドレスデコー
ダ21と、メモリセル22とデータ入出力回路23とを
含む。制御回路4は外部入力端子R/Wに接続され、外
部からの読出/書込信号に応答して読出および書込のた
めの制御信号を発生するR/Wコントロール回路41と
、外部アドレスラッチ回路42と、データ入力端子Di
に接続されるデータ人力バッファ44と、データ出力端
子DOに接続されるデータ出力バッファ46とを含む。
上記第1図および第2図の半導体集積回路の動作を説明
する。
(1) 入力端子R/Wを通して入力される書込信号に
応答して、R/Wコントロール回路41は、外部アドレ
スラッチ回路42、データ人力バッファ44を能動化す
る。外部からのアドレスが外部アドルスラッチ回路42
によりラッチされ、外部からのデータがデータ人力バッ
ファ44によりラッチされる。アドレスはメインメモリ
2のデ−タ入出力回路23に与えられる。メインメモリ
2のアドレスデコーダ21は、アドレスを解読し、メモ
リセル22の指定されたアドレスにデータを書込む。
(2) 読出動作 入力端子R/Wを通して入力される読出指令に応答して
、R/Wコントロール回路41は、外部アドレスラッチ
回路42、データ出力バッファ46を能動化する。こう
することにより、外部からのアドレスが外部アドレスラ
ッチ回路42によりラッチされる。ラッチされたアドレ
スはメインメモリ2のアドレスデコーダ21に与えられ
、メインメモリ2のメモリセル22に記憶されたデータ
がデータ入出力回路23から出力される。データ入出力
回路23から出力されたデータは、データ出力バッファ
46、データ出力端子Doを通して外部に出力される。
 以上述べたよにうに、続出/書込信号、アドレス・デ
ータは必ず制御回路4を経由する。したがって記憶装置
全体の動作を高速化するためには、制御回路4を入出力
端子R/W、Di、Doの近傍に配置する必要がある。
第1図は、このことを実現した配置である。
なお、第2図においては説明を簡単にするため、メイン
メモリ2は1つにしている。
以上の本発明の実施例であれば、メインメモリ2のうち
制御回路4から最も遠いメインメモリ2Bと制御回路4
との距離L2は、前記従来例の第3図における距離L2
よりも小さい。したがって、配線遅延の最大値は従来の
WSIより小さくすることが可能であり、WS■全体の
動作を高速にすることができる。
さらに、制御回路4に欠陥が生じた場合には、制御回路
4が冗長回路をもたないため、WSI全体の機能が失わ
れる。一方、メインメモリ2に欠陥が生じた場合には、
冗長回路により多くの場合は救済が可能である。したが
って、制御回路4は欠陥の生じにくい部分に配置されて
いることが望ましい。この実施例のWSIにおいては、
冗長回路をもたない制御回路4は、製造上のばらつきな
どによる欠陥が発生しにくい部分(ウエノ1Wの概略中
央)に配置されており、欠陥が発生しゃすいウェハWの
周辺部分には、冗長回路をもつメインメモリ2が配置さ
れている。この結果、制御回路4には、不良が発生しに
(く、WSI全体の歩留まりが向上する。
なお、上記実施例では、メインメモリ2は冗長回路をも
ち、制御回路4は冗長回路をもたないが、メインメモリ
2、制御回路4の各々に冗長回路をもたせてもよい。
また、上記実施例では、WSIを示したが、WSIに代
えてダイシングされた半導体集積回路であってもよい。
また、上記実施例では半導体集積回路が記憶装置である
としたが、記憶装置に代えて、記憶装置ではない複数の
機能ブロック(たとえば論理回路)を含み、かつ制御回
路を中央に配置した半導体集積回路においても本発明は
適用することができる。
以上のごとく、本発明の要所を変更しない限り種々の設
計変更を施すことが可能である。
[発明の効果コ 以上のように、本発明にかかる半導体集積回路であれば
、複数の機能ブロックの制御ブロックからの距離は平均
化されるため配線長さか異なることによる信号に遅延が
生じにくい。また、制御ブロックは、基板の周辺部に配
置されないため、歩留りが向上するという特有の効果が
得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体集積回路の一実施例を示す平面
図、第2図は第1図の半導体集積回路のブロック図、第
3図および第4図は従来のWSIの配置を示した平面図
である。 図において、2はメインメモリ、4は制御回路、5は接
続端子、Wはウェハ、2Aは制御回路4に最も近いメイ
ンメモリ、2Bは制御回路4から最も遠いメインメモリ
である。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体基板と、 前記半導体基板の主表面に形成される、複数の機能ブロ
    ックと、 外部からの信号に応答して前記複数の機能ブロックを制
    御する制御ブロックとを含む半導体集積回路であって、 前記制御ブロックは、前記半導体基板の中央に配置され
    、前記複数の機能ブロックが前記制御ブロックの周囲と
    前記半導体基板の周辺との間に配置されることを特徴と
    する半導体集積回路。
  2. (2)半導体ウエハに形成された複数のメモリ手段と、
    外部からの読出/書込信号に応答して、前記複数のメモ
    リ手段への書込制御および、前記複数のメモリ手段から
    の読出制御を行なうための制御手段とを形成した半導体
    集積回路であって、前記制御手段はウエハの中央に配置
    され、前記複数のメモリ手段は前記制御手段の周囲とウ
    エハの周辺との間に配置されることを特徴とする半導体
    集積回路。
JP2253136A 1990-09-20 1990-09-20 半導体集積回路 Pending JPH04130656A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996041379A1 (en) * 1995-06-07 1996-12-19 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Wafer-scale integrated-circuit systems and method of manufacture

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996041379A1 (en) * 1995-06-07 1996-12-19 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Wafer-scale integrated-circuit systems and method of manufacture

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