JPH04123316A - 磁気記録媒体の製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野１ この発明は、信頼性が高く、高記録密度を実現する磁気
記録媒体の製造装置に関するものである。

［従来の技術１ 近年、固定磁気ディスク装置は、その記録容量増大を量
るため、従来のいわゆる塗布媒体に代わりスパッタリン
グ法やめつき法により磁性記録層を設けた連続薄膜媒体
を搭載したものが多くなりつつある。

連続薄膜媒体は、その特徴として極めて優れた表面精度
を有する。現在の固定磁気ディスク装置の多くは、その
起動・停止時にヘッドと媒体が接触するコンタクト・ス
タートストップ方式（Ｃ８Ｓ方式）を採用しているが、
優れた表面精度を有する連続薄膜媒体とやはり高い表面
精度を有する磁気ヘッドとの間には自ずと吸着問題を生
じることとなる。この吸着問題を回避するために、例え
ば特開昭６３−１９７０３０号公報に示されているよう
に、基板にテープ研磨加工を施し連続薄膜媒体表面を粗
化するテクスチャリング加工が行われているが、吸着現
象の回避は実現できるものの加工の不均一性が原因で媒
体表面に多くの異常突出部を形成してしまう。これは、
磁気ヘッドの低浮上化を阻害する要因となり、高記録密
度を目指す現在の固定磁気ディスク装置のシステム設計
に大きな制約を付与することとなる。また、このような
加工の不均一性はヘッド・媒体の摺動特性をも悪化させ
、装置の信頼性確保を難しいものとしている。

また、上記のような加工を行う従来の押し付けロールを
第１０図に示す。この図で、１はテープ押し付けロール
（以下、単にロールという）であり、２はこのロール１
のテープとの接触面であり、その材質は硬質ゴム、硬質
ウレタン等が用いられている。３は前記ロール１に荷重
を与えるためのアーム、４は前記ロール１の回転中心軸
である。

上記のようなロール１に荷重をかけ、被加工面にその接
触面２を押し付けたときのロール１と、被加工面との接
触部位における各々の場合の圧力分布は両端付近で最大
となり、中心部に近付（程接触圧力は小さくなる。この
状態を第３図に示すが、その詳細はこの発明の詳細な説
明で対比して説明することにする。

［発明が解決しようとする課題］ 従来のテクスチャリング加工もしくはバニッシュ加工は
研磨テープを、第１０図に示す硬質ゴム、あるいは硬質
ウレタンよりなる円筒状のロール１により被加工面であ
る媒体表面に押し付け、かつ媒体を回転させることによ
り行っていた。しかしながら、媒体半径と同程度の幅を
持ったロール１を均一に被加工面に押し付けることは難
しく、面内に均一な加工を施すことは困難である。

この発明は、上記のような問題点を解決するためになさ
れたちのあり、テープ押し付けロールと媒体表面の均一
な接触状態を実現し、均一な加工が可能な磁気記録媒体
の製造装置を得ることを目的とするものである。

〔課題を解決するための手段１ この発明に係る磁気記録媒体の製造装置は、連続テープ
を被加工面に押し付ける円筒状のテープ押し付けロール
表面に、その幅方向の開口部幅と深さの縦横比が１：ｌ
で、かつ溝深さがロール直径の１／３００以上であり、
さらに加工幅に対して１ｃｍあたり３．２個以上の■形
状、凹形状。

円弧形状の溝を等間隔にテープ進行方向に設けたもので
ある。

［作用］ この発明においては、■形状、凹形状２円弧形状の溝が
設けられたテープ押し付けロールを用いることでテープ
と被加工面の均一な接触状態を実現し、均一で品質の高
い表面加工を可能とする。

［実施例］ 以下、この発明の実施例を図面について説明する。

第１図はこの発明の第１の実施例を示す磁気記録媒体の
製造装置のテープ研磨装置におけるテープ押し付けロー
ルを示す斜視図である。第１図において、１１Ａはテー
プ押し付けロール（以下、単にロールという）であり、
２はこのロール１１Ａのテープとの接触面であり、その
材質は硬質ゴム、硬質ウレタン等が用いられている。３
は前記ロール１１Ａに荷重を与えるためのアーム、４は
前記ロール１１Ａの回転中心軸、５Ａは前記ロ−ル１１
Ａの接触面２に形成された■形状の溝で、その詳細を第
２図に示す。

第２図はこのロールＩＩＡ表面の幅方向断面を拡大した
図であり、溝深さをｄ、溝幅をＷとし断面形状の縦横比
ｄ　／　ｗが１：１で、溝深さｄがロール直径の１／３
００以上、また、加工幅（＝ロール幅）の５０ｍｍに対
して１６個、すなわち１ｃｍあたり３．２個以上のＶ形
状の溝５Ａが等間隔に設けである。また、前述した第１
０図に示すように、従来のロール１のテープとの接触面
２の材質は硬質ゴム、硬質ウレタン等であるが、表面に
溝５Ａは設けられていない。この２種類のロール１．１
１Ａに同一の荷重をかけ、被加工面に押し付けたときの
ロールと被加工面との接触部位における各々の場合の圧
力分布を示したものが第３図である。

第３図より明らかなように、従来のロール１を用いた場
合、ロール１の両端付近で接触圧力が最大となり、中心
部に近づく程接触圧力は小さくなる。これに対して、こ
の発明のロール１１Ａを用いた場合は接触圧力の分布が
極めて小さく、位って、テープと被加工面との均一な接
触状態を実現することができる。これは、従来のロール
１では接触部表面がロール１の幅方向に連続であるため
端部に発生した応力がロール１の中心部へと伝搬し、ロ
ール１の表面形状が変形してしまうのに対して、この発
明による表面にＶ形状の溝５Ａを設けたロール１１Ａで
は、溝部の存在により応力の伝搬が分割されることでロ
ール１１Ａの表面の変形を抑制することができ、それゆ
え被加工面との間に生じる接触圧力を均一なものとする
ことができる。

第４図は先に示した例において、■形状の溝５Ａの数を
変化させたときにおける接触圧力分布の変化を示す図で
ある。図より溝数が１６個より少ない場合には、圧力分
布改善効果が見られず、従来のロール１を用いた場合と
大差がないことが分かる。これは溝数が少なすぎる領域
では応力の伝搬を抑制する効果が十分でないことと、溝
間隔が広すぎるために溝と溝の間に存在する平面部に新
たな応力が発生することによる。したがって、溝数は少
な（とも１６個以上が必要であることが分かる。

第５図はこれも先に示した例において、■形状の溝深さ
ｄを変化させたときにおける接触圧力分布の変化を示す
図である。図より溝深さｄはロール直径の１／３００以
上は必要であることが示される。これは、溝深さｄが応
力伝搬を抑制するための大きなパラメータとなっている
ためである。

第６図はこれも先に示した例においてＶ形状の溝５Ａの
断面形状における縦横比を溝幅Ｗを変えることにより変
化させたときにおける接触圧力分布の変化を示す図であ
る。この図より、溝幅Ｗの小さな領域（縦横比が大きい
領域）と溝幅Ｗの大きな領域（縦横比が小さい領域）で
接触圧力分布が大きくなっていることが分かる。これは
前者の場合、溝幅Ｗが小さすぎることで隣接する溝との
接触が避けられず、応力伝搬を抑制することができない
ためである。後者の場合、溝幅Ｗが広すぎることで接触
領域が制限され、連続した接触面を形成するに至ってい
ない。それゆえ、接触圧力分布は従来のロール１を用い
た場合ともその形状を異にしており、適度な溝幅Ｗの存
在が示唆され、それは溝断面形状の縦横比により規定す
ることができる。

第７図はこの発明によるロール１１Ａと従来のロール１
により＃３０００のアルミナ研磨テープを用い、初期表
面粗さ８２〜１００人のＮ１−Ｐ基板表面にテクスチャ
リング加工を施した場合の基板半径方向表面粗さ分布を
示す図である。加工条件を第１表に示す。

第１表　テクスチャリング加工条件 上記第１表中のオシレーションとは、 加工中に ロールＩＩＡを円板の半径方向に揺動することをいい、
５５　ｒ　ｐｍは１分間当たり５５往復の揺動を与える
ことを意味している。この実施例ではロール幅は５０ｍ
ｍ、揺動幅は±５ｍｍである。

第７図より明らかなように、この発明におけるロール１
１Ａを用いることで極めて均一なテクスチャリング加工
を実現している。

第８図はこの発明の第２の実施例を示す要部の拡大断面
図である。この実施例は、ロール１１Ｂに形成する溝５
Ｂの形状を凹形状にしたものである。

また、第９図はこの発明の第３の実施例を示す要部の拡
大断面図である。この実施例は、ロール１１Ｃに形成す
る溝５Ｃの形状を円弧状にしたものである。

なお、上記第８図、第９図のその他の構成１条件等は、
第１図の実施例を同様なので、その説明は省略する。

上記のように、凹形状の溝５Ｂまたは円弧状の溝５０を
第１図の実施例と同様な条件で形成することにより、テ
ープと被加工面の均一な接触状態が実現され、均一で高
品質の表面加工が可能となる。

なお、上記実施例では、ロール表面に設ける谷溝５Ａ、
５Ｂ、５Ｃを等間隔に独立して設けているが、送りピッ
チを一定としたスパイラル加工により設けられた連続し
た溝となっていても同様な効果を得ることができる。こ
の場合も溝形状５個数を規定する各パタメータはロール
の一断面形状から同様に規定することができる。

［発明の効果］ 以上説明したように、この発明は、連続テープを被加工
面に押し付ける円筒状のテープ押し付けロール表面に、
その幅方向の開口部幅と深さの縦横比が１＝１で、かつ
溝深さがロール直径の１／３００以上であり、さらに加
工幅に対して１ｃｍあたり３．２個以上の■形状、凹形
状または円弧形状の溝を等間隔にテープ進行方向に設け
たので、均一なテープと被加工面の接触状態が実現でき
、品質の高い均一なテクスチャリング加工が実現できる
。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の第１の実施例によるテープ押し付け
ロールを示す斜視図、第２図は、第１図のロールの部分
拡大断面図、第３図はこの発明と従来のテープ押し付け
ロールとの各部の接触圧力の関係を示す図、第４図は溝
数による接触圧力の分布を示す図、第５図は溝深さによ
る接触圧力の分布を示す図、第６図は縦横比による接触
圧力の分布を示す図、第７図はこの発明と従来のテープ
押し付けロールの半径位置と表面粗さとの関係を示す図
、第８図はこの発明の第２の実施例を示すロールの部分
断面図、第９図はこの発明の第３の実施例を示すロール
の部分拡大断面図、第１０図は従来のテープ押し付けロ
ールを示す斜視図である。 図において、ＩＩＡ、　　１１Ｂ、ＩＩＧはロール、２
は接触面、３はアーム、４は回転中心軸、５Ａ、５Ｂ、
５Ｃは溝である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）円板状非磁性基体とその上に設けられた記録層よ
   りなる磁気記録媒体の基板表面もしくは記録層表面に連
   続テープ研磨加工を施す装置において、連続テープを被
   加工面に押し付ける円筒状のテープ押し付けロール表面
   に、その幅方向の開口部幅と深さの縦横比が１：１で、
   かつ溝深さがロール直径の１／３００以上であり、さら
   に加工幅に対して１ｃｍあたり３．２個以上のＶ形状の
   溝を等間隔にテープ進行方向に設けたことを特徴とする
   磁気記録媒体の製造装置。
2. （２）円板状非磁性基体とその上に設けられた記録層よ
   りなる磁気記録媒体の基板表面もしくは記録層表面に連
   続テープ研磨加工を施す装置において、連続テープを被
   加工面に押し付ける円筒状のテープ押し付けロール表面
   に、その幅方向の開口部幅と深さの縦横比が１：１で、
   かつ溝深さがロール直径の１／３００以上であり、さら
   に加工幅に対して１ｃｍあたり３．２個以上の凹形状の
   溝を等間隔にテープ進行方向に設けたことを特徴とする
   磁気記録媒体の製造方法。
3. （３）円板状非磁性基体とその上に設けられた記録層よ
   りなる磁気記録媒体の基板表面もしくは記録層表面に連
   続テープ研磨加工を施す装置において、連続テープを被
   加工面に押し付ける円筒状のテープ押し付けロール表面
   に、その幅方向の開口部幅と深さの縦横比が１：１で、
   かつ溝深さがロール直径の１／３００以上であり、さら
   に加工幅に対して１ｃｍあたり３．２個以上の円弧形状
   の溝を等間隔にテープ進行方向に設けたことを特徴とす
   る磁気記録媒体の製造方法。