JPH04116423A - 半導体質量流量計 - Google Patents

半導体質量流量計

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JPH04116423A
JPH04116423A JP23671690A JP23671690A JPH04116423A JP H04116423 A JPH04116423 A JP H04116423A JP 23671690 A JP23671690 A JP 23671690A JP 23671690 A JP23671690 A JP 23671690A JP H04116423 A JPH04116423 A JP H04116423A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor
fluid
measured
diaphragm
strain gauge
Prior art date
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Application number
JP23671690A
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English (en)
Inventor
Toshio Aga
阿賀 敏夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
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Publication date
Application filed by Yokogawa Electric Corp filed Critical Yokogawa Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、極めて小型で、安価、かつ測定流体の広い流
量範囲に容易に対応できる半導体質量流量計に関するも
のである。
〈従来の技術〉 第7図は従来より一般に使用されている従来例の構成説
明図である。
図において、 1は測定流体の流れる管路である。
2は管路1に直角に挿入されたステンレスよりなる渦発
生体である、。
3は渦発生体2に設けられ渦発生による揚力を検出する
第1半導体歪みゲージである。
4は第1半導体歪みゲージ3により渦周波数を検出する
検出回路である。
5は渦発生体2に設けられ渦発生による抗力を検出する
第2半導体歪みゲージである。
6は第2半導体歪みゲージ5により抗力を検出する検出
回路である。
7は検出口I¥84,6の出力を?寅算し、質1流足信
号を出力する演算回路である。
以上の構成において、管路1に測定流体が流れると、渦
発生体2はカルマン渦を発生ずる。発生したカルマン渦
に基づく抗力と揚力は第1.第2歪みゲージ3,5によ
り検出され、検出回路46を介して、演算回路7て演算
かり、質量流量信号として出力され、質量流量か測定さ
れる。
〈発明か解決しようとする課題〉 しかしながら、この様な装置においては、渦発生体2と
第1.第2歪みゲージ3,5とは別体構成である。
しなかつて、小形化か困難であり、構成か複雑、高価格
となり、製造も容易でない。
本発明は、この問題点を、解決するものである。
本発明の目的は、極めて小型で、安価、かつ広い測定流
体の流量範囲に容易に対応できる半導体質量流量計を提
供するにある。
く課題を解決するだめの手段〉 この目的を達成するために、本発明は、支持台に一端か
支持され測定流体の流れに平行に配;ηされシリコン単
結晶よりなるカンチレバー板と、該カンチレバーの固定
端近くに半導体プロセスを利用して一体的に作り込まれ
た第1半導体歪みゲジと、前記支持台に一面が支持され
たシリコン単結晶よりなるなダイアフラム板と、該ダイ
アフラム板に測定流体の流れに対向するように形成配置
されたダイアフラムと、該ダイアフラムに半導体プロセ
スを利用して一体的に作り込まれた第2半導体歪みゲー
 ジと、該第2半導体歪みゲージと前記第1半導体歪み
ゲージとの信号出力を演算して質量流量を演算する演算
手段とを具備してなる半導体質量流量計を構成しなもの
である。
く作用〉 以上の構成において、測定流体か流れると、第1歪みゲ
ージから測定流体の流速に対J】ロシた出力が得られる
。第2歪みゲージから測定流体の動圧に対応した出力が
得られる。
両出力は、演算回路で演算され質量流1信−りとして出
力され、質量流量かalす定される。
以下、実施例に基つき詳細に説明する。
〈実施例〉 第1図は、本発明の一実維例の要部構成説明図5第2図
は第1図の電気回路ブロック図、第3図は管路Aに取付
けた全体構成図、第4図から第6図までは第1図の動作
説明図である。
図において、第7図と同一記号の構成は同一機能を表わ
す。
以下、第7図と相違部分のみ説明する。
IJは、カラス材よりなる支持台12に一端か支持され
、この場合は、陽f2接合され、測定流体の流れに平行
に配置されシリコン肋結晶よりなるカンチレバー板であ
る。
13は、カンチレバー板11の固定端近くに半導体プロ
セスを利用して一体的に作り込まれた第1半導体歪みゲ
ージである。
14は、支持台12に一面が支持され、この場合は陽極
接合され、シリコン単結晶よりなるたダイアフラム板で
ある。
15は、ダイアフラム板1/1に測定流体の流れに対向
するように形成配置されたダイアフラムである。
16は、ダイアフラム15に半導体プロセスを利用して
一体的に作り込まれた第2半導体歪みゲジである。
17は、第2図に示す如く、第2半導体歪みゲジ16と
、第1半導体歪みゲージ13との信号出力を演算して質
量流量を演算する演算手段である。
第3図に、管F#FAに実際に取(=t ?′1な場合
の全体構成図を示す。
以」二の構成において、測定流体か流れると、第1歪み
ゲージ13から測定流体の流速に対応した出力が得られ
る。第2歪みゲージ16から測定流体の動圧に対応した
出力が得られる。
両出力は、演算回路17で演算され質量流量信号として
出力され、質量流量が測定される。
今、流速を■、圧力をP。、密度をρとずれは、第4図
に示す如く、流れはカンチレバー板11の先端の角部で
剥離し、この剥離流は一定距@グの所でカンチレバー板
11の表面に再付着する。
而して、1Ocv          ・・・・・・(
1)剥離域内部の圧力P、は流れか殆んど無いため、第
5図に示す如く、 p、 −p。十に、(1/2)ρ■2・・・(2)一方
、カンチレバー板11下面は、第6図に示す如く、はぼ
P。に等しく、剥離域のほぼ中央で考えると、 F: (P+  Po ) i’−b 中lK+(1/2)ρV2 lb  ・・・(3)b=
カンチレバー板11の幅 の力かカンチレバー板11に作用する。
この力Fにより、カンチレバー板11の固定端には曲げ
モーメントM M:F (1/2)1 :に1  (1,/4 ) 12pV2b  −(4)
が作用し、このMにより、その表面には応力65−(M
/I)(t/2>        (5)■:断面2次
モーメント t;カンチレバー板11の厚さ が生じる。
この応力6は、第1半導体歪みゲージ13で検出され、
出力V1か得られる。
(1)<4)式により、 V+ OC60CMocV’          (6
)すなわち、流速V−に2 (V+ )’◆4  (7
)一方、ダイアフラム15には、動圧P 2 = K 
3(1/2)ρv2が作用する。この圧力をダイアフラ
ム15上の第2半導体歪みゲージ16で検出し、出力V
2か得られる。
ずなわち、p V’ =に4 V2    − (8)
単位面積当たりの質量流量QM −一ρ■は(7)(8
)式より QM−=ρV Ka V2  [1/ (K2  (V+ )’ +4
)コ 一に5 v2/ (V+ >’ +’−(9)これに断
面積Sを乗ずれば、質量流量QMはQM −QM−S 
        −(10)か求まる。
すなわち、演算回路17で演算すれは良い。
なお、実際には、使用する前に校正を行い、(9)式の
定数に5を前もって決めて置く。
カンチレバー板11の厚さtや長さ及び幅、あるいは、
ダイアフラム15の厚さを選ぶ事により、測定流体の広
い流量範囲に容易に対応できる。
この結果、 (1)シリコン半導体センサは、マイクロマシニングで
形成出来るので、極めて小型にでき、特に微小測定流体
に対して好適である。
(2)シリコン半導体センサは、半導体プロセスを利用
して大量生産でき、安価に作ることが出来る。
(3)カンチレバー板11の長さ、ダイアフラム15の
厚さを変える事により、測定流体の広い流量範囲に容易
に対応できる。
なお、演算回路17をカンチレバー板11やダイアフラ
ム板14のシリコン上に形成してもよい。
また、質量流量の他に、流速、密度も検出出来る。
この場合は、流速■は(7)式より求まる。
密度ρは次式の演算により求められる。
(7)、(8)式より、 ρ””K4V2  [1/ (K2  (V+ )’◆
4)。
2] =に6V2 / ((V+ )’◆2)   (1,1
>使用する前に、校正を行い、定数に6を求めて置く。
〈発明の効果〉 以」二説明したように、本発明は、支持台に一端か支持
され測定流体の流れに平行に配置されシリコン単結晶よ
りなるカンチレバー板と、該カンチレバーの固定端近く
に半導体プロセスを利用して一体的に作り込まれた第1
半導体歪みゲージと、前記支持台に一面か支持されたシ
リコン単結晶よりなるなダイアフラム板と、該ダイアフ
ラム板に測定流体の流れに対向するように形成配置され
たダイアフラムと、該ダイアフラムに半導体プロセスを
利用して一体的に作り込まれた第2半導体歪みゲージと
、該第2半導体歪みゲージと前記第1半導体歪みゲージ
との信号出力を演算して質量流量を演算する演算手段と
を具備してなる半導体質量流量計を構成した。
この結果、 (1)シリコン半導体センサは、マイクロマシニングで
形成出来るので、極めて小型にでき、特に微小測定流体
に対して好適である。
(2)シリコン半導体センサは、半導体プロセスを利用
して大量生産でき、安価に作ることか出来る。
(3)カンチレバー板の長さ、タイアフラムの厚さを変
える事により、測定流体の広い流量範囲に容易に対応で
きる。
従って、本発明によれば、極めて小型で、安価、かつ測
定流体の広い流量範囲に容易に対応できる半導体質量流
量計を実現することが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例の要部構成説明図、第2図
は第1図の電気回路ブロック図、第3図は管路に取付け
た全#:構成図、第4図から第6図までは第1図の動作
説明図、第7図は従来より一般に使用されている従来例
の構成説明図である。 11・・・カンチレバー板、12・・・支持台、13・
・・第1半導体ゲージ、14・・・タイアフラム板、1
5・・・タイアフラム、16・・・第2半導体ゲージ、
コア・・・演算回路。 区。 寸 鰍 区 区 ℃ 沫 昧

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 支持台に一端が支持され測定流体の流れに平行に配置さ
    れシリコン単結晶よりなるカンチレバー板と、 該カンチレバーの固定端近くに半導体プロセスを利用し
    て一体的に作り込まれた第1半導体歪みゲージと、 前記支持台に一面が支持されたシリコン単結晶よりなる
    たダイアフラム板と、 該ダイアフラム板に測定流体の流れに対向するように形
    成配置されたダイアフラムと、 該ダイアフラムに半導体プロセスを利用して一体的に作
    り込まれた第2半導体歪みゲージと、該第2半導体歪み
    ゲージと前記第1半導体歪みゲージとの信号出力を演算
    して質量流量を演算する演算手段と を具備してなる半導体質量流量計。
JP23671690A 1990-09-06 1990-09-06 半導体質量流量計 Pending JPH04116423A (ja)

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