JPH04124500U - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
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- JPH04124500U JPH04124500U JP6029991U JP6029991U JPH04124500U JP H04124500 U JPH04124500 U JP H04124500U JP 6029991 U JP6029991 U JP 6029991U JP 6029991 U JP6029991 U JP 6029991U JP H04124500 U JPH04124500 U JP H04124500U
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- Japan
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- electron beam
- irradiated object
- irradiated
- nozzle
- inert gas
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子線発生装置からのX線が外部に漏洩する
ための構成を簡略化するとともに、不活性ガスの供給を
高効率化することを目的とする。 【構成】 不活性ガスを被照射体に吹き付けるためのノ
ズル、および被照射体の搬送をガイドするローラを、X
線遮蔽体によって包み込み、被照射体の搬送通路に沿っ
て配置する。各X線遮蔽体は被照射体の搬送通路に沿っ
て配置されてあるX線遮蔽体によって連設する。ノズル
およびローラは被照射体を挾んで互いに向い合うように
配置する。
ための構成を簡略化するとともに、不活性ガスの供給を
高効率化することを目的とする。 【構成】 不活性ガスを被照射体に吹き付けるためのノ
ズル、および被照射体の搬送をガイドするローラを、X
線遮蔽体によって包み込み、被照射体の搬送通路に沿っ
て配置する。各X線遮蔽体は被照射体の搬送通路に沿っ
て配置されてあるX線遮蔽体によって連設する。ノズル
およびローラは被照射体を挾んで互いに向い合うように
配置する。
Description
【0001】
本考案は電子線照射装置に関する。
【0002】
電子線照射装置において、電線、チューブその他の長尺体の被照射体を、電子
線発生装置に向けて搬送し、これに順次電子線を照射するようにしたものは既に
よく知られている。この場合電子線を照射したときに発生するX線が外部に漏洩
するのを防止するとともに、被照射体に付着してくる酸素を不活性ガスによって
吹き飛ばすようにすることが要求されている。
【0003】
図4はその従来構成を示し、1は電子線発生装置、2は照射窓、3はビームキ
ャッチャー、4は長尺状の被照射体である。そしてX線を遮蔽する遮蔽ケース5
を遮蔽壁6によって複数の部屋7に区画し、各遮蔽壁6にスリット8を形成し、
このスリット8の間を被照射体4が通過するようにしてある。部屋7には不活性
ガスを被照射体4に吹き付けるためのノズル9と、被照射体4をガイドするロー
ラ10が配置されてある。
【0004】
電子線発生装置1からのX線は、各遮蔽壁6によって遮蔽され、遮蔽ケース5
の入り口から外部に漏洩しないようにしてある。また各ノズル9から被照射体4
の表面に不活性ガス(たとえば窒素ガス)を吹き付けることによって、被照射体
4の表面に付着してきた酸素を吹き飛ばすようにしている。
【0005】
しかしこのような構成によれば、ノズル9を部屋7に設置するようにしている
ので、ノズル9を取りまく空間が広くなり、そのため多量の不活性ガスを吹き付
ける必要があり、その量に不足が生じると、酸素濃度が低下しないし、また酸素
との置換に要する時間が長くなる欠点がある。
【0006】
またノズル9とローラ10とが互いに向かいあう位置にないため、不活性ガス
の吹き付けによって、被照射体4がばたつくことがある。そのため電子線発生装
置1内での電子線照射に支障が生じることがある。
【0007】
本考案は、電子線発生装置から外部にX線が漏洩しないようにするとともに、
不活性ガスの吹き付けの高効率化を図ることを目的とする。また本考案は、不活
性ガスの吹き付けによる被照射体のばたつきを防止することを目的とする。
【0008】
本考案は、ノズルおよびローラを、それぞれX線遮蔽体によって包み込み、被
照射体の搬送通路に沿って配列するとともに、各X線遮蔽体を被照射体の搬送通
路に沿ってX線遮蔽体によって連設したことを特徴とする。また本考案は、前記
ノズルおよびローラを被照射体を挾んで対称の位置に向い合わせて配置したこと
を特徴とする。
【0009】
ノズルおよびローラを、それぞれX線遮蔽体によって包み込んだため、ノズル
およびローラの周囲にはほとんど空間がなくなるようになる。そのためノズルか
らの不活性ガスはその全部が被照射体に吹き付けられるようになる。被照射体の
搬送通路はX線遮蔽体によって囲まれるため、電子線発生装置からのX線が外部
に漏洩することはない。ノズルとローラは互いに向い合っているので、ノズルか
らの不活性ガスが被照射体に吹き付けられても、これをローラが受け止めるよう
になり、被照射体のばたつきは、これをもって防止されるようになる。
【0010】
本考案の実施例を図1〜3によって説明する。なお図4と同じ符号を付した部
分は同一又は対応する部分を示す。図2に示すようにノズル9はX線遮蔽体11
によって一体的に包み込まれてある。そして各ノズル9は被照射体4の搬送通路
に沿って配置されてある。各遮蔽体4は、同じく搬送通路に沿って配置されたX
線遮蔽体12によって連設されてある。
【0011】
ローラ10も同様にX線遮蔽体13によって図3に示すように包み込まれてあ
る。この場合はローラ10の回転に支障のないようにしてあることは言うまでも
ない。そして各ローラ10は被照射体4の搬送通路に沿って配置されてある。各
遮蔽体13は、同じく搬送通路に沿って配置されたX線遮蔽体14によって連設
されてある。なお必要により、各X線遮蔽体の内面に、ステンレスのような補強
材15を添着しておくとよい。
【0012】
ノズル9から不活性ガスが吹き付けられることによって、被照射体4に付着し
ている酸素は吹き飛ばされる。従来のようにノズル9の周囲には、従来のような
空間は存在していないので、そのような空間に不活性ガスが飛来するようなこと
はなく、したがって無駄な不活性ガスの供給を必要としないので、不活性ガスの
吹き付けの高効率化を図ることができる。
【0013】
また電子線照射側から発生するX線は、各X線遮蔽体によって遮蔽され、外部
に漏洩することはない。またノズル9とローラ10とは互いに向い合っているの
で、ノズル9からの不活性ガスが被照射体4に吹き付けられても、これをローラ
10が受け止めるので、被照射体4のばたつきは防止される。
【0014】
以上説明したように本考案によれば、電子線発生装置から外部にX線が漏洩し
ない状態で、不活性ガスの吹き付けの高効率化を図ることができ、不活性ガスの
吹き付けによる被照射体のばたつきを防止することができる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の実施例を示す断面図である。
【図2】図1のノズル部分の拡大斜面図である。
【図3】図1のローラ部分の拡大斜面図である。
【図4】従来例の断面図である。
1 電子線発生装置
2 照射窓
4 被照射体
9 ノズル
10 ローラ
11 X線遮蔽体
12 X線遮蔽体
13 X線遮蔽体
14 X線遮蔽体
Claims (2)
- 【請求項1】 電子線を被照射体に照射する電子線発生
装置に向かって搬送される被照射体の搬送通路に沿っ
て、前記被照射体の表面に向かって不活性ガスを吹き付
けるための複数のノズルと、前記被照射体の搬送をガイ
ドする複数のローラを設けてなる電子線照射装置におい
て、前記ノズルおよびローラを、それぞれX線遮蔽体に
よって包み込み、前記被照射体の搬送通路に沿って配列
するとともに、前記各X線遮蔽体を前記被照射体の搬送
通路に沿ってX線遮蔽体によって連設してなる電子線照
射装置。 - 【請求項2】 請求項1のノズルおよびローラを、被照
射体を挾んで対称の位置に向い合わせて配置してなる請
求項1の電子線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6029991U JPH04124500U (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6029991U JPH04124500U (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 電子線照射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04124500U true JPH04124500U (ja) | 1992-11-12 |
Family
ID=31930040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6029991U Pending JPH04124500U (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04124500U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000513103A (ja) * | 1997-05-09 | 2000-10-03 | ザ タイタン コーポレイション | 物品搬送コンベヤを有する物品照射装置 |
JP2001318196A (ja) * | 2000-05-08 | 2001-11-16 | Japan Science & Technology Corp | 電子線照射装置 |
-
1991
- 1991-04-26 JP JP6029991U patent/JPH04124500U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000513103A (ja) * | 1997-05-09 | 2000-10-03 | ザ タイタン コーポレイション | 物品搬送コンベヤを有する物品照射装置 |
JP2001318196A (ja) * | 2000-05-08 | 2001-11-16 | Japan Science & Technology Corp | 電子線照射装置 |
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