JPH04106627U - 液体流量変動検出機構 - Google Patents
液体流量変動検出機構Info
- Publication number
- JPH04106627U JPH04106627U JP696191U JP696191U JPH04106627U JP H04106627 U JPH04106627 U JP H04106627U JP 696191 U JP696191 U JP 696191U JP 696191 U JP696191 U JP 696191U JP H04106627 U JPH04106627 U JP H04106627U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- amount
- flow rate
- circuit
- piezoelectric element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体レジスト塗布工程において、1枚のウ
ェーハに滴下するレジスト量の変動を検出するためのも
のである。 【構成】 液体流量変動検出機構は、レジスト配管内圧
を電気信号に変換する圧電素子11,圧電素子からの信
号を実滴下量のパラメータに変換する積分回路12,積
分回路によって処理されたパラメータと、あらかじめ設
定された値(適正滴下量に相当する値)を比較するため
の比較回路13により構成される。 【効果】 レジスト配管系での漏れ,ポンプの動作不良
等があると、レジスト配管内圧の変動が生じ、積分回路
により処理された代数が変動するため、あらかじめ設定
された値との差が生じ、滴下量変動が検出できる。
ェーハに滴下するレジスト量の変動を検出するためのも
のである。 【構成】 液体流量変動検出機構は、レジスト配管内圧
を電気信号に変換する圧電素子11,圧電素子からの信
号を実滴下量のパラメータに変換する積分回路12,積
分回路によって処理されたパラメータと、あらかじめ設
定された値(適正滴下量に相当する値)を比較するため
の比較回路13により構成される。 【効果】 レジスト配管系での漏れ,ポンプの動作不良
等があると、レジスト配管内圧の変動が生じ、積分回路
により処理された代数が変動するため、あらかじめ設定
された値との差が生じ、滴下量変動が検出できる。
Description
【0001】
この考案は液体(ゾル状体も含む)流量変動検出機構に関し、半導体製造工程
の1つであるレジスト塗布工程のレジスト滴下量変動検出に好適するものである
。
【0002】
従来のレジスト滴下量変動検出はレジスト圧送用ポンプの動作時間と動作スト
ロークにより管理されており、実滴下量を検出する機構は設けられていない。図
3は従来のレジスト定量滴下機構配管図を示す。図において、1はレジスト容器
,2は逆止弁,3はレジスト圧送用のベローズポンプである。上記ベローズポン
プ3はポンプ駆動用エアシリンダ4とポンプの動作ストローク検出用センサ5を
有している。
【0003】
ポンプにより圧送されたレジストは、フィルタ6,逆止弁7,滴下完了と同時
に、エア圧でレジスト配管8の容積を変化させ、レジスト配管内の残圧を吸収す
るためのサックションバルブ9を通過しノズル10から滴下される。
【0004】
ところで、上記のようにベローズポンプ3の動作時間とストロークだけの管理
では、ベローズポンプ3とノズル10の間でレジスト漏れや配管折れが発生した
場合、滴下量が変動するにもかかわらず(適正滴下量に対し±0.5ccの精度が
必要)異常を検出できず、レジスト塗布の製品不良が発生するという問題がある
。
【0005】
そこで、本考案は上述の問題を解決するために提案されたものであり、レジス
ト漏れや配管折れが発生した場合に発生する滴下量変動を検出する機構を提供す
ることを目的とする。
【0006】
この考案は、上記の課題を解決するために従来のレジスト配管系統のポンプま
たはレジスト配管またはノズルに圧電素子を装着するとともに、圧電素子からの
電圧信号を積分処理するための積分回路,および積分結果をあらかじめ設定して
おいた適正値と比較するための比較回路を組み込んだことを特徴とするものであ
る。
【0007】
上記の構成において、ポンプまたはレジスト配管またはノズルに装着された圧
電素子はレジスト圧送用ベローズポンプによって圧送されたレジスト圧により、
レジストが滴下される間、圧力を受け電圧を発生する。この電圧は積分回路によ
り滴下時間で積分され、その結果があらかじめ定められた適正滴下量に相当する
値と比較回路により比較される。この結果が等しくない場合は滴下量が変動した
こととなり、流量変動を検出することができる。
【0008】
以下、この考案の実施例について図面を参照して説明する。図1はこの考案の
一実施例の液体流量変動検出方法を採用したレジスト定量滴下機構配管図を示す
。図においてノズル10に装着された圧電素子11はレジスト圧により素子表面
に取り付けられた金属プレートに生じた歪量を光電センサで検出し、レジスト圧
を電圧に変換するものである。圧電素子11が出力された電圧信号を処理する積
分回路12,比較回路13,および比較回路13での処理により、流量変動が検
出された際、警報を発するブザー14を有する他は、図3と同様であるので、同
一部分には同一参照符号を付してその説明を省略する。
【0009】
上記の構成によれば、ノズル10に圧電素子11を装着したことにより、レジ
スト配管8の折れ,破れによるレジスト配管内圧の変動を電圧信号としてとらえ
ることができる。図2(a)はこの電圧信号を積分回路12においてレジスト滴
下時間で積分することにより、決定される実滴下量のパラメータSを示す。図2
(b)はあらかじめ設定された適正滴下量に相当するパラメータS1 を示す。比
較回路13でパラメータSと代数S1 とを比較することにより、滴下量変動を検
出することができる。
【0010】
なお、上記実施例では比較回路13で滴下量変動が検出されたとき、ブザー1
4で警報を発する場合について説明したが、比較回路の結果をベローズポンプ制
御にフィードバックし、滴下量が常に一定になるような制御を行ってもよい。
【0011】
この考案は以上のように、レジスト定量滴下機構に圧電素子,積分回路,比較
回路を設けたことによって、実滴下量をパラメータにおきかえることができ、こ
のパラメータを比較回路によってあらかしめ設定された値(適正滴下量に相当す
る値)と比較することにより、滴下量変動を検出することができる。この機構を
採用すれば、滴下量の変動をリアルタイムでとらえることができるので、滴下量
変動による製品不良を未然に防止することができる。
【図1】 この考案の一実施例の液体流量変動検出方法
を採用したレジスト滴下機構配管図
を採用したレジスト滴下機構配管図
【図2】(a) 積分回路で決定される実滴下量のパラ
メータSの意味を表すグラフ (b) 適正滴下量のパラメータS1 の意味を表すグラ
フ
メータSの意味を表すグラフ (b) 適正滴下量のパラメータS1 の意味を表すグラ
フ
【図3】 従来の流量変動検出ができないレジスト滴下
機構配管図
機構配管図
t レジスト滴下時間
v 圧電素子出力電圧
h 電圧差
S 実滴下量パラメータ
S1 適正滴下量パラメータ
1 レジスト容器
2,7 逆止弁
3 ベローズポンプ
4 シリンダ
5 ストローク検出用センサ
6 フィルタ
8 レジスト配管
9 サックションバルプ
10 ノズル
11 圧電素子
12 積分回路
13 比較回路
14 ブザー
Claims (1)
- 【請求項1】液体容器,圧送用ポンプ,ノズルから構成
される液体定量滴下機構において、配管内に圧電素子を
設け、流量の変動を検出することを特徴とする液体流量
変動検出機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP696191U JPH04106627U (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 液体流量変動検出機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP696191U JPH04106627U (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 液体流量変動検出機構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04106627U true JPH04106627U (ja) | 1992-09-14 |
Family
ID=31899026
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP696191U Pending JPH04106627U (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 液体流量変動検出機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04106627U (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57469A (en) * | 1980-06-04 | 1982-01-05 | Hitachi Ltd | Control circuit for refrigerator |
JPS57169520A (en) * | 1981-04-13 | 1982-10-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Cooking apparatus |
JPS5918332U (ja) * | 1982-07-27 | 1984-02-03 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 温度ヒユ−ズ |
JPS60122319A (ja) * | 1983-12-05 | 1985-06-29 | Sony Corp | 流量計 |
JPH02131237A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-21 | Tokyo Electron Ltd | レジスト処理装置 |
-
1991
- 1991-02-19 JP JP696191U patent/JPH04106627U/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57469A (en) * | 1980-06-04 | 1982-01-05 | Hitachi Ltd | Control circuit for refrigerator |
JPS57169520A (en) * | 1981-04-13 | 1982-10-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Cooking apparatus |
JPS5918332U (ja) * | 1982-07-27 | 1984-02-03 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 温度ヒユ−ズ |
JPS60122319A (ja) * | 1983-12-05 | 1985-06-29 | Sony Corp | 流量計 |
JPH02131237A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-21 | Tokyo Electron Ltd | レジスト処理装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI402423B (zh) | 用於一幫浦操作之系統及方法 | |
US8382444B2 (en) | System and method for monitoring operation of a pump | |
KR100980704B1 (ko) | 포토레지스트 공급 장치 및 방법 | |
US6419841B1 (en) | Fluid dispensing system | |
US6752599B2 (en) | Apparatus for photoresist delivery | |
KR20170013322A (ko) | 공급 및 분배 센서를 갖는 펌프의 작동, 여과 및 분배 확인, 및 필터의 감압 프라이밍을 위한 시스템 및 방법 | |
US6290760B1 (en) | Air separator system | |
CN2844879Y (zh) | 泵送设备 | |
JPH04106627U (ja) | 液体流量変動検出機構 | |
JPH07324680A (ja) | 流動体供給方法および装置 | |
JPH06117377A (ja) | 定量ポンプ | |
JP4506122B2 (ja) | 塗布液供給装置 | |
CA2350859C (en) | Apparatus for generating and conducting a fluid flow, and method of monitoring said apparatus | |
JP5747824B2 (ja) | 燃料蒸気漏れ検出装置、及びその製造方法 | |
JP3719745B2 (ja) | 往復動ポンプの吐出流量監視装置 | |
JP3343042B2 (ja) | 流量検出器及びそれを用いたポンプ | |
US7814942B2 (en) | Vapor recovery system for low temperatures | |
JPH0634629Y2 (ja) | 往復動ポンプにおけるポンプ入口ストレ−ナの目詰り検出装置 | |
JPH0572067A (ja) | 圧力値設定方法 | |
KR0122874Y1 (ko) | 진공도 측정장치 | |
JPH0740178Y2 (ja) | 流量異常検知装置 | |
JP3719746B2 (ja) | 往復動ポンプの吐出流量監視および積算装置 | |
JPS6178456A (ja) | 液体の飛出し防止装置 | |
JPH06331417A (ja) | 燃料タンクの密閉状態検出及び燃料残量測定方法並びにその装置 |