JPH04123402A - 白金薄膜抵抗体 - Google Patents
白金薄膜抵抗体Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
量計等に好適に用いられる改良された薄膜抵抗体に関す
るものである。
されるように、アルミナ等からなるセラミックパイプ2
の外表面に、所定の抵抗値を有するようにパターン形成
された白金等からなる金属薄膜4が設けられると共に、
この金属薄膜4が、セラミックパイプ2の両端部におい
て、それぞれ、白金線等からなるリード線6.6に対し
て、白金等の導体にガラス等を混合した導電性接続ペー
スト8を介して、電気的に接続せしめられてなる構成の
ものが、よく知られている。
金属薄膜4を接続せしめる接続ペースト8を用いて、同
時にそれらリード線6.6がセラミックパイプ2に対し
て接着固定せしめられる構成とされているが、そのよう
な接続ペースト8は白金等の導体を多量に含むものであ
るために、高価なものとなるところから、抵抗体のコス
トが上昇してしまう等という問題がある。
が形成されたセうミックパイプ2に対して、その端部開
孔部内に、リード線6を差し込み、ガラス等の適当な接
着剤10により予め接着固定した後、前記導電性接続ペ
ースト8を用いて、セラミックパイプ2の端面を覆うよ
うに塗布し、これによってリード線6と金属薄膜4とを
接続せしめて、目的とする抵抗体を製造する手法が考え
られている。
セラミックパイプ2に対して、リード線6を接着剤10
により接着固定した後、更に導電性接続ペースト8にて
リード線6と金属薄膜4とを接続せしめるものであると
ころから、そのような抵抗体を得るための工数が多くな
り、以て抵抗体コストの上昇を惹起したり、またかかる
導電性ペースト8を塗布して、乾燥せしめ、更に熱処理
等を施すことからなる製造工程中や使用中のハンドリン
グ(取扱い)において、リード線6に各種の力が加わる
と、導電性ペースト8部位に応力が作用して、そこにク
ラックが入り、抵抗体としての信顛性、更にはその耐久
性が低下するという問題を内在していたのである。
れたものであって、その解決すべき課題とするところは
、簡単な工程で得られ、またハンドリングの際に、導電
性接着剤部位にクランクが発生することを有効に防止し
得る薄膜抵抗体を提供することにある。
に開孔部を有する筒状または棒状のセラミックス基体の
外表面に所定の金属薄膜を形成する一方、該金属薄膜と
外部回路とを接続するための金属リード線を、前記セラ
ミックス基体の前記開孔部内に挿入して、固定した構造
の薄膜抵抗体において、前記金属薄膜が、前記セラミッ
クス基体の外表面から前記開口部の内表面にまで、該開
口部内に所定距離入り込んだ状態において、一体的な連
続した膜として形成されていると共に、該開口部内に充
填した導電性接着剤にて、前記金属リード線の端部を前
記セラミックス基体に固定することにより、該開口部の
内表面上に位置する金属薄膜部位に対して、該金属リー
ド線が該導電性接着剤を介して電気的に接続せしめられ
ていることを特徴とする薄膜抵抗体を、その要旨とする
ものである。
発明の実施例を、図面を参照しつつ、詳細に説明するこ
ととする。
例が示されている。
、セラミックス基体としては、アルミナ等の公知のセラ
ミックス材料からなる円筒状のボビン14が用いられ、
そしてこのボビン14の両端部に、リード線18.18
が、それぞれ、所定長さ挿入せしめられた状態で、導電
性の接着剤20にて接着固定せしめられている。
かかる円筒状のボビン14においては、その外表面上に
、白金等の所定の金属からなる抵抗体薄膜16が、従来
と同様にして、例えばスパッタリング、メツキ、CVD
、蒸着等の物理的または化学的方法により形成され、更
にレーザートリミング手法等を用いてスパイラル状にト
リミングされることにより、所定パターンにおいて設け
られていると共に、ボビン14の開口部14aの内表面
にも、所定距離(2)において入り込んだ状態で、外周
面上に形成された抵抗体薄膜と一体的に連続して設けら
れている。なお、抵抗体薄膜16の形成方法としては、
上記の各種方法の他にも、例えば所定の金属粉末を有機
ビヒクル中に分散させてスラリー状とし、これをボビン
14の外表面に塗布した後、熱処理することにより、形
成する方法も採用可能であり、この場合も、前記と同様
に、トリミング等が施されることによって、抵抗体薄膜
16が所定パターンにおいて設けられるのである。
4aの内表面における抵抗体薄膜部位16aの形成長さ
(入り込み深さ)、即ち開口部14aの開口端からの形
成距離(りは、ボビン14及びその開口(内孔)の寸法
等に応じて適宜に選定されるが、リード線18を抵抗体
薄膜部位16aに接続する導電性接着剤20との接触面
積を考慮して、好ましくは0.3 mm以上とされるこ
ととなる。また、この薄膜部位16aの形成距離(りの
制御は、抵抗体薄膜16をボビン14の外表面上に形成
する際に行なわれ、例えばスパッタリングにて形成され
る場合は、スパッタ条件の一つであるAr圧力をコント
ロールすることにより、容易に行なわれ得る。即ち、A
r圧力を大きくすれば、抵抗体薄膜部位16aの形成距
離(1)は大となり、一方Ar圧力を小さくすれば、抵
抗体薄膜部位16aの形成路till(iりも小さくな
る。
部の直径):0.3mm、長さ:2閣のボビン(14)
を用いて、その外表面に、白金薄膜(16)を、各種A
r圧力下にてスパッタリングして、形成したところ、白
金薄膜のボビン開口部(14a)内への形成距離(1)
は、以下に示されるような結果となった。
ン14は、その両端面と外周面及び内周面(内孔表面)
との境界部が角部とされている場合には、それら両端面
及び内、外周面上に形成される抵抗体薄膜が、焼成時に
おいて互いに引張し合って、角部に切れが生じる恐れが
ある。そこで、本発明にあっては、ボビン14の両端面
と内、外周面との境界部14bは面取りされて、所定ア
ール(曲率半径)の曲面とされることが望ましく、これ
によって、ボビン14の表面上に形成される抵抗体薄膜
16において、後述の如き焼成時に、ボビンエ4の両端
面部位と内、外周面部位との間に切れが生じることは効
果的に回避されるのである。
0μm以上とされることが好ましく、例えば本発明者ら
が、参考までに、アールが8μmとなるように角部が面
取りされたボビン(14)を用い、その外表面上に、白
金を用いて、スパッタリングにより4000人の厚さの
抵抗体薄膜(16)を形成し、その後900°C×30
分の熱処理を行なったところ、角部(面取り部)での薄
膜の切れ(切断)が回答発生しないことを認めた。
ン14の両端部には、ステンレススチールや白金等の金
属材料からなるリード線18が固着される。即ち、かか
るリード線18は、ボビン14の開口部(内孔)14a
に所定長さ挿入せしめられた状態において、ボビン14
の開口部14a内に挿入された部分が、所定の導電性の
接着剤20により、ボビン14に接着され、その後、従
来と同様にして、適当な熱処理(焼成)が施されること
により、ボビン14に対して固着されているのである。
表面上に位置する抵抗体薄膜16aとリード線18とが
、導電性接着剤20を介して電気的に接続せしめられる
のである。なお、かかる導電性接着剤20としては、導
電性を有すると共に、抵抗体薄膜16と金属からなるリ
ード線18とを接合し得るものであれば、従来から公知
のものが何れも採用され得、通常、白金とガラスとの混
合物が有利に用いられる。また、このリード線18が固
着されてなる薄膜抵抗体12には、図示はされていない
が、常法に従って、ガラス等からなる保護コーティング
層が、ボビン14部位の外周を覆うように所定厚さに設
けられることも可能である。
線18を介して、従来と同様に、所定の外部回路に接続
され、以て温度測定等に好適に利用されることとなる。
2は、ボビン14の開口部14a内にてリード線18が
ボビン14に対して固着されていることから、抵抗体薄
膜16とリード線18とを接続するために用いられる導
電性接着剤の必要量が少なく、且つ簡単な工程で得られ
、以てコストの低減を有利に図り得ると共に、その製造
工程中や使用に際してのハンドリング時において、リー
ド!!j!I8に各種の力が作用しても、リード線18
をボビン14に固着する導電性接着剤2oがボビン14
の開口部周縁にて補強されているため、そこにクラック
が発生したり、また変形したりすることがないのである
。
び(b)に示されている。この薄膜抵抗体22において
、セラミックス基体として用いられるボビン24は丸棒
状を呈し、その両端面に、所定深さの凹部24a、24
aが設けられてなる構成とされている。そして、前記実
施例と同様にして、抵抗体薄膜26が、所定パターンに
おいてボビン24の外表面上に設けられていると共に、
該凹部24a、24aの内周面にも、それぞれ、所定距
離(2)入り込んだ状態において、前記外表面から連続
して、一体的に設けられている。
も、その両端部の凹部24a、24aに対して、所定の
金属導体からなるリード線18゜18が、それぞれ、所
定長さにおいて挿入された状態で、凹部24a内に充填
される導電性接着剤20により固着され、以てリード線
18が凹部24a内周面上に形成されている抵抗体薄膜
部位26aと電気的に接続せしめられているのである。
きたが、本発明は、それら実施例の内容に回答限定して
解釈されるべきものではなく、本発明の範囲を逸脱しな
い限りにおいて、当業者の知識に基づいて、種々なる変
更、修正、改良等が加えられ得るものであることが、理
解されるべきである。
体にあっては、筒状または棒状のセラミックス基体にお
いて、その外表面から、端部に形成された開口部内表面
にまで、金属薄膜が一体的に連続して形成されていると
ころから、導電性接着剤により、かかるセラミックス基
体に金属リード線が固着せしめられると同時に、金属リ
ード線と金属薄膜とがセラミックス基体の開口部内にお
いて電気的に接続せしめられ、それによって、そのよう
な接着剤をセラミックス基体の外表面にまで塗布する必
要なく、また予めリード線をセラミックス基体に接着固
定せしめるための接着剤やその工程も不要となって、薄
膜抵抗体のコストの低減を有利に図り得ると共に、その
製造工程中や使用に際してのハンドリング時において、
リード線に各種の力が作用しても、導電性接着剤による
接着部位におけるクランクの発生が有利に防止され得、
従って薄膜抵抗体の耐久性を効果的に改善し得るのであ
る。
あり、第2図は、従来の薄膜抵抗体の他の例であって、
そのセラミックス基体へのリード線の接続を工程的に示
す断面説明図である。また、第3図(a)は、本発明に
係る薄膜抵抗体の一例を示す断面説明図であり、第3図
(b)は、そのセラミックス基体にリード線が固着され
る前の状態を示す断面説明図であり、第4図(a)は、
本発明に係る薄膜抵抗体の他の例を示す断面説明図であ
り、第4図(b)は、そのセラミックス基体にリード線
が固着される前の状態を示す断面説明図である。 12.22:薄膜抵抗体 14 24:ボビン(セラミックス基体)16.26:
抵抗体薄膜 18:リード線20:導電性接着剤
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 端部に開孔部を有する筒状または棒状のセラミックス
基体の外表面に所定の金属薄膜を形成する一方、該金属
薄膜と外部回路とを接続するための金属リード線を、前
記セラミックス基体の前記開孔部内に挿入して、固定し
た構造の薄膜抵抗体にして、 前記金属薄膜が、前記セラミックス基体の外表面から前
記開口部の内表面にまで、該開口部内に所定距離入り込
んだ状態において、一体的な連続した膜として形成され
ていると共に、該開口部内に充填した導電性接着剤にて
、前記金属リード線の端部を前記セラミックス基体に固
定することにより、該開口部の内表面上に位置する金属
薄膜部位に対して、該金属リード線が該導電性接着剤を
介して電気的に接続せしめられていることを特徴とする
薄膜抵抗体。
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