JPH04111387A - プリント基板の乾燥装置 - Google Patents
プリント基板の乾燥装置Info
- Publication number
- JPH04111387A JPH04111387A JP23019690A JP23019690A JPH04111387A JP H04111387 A JPH04111387 A JP H04111387A JP 23019690 A JP23019690 A JP 23019690A JP 23019690 A JP23019690 A JP 23019690A JP H04111387 A JPH04111387 A JP H04111387A
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- Japan
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- circuit board
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- printed circuit
- rolls
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- Pending
Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
プリント基板の乾燥装置に関し、
水洗処理を行ったプリント基板より効率良く水分が除去
できる装置を目的とし、 内部が中空で、かつ周囲に多数の小孔を有する回転軸の
周囲に設けられ、互いに回転方向が異なり組と成った円
筒状の吸水用ロールと、上記中空の回転軸に連なる排気
管と該排気管内を排気する排気ポンプとから成り、 前記組となった吸水用ロールの間に乾燥すべきプリント
基板を挿入し、該基板の水分を前記吸水用ロールに吸収
させるとともに、該吸収した水分を中空の回転軸に連な
る排気ポンプで排気しながらプリント基板を乾燥するこ
とで構成する。
できる装置を目的とし、 内部が中空で、かつ周囲に多数の小孔を有する回転軸の
周囲に設けられ、互いに回転方向が異なり組と成った円
筒状の吸水用ロールと、上記中空の回転軸に連なる排気
管と該排気管内を排気する排気ポンプとから成り、 前記組となった吸水用ロールの間に乾燥すべきプリント
基板を挿入し、該基板の水分を前記吸水用ロールに吸収
させるとともに、該吸収した水分を中空の回転軸に連な
る排気ポンプで排気しながらプリント基板を乾燥するこ
とで構成する。
本発明は水洗処理後のプリント基板の乾燥装置に関する
。
。
多層プリント基板を形成する際、エポキシ樹脂より成る
基材に所定の銅箔パターンを設けた中間層を、プリプレ
グを介して銅箔で挟んで加圧積層して多層基板を形成す
る。
基材に所定の銅箔パターンを設けた中間層を、プリプレ
グを介して銅箔で挟んで加圧積層して多層基板を形成す
る。
次いでこの多層基板を穴開けした後、該基板に無電解銅
メツキ、および電解銅メツキより成るパネルメッキを行
った後、該基板にメツキ用レジスト膜を形成し、このレ
ジスト膜をマスクとして電解銅メツキによりパターンメ
ツキを行っている。
メツキ、および電解銅メツキより成るパネルメッキを行
った後、該基板にメツキ用レジスト膜を形成し、このレ
ジスト膜をマスクとして電解銅メツキによりパターンメ
ツキを行っている。
このように多層プリント基板の製造に於いては、前記中
間層を形成する際の銅箔を所定パターンにレジスト膜を
マスクとしてエツチングにより形成する工程、或いはメ
ツキ用レジスト膜をマスクとしてパターンメツキを行う
工程等、レジスト膜を用いて行う工程が多数あり、この
レジスト膜を所定のパターンに形成するために露光、お
よび露光後のレジスト膜の現像工程がある。
間層を形成する際の銅箔を所定パターンにレジスト膜を
マスクとしてエツチングにより形成する工程、或いはメ
ツキ用レジスト膜をマスクとしてパターンメツキを行う
工程等、レジスト膜を用いて行う工程が多数あり、この
レジスト膜を所定のパターンに形成するために露光、お
よび露光後のレジスト膜の現像工程がある。
そしてこのレジスト膜の現像工程を終了したプリント基
板を水洗する工程があり、この水洗後のプリント基板を
、後の工程に支障が無いように乾燥する工程が必要とな
る。
板を水洗する工程があり、この水洗後のプリント基板を
、後の工程に支障が無いように乾燥する工程が必要とな
る。
従来、このようなプリント基板の乾燥装置として、第４
図に示すように互いに回転方向が異なり多数の組となっ
たポリウレタン性のスポンジ状部材よりなる吸水用ロー
ル１の間に、ガイドローラ２により搬送されてきた水洗
後のプリント基板３を通過させることで水洗後のプリン
ト基板に残留している水分を吸着除去している。
図に示すように互いに回転方向が異なり多数の組となっ
たポリウレタン性のスポンジ状部材よりなる吸水用ロー
ル１の間に、ガイドローラ２により搬送されてきた水洗
後のプリント基板３を通過させることで水洗後のプリン
ト基板に残留している水分を吸着除去している。
然し、このようなプリント基板は電子部品を益々高密度
に実装する必要があり、特に表面実装型の電子部品を実
装するプリント基板のスルーホールの直径は、現行の０
．９ｍより（Ｌ３５ｍに迄減少することが要求されてい
る。
に実装する必要があり、特に表面実装型の電子部品を実
装するプリント基板のスルーホールの直径は、現行の０
．９ｍより（Ｌ３５ｍに迄減少することが要求されてい
る。
このような微細なスルーホール内に残留している水分は
、従来の乾燥装置では容易に除去できず、更に効果的に
水分が除去できるような乾燥装置が望まれている。
、従来の乾燥装置では容易に除去できず、更に効果的に
水分が除去できるような乾燥装置が望まれている。
本発明は上記した問題点を解決するもので、微細なスル
ーホール内に残留している水分も容易に除去できるよう
な高効率なプリント基板の乾燥装置を目的とする。
ーホール内に残留している水分も容易に除去できるよう
な高効率なプリント基板の乾燥装置を目的とする。
上記目的を達成する本発明のプリント基板の乾燥装置は
、内部が中空で、かつ周囲に多数の小孔を有する回転軸
の周囲に設けられ、互いに回転方向が異なり組と成った
円筒状の吸水用ロールと、上記中空の回転軸に連なる排
気管と該排気管内を排気する排気ポンプとから成り、 前記組となった吸水用ロールの間に乾燥すべきプリント
基板を挿入し、該基板の水分を前記吸水用ロールに吸収
させるとともに、該吸収した水分を中空の回転軸に連な
る排気ポンプで排気しながらプリント基板を乾燥するこ
とで構成する。
、内部が中空で、かつ周囲に多数の小孔を有する回転軸
の周囲に設けられ、互いに回転方向が異なり組と成った
円筒状の吸水用ロールと、上記中空の回転軸に連なる排
気管と該排気管内を排気する排気ポンプとから成り、 前記組となった吸水用ロールの間に乾燥すべきプリント
基板を挿入し、該基板の水分を前記吸水用ロールに吸収
させるとともに、該吸収した水分を中空の回転軸に連な
る排気ポンプで排気しながらプリント基板を乾燥するこ
とで構成する。
本発明の装置は内部が中空で周囲に多数の小孔を設けた
回転軸の周囲にスポンジ状のウレタンゴム性の吸水ロー
ルを互いに回転方向が異なるように組として設け、この
吸水ロールの間に水洗後のプリント基板を通過させる。
回転軸の周囲にスポンジ状のウレタンゴム性の吸水ロー
ルを互いに回転方向が異なるように組として設け、この
吸水ロールの間に水洗後のプリント基板を通過させる。
そしてこの中空の回転軸を排気ポンプに連なる排気管と
接続することで、上記吸水用ロールに吸収された水分を
排気ポンプで排気しながら除去して乾燥する。
接続することで、上記吸水用ロールに吸収された水分を
排気ポンプで排気しながら除去して乾燥する。
このようにすると水洗後のプリント基板より水分を吸収
した吸水ロールから、更に排気ポンプによって上記吸水
ロールで吸収した水分を除去するので、吸水ロールの吸
水効果が更に大きくなり、効率良くプリント基板に残留
している水分を除去できる。
した吸水ロールから、更に排気ポンプによって上記吸水
ロールで吸収した水分を除去するので、吸水ロールの吸
水効果が更に大きくなり、効率良くプリント基板に残留
している水分を除去できる。
以下、図面を用いて本発明の一実施例に付き詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明の装置の模式図、第２図は第１図のＩ−
１’線断面図、第３図は本発明の吸水用ロールの斜視図
である。
１’線断面図、第３図は本発明の吸水用ロールの斜視図
である。
第１図、第２図および第３図に図示するように、内部が
中空で、かつ周囲に多数の小孔１１を有する回転軸１２
の周囲には、互いに回転方向が異なり組と成った円筒状
のスンポンジ状のウレタンゴム製の吸水用ロール１３Ａ
、 １３Ｂが多数組設けられている。
中空で、かつ周囲に多数の小孔１１を有する回転軸１２
の周囲には、互いに回転方向が異なり組と成った円筒状
のスンポンジ状のウレタンゴム製の吸水用ロール１３Ａ
、 １３Ｂが多数組設けられている。
この中空の回転軸１２は排気管１４に接続され、この排
気管内は排気ポンプ１５によって排気されている。
気管内は排気ポンプ１５によって排気されている。
この排気管１４の肉厚は厚くしてこの部分にボールベア
リングを埋め込んで、この回転軸の端部をシールしてモ
ータを用いて回転するようにする。
リングを埋め込んで、この回転軸の端部をシールしてモ
ータを用いて回転するようにする。
そして排気管１４と排気ポンプ１５との間に吸収した水
分が滞留するようなトラップ１８を設ける。
分が滞留するようなトラップ１８を設ける。
この組となった回転する吸水用ロール１３Ａ、１３Ｂの
間にガイドローラ１６によって乾燥すべきプリント基板
１７を挿入し、該基板の水分を前記吸水用ロール１３Ａ
、１３Ｂに吸収させるとともに、該吸収した水分を中空
の回転軸１２に連なる排気ポンプ１５で排気しながらプ
リント基板１７を乾燥する。
間にガイドローラ１６によって乾燥すべきプリント基板
１７を挿入し、該基板の水分を前記吸水用ロール１３Ａ
、１３Ｂに吸収させるとともに、該吸収した水分を中空
の回転軸１２に連なる排気ポンプ１５で排気しながらプ
リント基板１７を乾燥する。
このようにすれば、従来は吸水用ロールにてプリント基
板の残留水分を成る程度の量まで吸収すると、この吸水
用ロールは吸収した水分が飽和状態に成って、それ以上
の水分を吸収することができないが、本発明によればそ
の吸収した水分を更に排気ポンプで排気するので、吸収
用ロールが水分の無い状態になり、水分の吸収効率が更
に高まり、微細なスルーホール内に於ける残留水分も容
易に吸収して除去できる。
板の残留水分を成る程度の量まで吸収すると、この吸水
用ロールは吸収した水分が飽和状態に成って、それ以上
の水分を吸収することができないが、本発明によればそ
の吸収した水分を更に排気ポンプで排気するので、吸収
用ロールが水分の無い状態になり、水分の吸収効率が更
に高まり、微細なスルーホール内に於ける残留水分も容
易に吸収して除去できる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、水洗後
のプリント基板に於ける残留水分が確実に除去できるの
で、その後の工程に支障を来さなくなり、プリント基板
製造の歩留まりが向上する効果がある。
のプリント基板に於ける残留水分が確実に除去できるの
で、その後の工程に支障を来さなくなり、プリント基板
製造の歩留まりが向上する効果がある。
第１図は本発明の装置の模式図、
第２図は第１図のＩ−Ｉ′線断面図、
第３図は本発明の吸水用ロールの斜視図、第４図は従来
の装置の説明図である。 図において、 １１は小孔、１２は回転軸、１３Ａ、 １３Ｂは吸水用
ロール、１４は排気管、１５は排気ポンプ、１６はガイ
ドローラ、１７はプリント基板、１８はトラップを示す
。 滞灸朗Ｍ ’Ａ、 ’７７４１′図 第１図 １ｊ、１図ヘトＬ′核剃圀 第２図
の装置の説明図である。 図において、 １１は小孔、１２は回転軸、１３Ａ、 １３Ｂは吸水用
ロール、１４は排気管、１５は排気ポンプ、１６はガイ
ドローラ、１７はプリント基板、１８はトラップを示す
。 滞灸朗Ｍ ’Ａ、 ’７７４１′図 第１図 １ｊ、１図ヘトＬ′核剃圀 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 内部が中空で、かつ周囲に多数の小孔（１１）を有す
る回転軸（１２）の周囲に設けられ、互いに回転方向が
異なり組と成った円筒状の吸水用ロール（１３Ａ，１３
Ｂ）と、 上記中空の回転軸（１２）に連なる排気管（１４）と該
排気管内を排気する排気ポンプ（１５）とから成り、前
記組となった吸水用ロール（１３Ａ，１３Ｂ）の間に乾
燥すべきプリント基板（１７）を挿入し、該基板の水分
を前記吸水用ロール（１３Ａ，１３Ｂ）に吸収させると
ともに、該吸収した水分を中空の回転軸（１２）に連な
る排気ポンプ（１５）で排気しながらプリント基板（１
７）を乾燥することを特徴とするプリント基板の乾燥装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23019690A JPH04111387A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | プリント基板の乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23019690A JPH04111387A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | プリント基板の乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04111387A true JPH04111387A (ja) | 1992-04-13 |
Family
ID=16904092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23019690A Pending JPH04111387A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | プリント基板の乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04111387A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007194244A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Fujitsu Ltd | ウェハの洗浄装置及び洗浄方法 |
| WO2010047119A1 (ja) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用基板の洗浄装置及び磁気記録媒体用基板の洗浄方法 |
| CN105486056A (zh) * | 2015-12-09 | 2016-04-13 | 东莞市威力固电路板设备有限公司 | 印刷电路板干燥装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60132120A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-07-15 | ロバ−トソンズ ケミカルズ リミテツド | 薄板の表面から液体を除去する装置 |
| JPH02102771A (ja) * | 1988-10-07 | 1990-04-16 | Sharp Corp | 平面基板用の液切り装置 |
-
1990
- 1990-08-30 JP JP23019690A patent/JPH04111387A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60132120A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-07-15 | ロバ−トソンズ ケミカルズ リミテツド | 薄板の表面から液体を除去する装置 |
| JPH02102771A (ja) * | 1988-10-07 | 1990-04-16 | Sharp Corp | 平面基板用の液切り装置 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2007194244A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Fujitsu Ltd | ウェハの洗浄装置及び洗浄方法 |
| US7908698B2 (en) | 2006-01-17 | 2011-03-22 | Fujitsu Semiconductor Limited | Cleaning apparatus and cleaning method for wafer |
| US8496758B2 (en) | 2006-01-17 | 2013-07-30 | Fujitsu Semiconductor Limited | Cleaning apparatus and cleaning method for wafer |
| WO2010047119A1 (ja) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用基板の洗浄装置及び磁気記録媒体用基板の洗浄方法 |
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