JPH04127644U - 半導体ウエハの洗浄・乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体ウエハの表面に付着した汚れを洗浄し、
乾燥する装置を改善して、ウエハの処理量に関係なく、
常に清浄な洗浄液で効率的に洗浄できる装置を提供す
る。 【構成】図１に示すように、有機溶剤３を蒸気化して、
これを冷却槽４で液化して、ノズル５を介してウエハ１
４に向けて噴霧状に吹き付けて、表面の汚れを除去す
る。 【効果】本考案により、汚染された面のみを集中的に洗
浄し、短時間内に効率よく洗浄できるので洗浄効率は上
がり、作業効率の向上をはかることができる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、半導体ウエハの洗浄・乾燥装置に係り、特に洗浄手段を改善し、洗 浄効率をよくした洗浄・乾燥装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来から半導体ウエハ表面の油脂分を、有機溶剤を用いて洗浄する場合、２つ の方法がある。その１つは、ウエハを常温の有機溶剤中に浸漬して超音波振動を 施す方法である。他の１つは、有機溶剤を蒸気化させ、その中にウエハを投入す る方法である。この場合、投入されたウエハの表面に凝縮した有機溶剤によって 油脂分が除去される。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

前記のように、浸漬洗浄の場合には（１）洗浄液が次第に汚れて、頻繁に液を 交換しないと、汚れがウエハ表面に残留するよになる。（２）ウエハの片面のみ を洗浄したい場合でも、全面を浸漬するために、裏面を汚染してしまうことが多 かった。

【０００４】 また、蒸気洗浄の場合には、ウエハ表面に凝縮した液によって汚れを洗い流す 仕組みであるが、ウエハの温度が有機溶剤の沸点まで上昇してしまうと、それ以 上は洗浄が進まなくなってしまう。すなわち、汚染物質がウエハ表面上に残留す ることになる。これを避けるためには、蒸気洗浄処理を何回か繰返し実施しなけ ればならない。この方法は、大量生産方式には不向きである。

【０００５】 本発明の目的は、ウエハ表面の洗浄に際して、ウエハ処理数の如何に関係なく 常に清浄な洗浄液で洗浄することができる新規な半導体ウエハの洗浄・乾燥装置 を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

上記課題を解決するための本考案にかかる半導体ウエハの洗浄・乾燥装置の構 成は、半導体ウエハを有機溶剤を用いて洗浄し、乾燥する装置において、有機溶 剤の蒸留槽と、これを液化させる冷却槽と、ノズルから有機溶剤を噴霧して洗浄 する洗浄槽と乾燥設備とを具備するようにしたことである。

【０００７】

【作用】

本考案の要旨は、洗浄液を蒸気化させた後、一度冷却して液化させ、これをノ ズルを介してウエハ上に噴霧状にして吹き付けることにある。

【０００８】 この処置により、洗浄したい部分に狙いをつけて重点的に洗浄することができ る。かつ、清浄な面を汚染させることはなく行うことができる。

【０００９】

【実施例】

以下本考案の実施例を図１を用いて説明する。

【００１０】 図１は本考案の半導体ウエハの洗浄・乾燥装置の断面略示図である。

【００１１】 図１において、１は蒸留槽、２、８はヒ−タ、３、９は有機溶剤、４は冷却槽 ５はノズル、６は洗浄・乾燥槽、７は障壁、１０は受け皿、１１は排出管、１２ は凝縮液受け樋、１３は冷却コイル、１４はウエハである。

【００１２】 つぎに、操作について説明する。

【００１３】 まず、蒸留槽１内に有機溶剤（イソプロピルアルコール）３を注入し、ヒ−タ ２によって加熱する。得られた有機溶剤３の蒸気を、冷却槽４に通して液化させ る。液化した溶剤は洗浄槽に導き、ノズル５からウエハ１４にむかって蒸気圧に より噴射する。

【００１４】 ウエハ１４はノズル５から噴霧された有機溶剤３の蒸気によって完全に洗浄さ れる。有機溶剤３の温度は、冷却槽４の冷却水量を調整することにより任意に変 えることができる。したがって、ウエハ１４の数量、汚れ状況に応じて噴射温度 、圧力等を設定し、最適な洗浄を行うことができる。

【００１５】 洗浄されたウエハ１４は乾燥槽に移されて（図１で→）蒸気乾燥される。 すなわち、ウエハ１４は、受け皿１０に入れ、ヒータ８で加熱した有機溶剤９の 蒸気によって蒸気乾燥する。受け皿１０に溜ったドレン水は、排水管１１によっ て外部へ排出する。

【００１６】 半導体ウエハ用の洗浄剤としては、通常イソプロピルアルコールを用いるがこ れにかぎるわけではない。

【００１７】

【考案の効果】

本考案により、半導体ウエハの汚染した面をねらって重点的に洗浄することが でき、繰返し作業の必要はないので、洗浄効率がよく、作業効率も著しく向上す る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の実施例の半導体ウエハの洗浄・乾燥装
置の断面略示図である。

【符号の説明】

１ 蒸留槽 ２、８ ヒータ ３、９ 有機溶剤 ４ 冷却槽 ５ ノズル ６ 洗浄・乾燥装置 ７ 障壁 １０ 受け皿 １１ 排出管 １２ 凝縮液受け樋 １４ ウエハ

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】半導体ウエハを有機溶剤を用いて洗浄し、
   乾燥する装置において、有機溶剤の蒸留槽と、これを液
   化させる冷却槽と、ノズルから有機溶剤を噴霧して洗浄
   する洗浄槽と乾燥設備とを具備したことを特徴とする半
   導体ウエハの洗浄・乾燥装置。