JPH04127497A - 多層電子部品搭載用基板及びその製造法 - Google Patents
多層電子部品搭載用基板及びその製造法Info
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- JPH04127497A JPH04127497A JP2248337A JP24833790A JPH04127497A JP H04127497 A JPH04127497 A JP H04127497A JP 2248337 A JP2248337 A JP 2248337A JP 24833790 A JP24833790 A JP 24833790A JP H04127497 A JPH04127497 A JP H04127497A
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
部品搭載用基板及びその製造方法に関する。
の電子部品からの発熱を放散させるため。
部を設けると共にその反対側に放熱板を設けている(例
えば、特開昭59−’32191号公報)。
材の凹所に接着されている。そのため上記接着剤が外気
に露出している部分、つまり凹所側壁と放熱板側壁との
間を金属メッキ層により被覆することが行われている。
示すごとく、基材9に設けた凹所92内に接着剤8を介
して放熱板7を接合し、また基材裏側においては放熱板
7と基材9との間に金属メッキ層75が、また放熱板7
の上面と電子部品搭載用凹部93との間に金属メッキ層
76が形成されている。そのため、基材9の裏側から電
子部品搭載用凹部93内への湿気の浸入が遮断される。
とが対向している対向部分95において。
とがある。つまり、メッキネ良穴751を生ずる。
気が浸入して、半導体などの電子部品が損傷するおそれ
がある。特に、基材9が樹脂系のものであるときには、
湿気が上記メッキネ良穴751より上記凹所92内に浸
入し、樹脂基材内を経て電子部品(図示略)に達する。
、凹所92と放熱板7との間の前記対向部分95のクリ
アランス(約0.1〜0.21)が大きいためと考えら
れる。
ことが考えられる。しかし、凹所92の加工、放熱板7
の外形加工におけるバラツキのために、前記クリアラン
スを生じてしまう。
ごとく、凹所92を幅広く設けて、その天井面921に
おける。凹所92の側壁と放熱板7の側壁との間を広く
取る方法がある。そして。
の方法では、上記対向部分95のクリアランスが充分に
大きいため、この対向部分においても金属メッキ層75
が形成される。
ける導体回路パターン形成の自由度が阻害される。一方
、凹所92の大きさを制限すれば。
7を接着する際、接着剤8が両者の間よりはみ出す(溢
流)ことがある、そして、この接着剤のはみ出し部分が
大きいときには、金属メッキji75が形成されない。
する必要がある。
熱板が基材9の凹所92内に挿入され。
放熱板が剥離脱落するおそれがある。
きるだけ多数の導体回路を形成することが切望されてい
る。
分における金属メッキ層を確実に形成し。
品搭載用基板及びその製造方法を提供しようとするもの
である。
両者の間に接着剤を介して挟着固定した放熱板と、上記
第1基材側において該第1基材及び接着剤を貫通して放
熱板の上部までザグリ加工形成した電子部品搭載用凹部
とよりなり、また上記放熱板の裏側は上記第2基材に設
けた段付穴よりその一部を露出させてなり、また導体回
路を有する上部基材層を上記第1基材上に積層してなる
多層状の電子部品搭載用基板であって、上記第2基材の
段付穴と放熱板との対向部分には、基材と放熱板の両者
にまたがると共に上記接着剤を同一表面上に露出させた
露出凹部をザグリ加工により設けてなり、かつ上記放熱
板と露出凹部と第2基材裏側には連続した金属メッキ層
が被覆してあることを特徴とする多層電子部品搭載用基
板にある。
おいて上記露出凹部を設け、放熱板と露出凹部と第2基
材裏側面との間に連続した金属メッキ層を被覆している
こと、また第1基材と第2基材との間に放熱板を挟着固
定すると共に放熱板の裏側の一部分を第2基材の段付穴
より露出させていること、また第1基材の上に更に上記
上部基材層を積層形成して多層状としていることにある
。
がって形成されている。また、第2基材の裏側の段付穴
は1通常、第2基材の中央部分に角状或いは円状等に形
成される。そして、放熱板は凸状を有しており、その小
径部分が上記第2基材の段付穴に挿入された状態で第2
基材に保持され、放熱板の裏側が外部へ露出している(
第1図参照)。そのため、放熱板の小径部は上記段付穴
と相似形に設けられる。それ故、上記対向部分は通常は
角状3円状等の環状に形成される(第3図参照)。
対向部分に充填されている。そして、該対向部分におい
て、ザグリ加工によって設けた前記露出凹部には、接着
剤が露出した状態にある。
上にある。
、ガラス−エポキシ樹脂、ガラス−ビスマレイミド−ト
リアジン樹脂、ガラス−ポリイミド樹脂等がある。また
、放熱板としては、銅、鉄系合金、銅系合金等がある。
れる接着シートがある。また、接着剤の材料としては、
エポキシ樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂(BT
樹脂)、ポリイミド樹脂等がある。また、金属メッキ層
の材料としては、銅。
0.3鵬とすることが好ましい、0゜0層閣未満では、
放熱板と段付穴との寸法精度が厳しくなり、一方0.3
閣を越えると接着剤層の幅が大きくなりすぎて金属メッ
キ層が充分に形成されないおそれがある。
とが好ましい。0.05Il111未満では基材の厚み
精度と露出凹部の加工精度が厳しく、一方。
大きすぎるからである。
しい、0.5−未満では加工する刃の径が小さすぎて折
れ易く、一方、2,0閣を越えると加工される凹部がデ
ッドスペース(D e a dSp a c e)とな
り配線有効面積に制限を受けることになるからである。
いる。そして、該上部基材層は、上記と同様の接着剤に
より、第1基材の導体回路の上に積層接着されている。
。また、上記上部基材層は、1層或いは2〜5層などの
複数層を設けることもできる。
、第2基材の裏側に放熱板の裏側を露出させるための段
付穴を設け、ついで、該第2基材の段付穴と第1基材と
の間に放熱板を挟着すると共に第2基材と該1基材と放
熱板とを接着剤を介して接着し、また該接着剤を第2基
材裏側における段付穴側壁と放熱板側壁との対向部分の
開口部近くまで充填し、ついで、該対向部分において第
2基材と放熱板との両者にまたがるザグリ加工を行い、
上記接着剤を露出させた露出凹部を形成しまた。第1基
材側においては第1基材及び接着剤を貫通して放熱板の
上部までザグリ加工を行って電子部品搭載用凹部を形成
し、また、上記放熱板と露出凹部と第2基材裏側面との
間には連続した金属メッキ層を形成し、かつ上記第1基
材の上に導体回路を有する上部基材層を積層接着するこ
とを特徴とする多層電子部品搭載用基板の製造方法があ
る。
と第2基材との間に放熱板を接着するに当たり、接着剤
を上記段付穴と放熱板との対向部分の開口部近くまで充
填し9次いで該対向部分を放熱板と第2基材にまたがっ
てザグリ加工して上記露出凹部を形成し、その後金属メ
ッキ層を形成すること 放熱板を第1基材と第2基材と
の間に挟着すると共に第2基材の段付穴から放熱板の裏
側を露出させていること、及び上記第1基材の上に更に
上部基材層を積層接着することである。
部に若干はみ出させることが好ましい。
されたことが確認できる。このはみ出した接着剤は、上
記露出凹部の形成の際に、ザグリ加工により対向部分に
おける放熱板及び第2基材と共に取り除かれる。
半円状(第4図)、三角状(第5図)楕円状(第6図)
など、特に接着剤露出部分がメッキされ易い形状とする
。
ね合わせたとき5両者によって形成される空間部とほぼ
同じである(第2A図、第7A図参照)。
設ける場合、設けない場合がある。
放熱板にまたがる前記露出凹部を設け。
。それ故、第2基材裏側に金属メッキ層を被覆したとき
、該金属メッキ層は上記露出凹部表面に完全に形成され
ることとなる。
第2基材の順に並んで同一面上に形成されている。それ
故、金属メッキ層はこれらの間に連続して形成されるこ
ととなる。もしも、前記従来のごとく、上記対向部分に
接着剤が存在していない場合、或いは接着剤がはみ出し
ている状態の場合には金属メッキ層を完全に連続形成さ
せることができない。
充填し、その後対向部分の開口部をザグリ加工して露出
凹部を形成する。そのため、接着剤は、対向部分を満た
すに充分な量を用い、場合によってははみ出させても良
い。それ故、従来のごとく接着剤がはみ出ないように、
かつ充填するに丁度良い量に調整する必要もない。
分の間隔を大きくする必要がない、それ故、放熱板はパ
ターン形成に可能な限り、大きくすることができ、放熱
性を向上させることができる。
側に連続した金属メッキ層が形成しであるので、を子部
品搭載用凹部に基材裏側から湿気が浸入することがない
。
れているので、従来のごとく放熱板が脱落するおそれが
ない。
に、更に導体回路を有する上部基材層を積層接着してい
る。それ故、導体回路を第1基材と上部基材層の両方に
多数設けることができ、if電子部品搭載用基板高度の
機能を有することとなる。
属メッキ層を確実に形成し、接着剤量の調整の必要がな
く、更に放熱板の脱落のおそれがない、高機能の多層電
子部品搭載用基板を提供することができる。
多層電子部品搭載用基板を容易に製造することができる
。
、第1図〜第3図を用いて説明する。
く、導体回路94を設けた第1基材IAと、第2基材I
Bと5両者の間に接着剤3を介して挟着固定した放熱板
2と、上記第1基材IA側において該第1基材IAと接
着剤3を貫通して放熱板2の上部までザグリ加工形成し
た電子部品搭載用凹部13とよりなる。
た段付穴11Bより、その一部を露出させている。また
、上記第2基材IBの段付穴11Bと放熱板2の対向部
分には、第2基材IBと放熱板の両者にまたがると共に
上記接着剤3を同一表面上に露出させた露出凹部4(第
2C図)をザグリ加工により設けである。
には連続した金属メッキ層75が被覆しである。
凹部13の内面に金属メッキ層76が形成され、第1基
材IAの上面には導体回路94が形成しである。更に、
第1基材及び第2基材を貫通しているスルーホール98
には、導体ピン99が挿入しである。スルーホール98
の内部には金属メッキ層981が形成しである。
100が接着剤35を介して接着されている。また、該
上部基材層100の上面には導体回路940が形成され
ている。
A図〜第2F図及び第3図を用いて説明する。
裏側に、放熱板2の裏側22を露出させるための段付穴
11Bを設ける。また、第1基材IAにおいては、その
裏側に放熱板2の内面側21を挿入する内面凹所11A
をザグリ加工により設ける。
22を、大径部が内面側21を構成している。そして、
該放熱板2の形状は、上記第1基材IAと第2基材IB
とを重ね合わせたときに形成される空間と同じである(
第2B図参照)、また、第2基材IBは段付穴11Bに
、放熱板の裏側22を挿入する開口部12Bを有する。
である。
Bに接着剤3を付着させる。その後、第2B図に示すご
とく、第1基材IAと第2基材IBとの間に放熱板2を
挟持し、加熱加圧し、放熱板2を接着する。
と放熱板2の間に、及び第2基材の段付穴11Bと放熱
板2との間、即ち対向部分120内に充填される。また
、接着剤3は、該対向部分120の開口部121より外
部にはみ出しく溢流)で、はみ出し部31を形成してい
る。そのため、放熱板2と第2基材の段付穴11Bとの
間は。
時には、第1基材IAと第2基材IBとは同時に接着剤
3により接着される。
いて第2基材IBと放熱板2との両者にまたがるザグリ
加工を行い、露出凹部4を形成する。該露出凹部4の天
井面は、第2基材IBに形成された段部13Bと、放熱
板2に形成された段部24と1両者の間に露出した接着
剤3の露出面32とよりなり、これらは同一面上にある
。
ごと<、1を子部品搭載用凹所13をザグリ加工により
形成し、放熱板2の内面側を露出させる。即ち、第1基
材IAと接着剤3とを貫通すると共に放熱板2の内面側
の一部まで達するザグリ加工を行う、また、該電子部品
搭載用凹部13においては、その側壁131と接着剤の
露出面33とは同一面上にある。
いて、放熱板2.露出凹部4.第2基材IBの表面に連
続した金属メッキ層75を形成する。また、第1基材I
Aの表側においても電子部品搭載用凹部13に金属メッ
キ層76を形成する。
回路94の形成を行う。
回路94の上にプリプレグ接着*J35を介して上部基
材層100を積み重ね、加熱圧着して、これらを接合す
る。上記上部基材層100は表面に導体回路940を有
する。また、プリプレグ接着剤35及び上部基材層10
0は、第1基材1の電子部品搭載用凹部13の部分に開
口部350.105を5またスルーホール98を有して
いる。
のものは、前記第1図に示したものと同様である。
記第2基材IBの段付穴11Bと放熱板2との間の対向
部分120において、第2基材lBと放熱板2にまたが
る露出凹部4を形成し、第2基材IB、露出凹部4.放
熱板2に連続した金属メッキ層75を設けている。そし
て、上記露出凹部4においては、第2C図に示すごとく
、第2基材の段部13Bと接着剤の露出面32と放熱板
の段部24が同一面上にある。そのため5金属メッキ層
75が、これらの表面に確実に連続形成される。
着に当たり、接着剤3のはみ出し部31を形成させてい
る。そのため、接着剤3は、放熱板2と凹所11との間
に完全に充填される。そして、このはみ出し部31は、
第2C図に示すごとく、ザグリ加工による露出凹部4形
成の際に除去される。
32(第2C図)が形成され、前記金属メッキ層75が
確実に形成される。また、そのため、従来のごとく、接
着剤のはみ出し防止、接着剤の充填等のために、接着剤
量の調整を行う必要がない。
る必要がない。そのため、放熱板は、できるだけ大きく
配設することができ、放熱性が向上する。また、放熱板
、露出凹部、第2基材裏側に、連続した金属メッキ層7
5が形成されているので、1i子部品搭載部分に基材裏
側から湿気が浸入することもない。
第2基材IBとにより挟着固定されているので、長期間
の使用においても放熱板2が脱落することがない。
体回路94を、上部基材層100に導体回路940を設
けて多層状に構成している。そのため、多数の導体回路
を形成でき、高機能である。
ることもできる(特願平1−291756号参照)。
では、その側壁と底面に形成したが、該金属メッキ層7
6は、電子部品搭載用凹部の開口部周縁に対しても形成
することができる。また該金属メッキ層76は、電子部
品搭載用凹部の側壁上方には設けないこと、電子部品搭
載用凹部の底面には設けないことという態様も取り得る
。
回路端子は1通常は、基材表面の導体回路の端子にワイ
ヤーによりボンディングする。しかし、場合によっては
、電子部品のアース端子の1つを放熱板自体に直接ボン
ディングすることもできる。
ける露出凹部4の形状を種々変えたものである。
Bの円弧状面141と、接着剤の露出面32と、放熱板
の円弧状面212とよりなる。
Bの斜面142と、接着剤の露出面32と放熱板の斜面
213とよりなる。
IBの弧面143と接着剤の露出面32と、放熱板の弧
面214とよりなる。
続した面上にある。それ故、第1実施例と同様に、その
表面には連続した金属メッキ層を確実に形成でき、同様
の効果を得ることができる。
ビスマレイミド−トリアジン樹III (BT樹脂)材
の銅張積層板を用いた。第1基材IAは厚み0.5閣、
第2基材IBは厚み1.0閣であった。放熱板は、銅板
を用いた。
を用いた。その接着にあたっては、170℃で加熱圧着
した。このとき、はみ出し部31の高さは約0. 1閣
であった。また、露出凹部4(第2C図)の深さは、0
.1閣9幅1.0−であった。該露出凹部4は対向部分
120に沿って四角環状を呈している。
より形成し、その金属メッキの厚みは約20μmであっ
た。また、金属メッキ層75は。
て、確実に形成されていた。金属メッキ層76も同様に
連続形成されていた。
5の形成を行った。その結果、接着剤のはみ出し部31
において、金属メッキ層が被覆されていないメッキネ良
部分を、各所で生じていた。
につき、第7A図〜第7D図を用いて説明する0本例は
、インナバイアホールを有する多層電子部品搭載用基板
を、いわゆる蓋取り法(例えば、特開昭62−1568
47号公報参照)により製造するものである。
く、インナバイアホール97及び導体回路94を設けた
第1基材IAと、第2基材IBと。
上記第1基材IA側において該第1基材lAと接着剤3
を貫通して放熱板2の上部までザグリ加工形成した電子
部品搭載用凹部13とよりなる。
た段付穴11Bより、その一部を露出させている。また
、上記第2基材IBの段付穴11Bと放熱板2の対向部
分には、第2基材IBと放熱板の両者にまたがると共に
上記接着剤3を同一表面上に露出させた露出部凹部4を
ザグリ加工により設けである。
側には連続した金属メッキ層75が被覆しである。
載用凹部13の内面に金属メッキ層76が形成され、第
1基材IAの上面には導体回路94が形成しである。
100が接着剤35を介して接着されている。また、該
上部基材層100の上面には導体回路940が形成され
ている。
き、第7A図〜第7D図を用いて説明する。
熱板2の裏側22を露出させるための段付穴11Bを設
ける。また、第1基材IAはインナバイアホール97お
よび銅箔19を有する。そして、上記第2基材IBの段
付穴11Bに放熱板2を逆凸状に嵌合し、更にその上に
プリプレグ接着剤3を介在させて第1基材IAを積層す
る。なお、第2基材IBは下面に銅箔19.上面にラン
ド用金属層191を有する。
Aと第2基材IBとの間に放熱板2を挟着すると共にこ
れらを接着する。これらの工程は第1実施例とほぼ同様
である。
表側において、該第1基材IA、接着剤3を貫通すると
共に放熱板2の上部に至る電子部品搭載用凹部13をザ
グリ加工により形成し9次いでこれら基材の全表面にパ
ネルメッキを行い5エツチングにより導体回路94を設
ける。またこのメッキにより、上記電子部品搭載用凹部
13の内面には金属メッキ層76が、また第2基材IB
の裏側には金属メッキ層751が被覆される。
A上の導体回路94の上に上部基材層100を積層する
。該上部基材層100は、中央部に蓋部106を有し、
上面に銅箔19を、下面には接着剤36を有する。蓋部
106の下面には凹部104が設けである。
上部基材層100によって蓋をされ、空洞部を形成する
と共に外部からの汚れに対して、防禦される0次に1
これら圧着積層物について、同図に示すごとく、スルー
ホール98を穿設する。
抗部分120において2両者にまたがるザグリ加工を行
い、第1実施例に示したと同様の露出凹部4を形成する
。
ルーホール98に金属メッキ層981を形成し、また露
出凹部4及び第2基材裏側に金属メッキ層75を形成す
る。次いで、エツチングを行い、上部基材層100の上
に導体回路940を形成する。その後、上部基材層10
0の蓋部106を削除する。
れ、また電子部品搭載用凹部13が再び開口される0以
上により、前記のごとく、第7D図に示した電子部品搭
載用基板が得られる。
回路940を加工形成する際には、電子部品搭載用凹部
13が上部基材層100の蓋部分106により覆われて
いる。そのため、これらの加工、形成の際に電子部品搭
載用凹部13内が汚れることがない。
電子部品搭載用基板を得ることができる。
を示し、第1図はその断面図、第2A図〜第2F図はそ
の製造工程説明図、第3図は第1基材、放熱板、第2基
材の展開斜視図、第4図〜第6図は第2実施例における
露出凹部の形状を示す図、第7A図〜第7D図は第4実
施例における電子部品搭載用基板の製造工程説明図、第
8図〜第10図は従来の電子部品搭載用基板を示し、第
8図は従来の電子部品搭載用基板の断面図、第9図はそ
の問題点を示す断面図、第10図は他の従来の電子部品
搭載用基板の断面図である。 119.多層電子部品搭載用基板 13.、、電子部品搭載用凹部 16、、、蓋部。 100、、、上部基材層 120、、、対向部分。 209.放熱板 339.接着側 31、、、はみ出し部 411.露出凹部 75.76、、、金属メッキ層。 LA、、、第1基材 1B、、、第2基材 11B、、、段付穴。
Claims (3)
- (1)導体回路を設けた第1基材と,第2基材と,両者
の間に接着剤を介して挟着固定した放熱板と,上記第1
基材側において該第1基材及び接着剤を貫通して放熱板
の上部までザグリ加工形成した電子部品搭載用凹部とよ
りなり,また上記放熱板の裏側は上記第2基材に設けた
段付穴よりその一部を露出させてなり,また導体回路を
有する上部基材層を上記第1基材上に積層してなる多層
状の電子部品搭載用基板であって, 上記第2基材の段付穴と放熱板との対向部分には,基材
と放熱板の両者にまたがると共に上記接着剤を同一表面
上に露出させた露出凹部をザグリ加工により設けてなり
, かつ上記放熱板と露出凹部と第2基材裏側には連続した
金属メッキ層が被覆してあることを特徴とする多層電子
部品搭載用基板。 - (2)第2基材の裏側に放熱板の裏側を露出させるため
の段付穴を設け,ついで,該第2基材の段付穴と第1基
材との間に放熱板を挟着すると共に第2基材と該1基材
と放熱板とを接着剤を介して接着し,また該接着剤を第
2基材裏側における段付穴側壁と放熱板側壁との対向部
分の開口部近くまで充填し, ついで,該対向部分において第2基材と放熱板との両者
にまたがるザグリ加工を行い,上記接着剤を露出させた
露出凹部を形成し, また,第1基材側においては第1基材及び接着剤を貫通
して放熱板の上部までザグリ加工を行って電子部品搭載
用凹部を形成し, また,上記放熱板と露出凹部と第2基材裏側面との間に
は連続した金属メッキ層を形成し,かつ上記第1基材の
上に導体回路を有する上部基材層を積層接着することを
特徴とする多層電子部品搭載用基板の製造方法。 - (3)第2請求項において,放熱板を第1基材と第2基
材の間に接着するに当たり、接着剤は上記段付穴と放熱
板との対向部分の開口部にはみ出させることを特徴とす
る多層電子部品搭載用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
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JP2248337A JP2784524B2 (ja) | 1990-09-18 | 1990-09-18 | 多層電子部品搭載用基板及びその製造法 |
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JPH04127497A true JPH04127497A (ja) | 1992-04-28 |
JP2784524B2 JP2784524B2 (ja) | 1998-08-06 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1990
- 1990-09-18 JP JP2248337A patent/JP2784524B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2784524B2 (ja) | 1998-08-06 |
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