JPH0410509A - コバルトフェライト膜の製造方法 - Google Patents
コバルトフェライト膜の製造方法Info
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- JPH0410509A JPH0410509A JP11045190A JP11045190A JPH0410509A JP H0410509 A JPH0410509 A JP H0410509A JP 11045190 A JP11045190 A JP 11045190A JP 11045190 A JP11045190 A JP 11045190A JP H0410509 A JPH0410509 A JP H0410509A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野及び課題］
本発明は、光磁気記録媒体等に用いられるコバルトフェ
ライト膜の製造方法に関する。
ライト膜の製造方法に関する。
［従来の技術］
従来、コバルトフェライト膜の製造は反応性のに成膜す
る方法が試みられているが、−船釣にはスパッタ法か主
に採用されている。しがしながら、基板温度を室温にし
た状態で成膜することにより製造されたコバルトフェラ
イト膜はアモルファスに近いものとなる。
る方法が試みられているが、−船釣にはスパッタ法か主
に採用されている。しがしながら、基板温度を室温にし
た状態で成膜することにより製造されたコバルトフェラ
イト膜はアモルファスに近いものとなる。
このようなことから、結晶性の良好なコバルトフェライ
ト膜を得るためにコバルトフェライトを成膜する際に基
板温度を５００℃以上とする方法、成膜後のコバルトフ
ェライトを酸素雰囲気中又は大気中で５００℃以上で熱
処理する方法、或いはＧＧＧ （ガドリイウムｅガリウ
ムーガーネット；Ｇ ｄ３Ｇ ａ、０１２）などの単結
晶基板上にエピタキシャル的な成長を行なう方法が採用
されている。
ト膜を得るためにコバルトフェライトを成膜する際に基
板温度を５００℃以上とする方法、成膜後のコバルトフ
ェライトを酸素雰囲気中又は大気中で５００℃以上で熱
処理する方法、或いはＧＧＧ （ガドリイウムｅガリウ
ムーガーネット；Ｇ ｄ３Ｇ ａ、０１２）などの単結
晶基板上にエピタキシャル的な成長を行なう方法が採用
されている。
しかしながら、前記各方法で製造されたコバルトフェラ
イト膜の磁気特性は幾つかの報告によれば磁化が２００
ｅｍｕ／ ｃｍ３前後、保磁力が５００〜１２０００ｅ
、カー回転角が０．２層程度であり、特に磁化や保磁力
などの磁気特性の他にカー回転角などの磁気光学特性を
大きくする必要がある光磁気材料として用いることは困
難であった。また、コバルトフェライトなどの酸化物は
融点が高く、酸化膜を成膜後に５００℃程度で熱処理し
ても、大きな結晶成長が起り難く、十分良好な結晶性を
有する膜を得ることは困難であった。
イト膜の磁気特性は幾つかの報告によれば磁化が２００
ｅｍｕ／ ｃｍ３前後、保磁力が５００〜１２０００ｅ
、カー回転角が０．２層程度であり、特に磁化や保磁力
などの磁気特性の他にカー回転角などの磁気光学特性を
大きくする必要がある光磁気材料として用いることは困
難であった。また、コバルトフェライトなどの酸化物は
融点が高く、酸化膜を成膜後に５００℃程度で熱処理し
ても、大きな結晶成長が起り難く、十分良好な結晶性を
有する膜を得ることは困難であった。
本発明は、上記従来の問題点を解決するためになされた
もので、磁化や保磁力などの磁気特性の他にカー回転角
などの磁気光学特性の優れたコバルトフェライト膜の製
造方法を提供しようとするものである。
もので、磁化や保磁力などの磁気特性の他にカー回転角
などの磁気光学特性の優れたコバルトフェライト膜の製
造方法を提供しようとするものである。
［課題を解決するための手段］
本発明は、基板上にＣＯとＦｅを２層以上積層して金属
多層膜を形成した後、酸素を含む雰囲気中で熱処理する
ことを特徴とするコバルトフェライト膜の製造方法であ
る。
多層膜を形成した後、酸素を含む雰囲気中で熱処理する
ことを特徴とするコバルトフェライト膜の製造方法であ
る。
上記基板としては、例えばガラス基板等を挙げることが
できる。
できる。
上記金属多層膜におけるＣｏとＦｅの２層の合計厚さは
、１００Å以下にする。この理由は、それらＣ“０とＦ
ｅの２層の合計厚さが１００人を越えると高いカー回転
角を有するコバルトフェライト膜を製造することが困難
となる。
、１００Å以下にする。この理由は、それらＣ“０とＦ
ｅの２層の合計厚さが１００人を越えると高いカー回転
角を有するコバルトフェライト膜を製造することが困難
となる。
上記金属多層膜におけるＣｏとＦｅの厚さの比は、１：
９〜４：６の範囲に設定する。この理由は、前記範囲を
逸脱すると高いカー回転角を有すると共に面に対して垂
直な磁化を持つコバルトフェライト膜を製造することが
困難となる。
９〜４：６の範囲に設定する。この理由は、前記範囲を
逸脱すると高いカー回転角を有すると共に面に対して垂
直な磁化を持つコバルトフェライト膜を製造することが
困難となる。
上記金属多層膜の熱処理工程は、３００℃以上の温度で
の昇温速度を１００℃／ｈｒ以下とし、かつ５００℃以
上で２時間以上保持することにより行なう。この理由は
、３００℃以上の温度での昇温速度が１００℃／ｈｒを
越えると、多層膜の急激な体積膨脹が起こり基板からの
剥離を招く恐れがある。また、最終加熱温度を５００℃
未満にすると金属部分が膜内に残留して膜の非抵抗も１
ｉｄ−’オーダと金属の性質が残って良好な磁気特性を
持つコバルトフェライト膜を得ることが困難となる。
の昇温速度を１００℃／ｈｒ以下とし、かつ５００℃以
上で２時間以上保持することにより行なう。この理由は
、３００℃以上の温度での昇温速度が１００℃／ｈｒを
越えると、多層膜の急激な体積膨脹が起こり基板からの
剥離を招く恐れがある。また、最終加熱温度を５００℃
未満にすると金属部分が膜内に残留して膜の非抵抗も１
ｉｄ−’オーダと金属の性質が残って良好な磁気特性を
持つコバルトフェライト膜を得ることが困難となる。
［作 用コ
コバルトフェライトは、化学量論組成がＣｏＦｅ２Ｏ４
で表わされる酸化物であり、融点が高いために高温でも
比較的安定である。このため、アニーリングして結晶性
を改善するには高い温度が必要である。現在、コバルト
フェライト膜は主に酸化物ターゲットや合金ターゲット
を酸素を含む雰囲気中で基板温度を５００℃以上にして
スパッタリングすることにより製造したり、或いは室温
でアモルファス的な構造の膜を作成した後酸素雰囲気又
は大気中で５００℃以上の温度でアニリングして製造さ
れている。しかしながら、これらの方法では安定なコバ
ルトフェライトのアニーング温度としては不十分で、結
晶粒の成長を含めた結晶性の大幅な改善にまで至らない
。更に、基板材料（例えばガラス等）の耐熱性を考慮す
ると、これ以上の高温でのアニーリングは好ましくない
。
で表わされる酸化物であり、融点が高いために高温でも
比較的安定である。このため、アニーリングして結晶性
を改善するには高い温度が必要である。現在、コバルト
フェライト膜は主に酸化物ターゲットや合金ターゲット
を酸素を含む雰囲気中で基板温度を５００℃以上にして
スパッタリングすることにより製造したり、或いは室温
でアモルファス的な構造の膜を作成した後酸素雰囲気又
は大気中で５００℃以上の温度でアニリングして製造さ
れている。しかしながら、これらの方法では安定なコバ
ルトフェライトのアニーング温度としては不十分で、結
晶粒の成長を含めた結晶性の大幅な改善にまで至らない
。更に、基板材料（例えばガラス等）の耐熱性を考慮す
ると、これ以上の高温でのアニーリングは好ましくない
。
このようなことから、本発明では酸化され易い金属状態
のＣｏとＦｅを、酸化物や合金に比べて安価なＣｏとＦ
ｅの単体ターゲットを用いて交互に積層して２０００人
程度０厚さの多層膜とし、これを酸素を含む雰囲気中で
５００℃以上の温度で２時間以上熱処理することによっ
て、結晶性、磁気特性の優れたコバルトフェライト膜を
得ることができる。また、前記積層に際して全膜厚を例
えば２０００人と一定にした状態にて多層膜のＣｏとＦ
ｅの２層の合計厚さを変化させたり、積層数を変化させ
ることにより磁気光学特性であるカー回転角を調整でき
、またＣｏとＦｅの２層の厚さ比（組成）を変化させる
ことによってもカー回転角を調整できると共に、面内磁
化膜から垂直磁化膜へと変化させることができる。
のＣｏとＦｅを、酸化物や合金に比べて安価なＣｏとＦ
ｅの単体ターゲットを用いて交互に積層して２０００人
程度０厚さの多層膜とし、これを酸素を含む雰囲気中で
５００℃以上の温度で２時間以上熱処理することによっ
て、結晶性、磁気特性の優れたコバルトフェライト膜を
得ることができる。また、前記積層に際して全膜厚を例
えば２０００人と一定にした状態にて多層膜のＣｏとＦ
ｅの２層の合計厚さを変化させたり、積層数を変化させ
ることにより磁気光学特性であるカー回転角を調整でき
、またＣｏとＦｅの２層の厚さ比（組成）を変化させる
ことによってもカー回転角を調整できると共に、面内磁
化膜から垂直磁化膜へと変化させることができる。
５００℃以上の温度で２時間以上熱処理を行うことによ
って、金属部分が膜内に残留することなく完全な酸化膜
を得ることができる。この場合、酸化によって膜は２．
５〜３，０倍近い体積膨脹を伴うため、昇温速度を大き
くすると体積膨脹が急激に起り、膜が基板から剥離する
恐れがある。このため、酸化が起り始める３００℃以上
の温度での昇温速度を１００℃／ｈｒ以下にすることに
よって、基板からの膜の剥離を防止できる。
って、金属部分が膜内に残留することなく完全な酸化膜
を得ることができる。この場合、酸化によって膜は２．
５〜３，０倍近い体積膨脹を伴うため、昇温速度を大き
くすると体積膨脹が急激に起り、膜が基板から剥離する
恐れがある。このため、酸化が起り始める３００℃以上
の温度での昇温速度を１００℃／ｈｒ以下にすることに
よって、基板からの膜の剥離を防止できる。
［実施例］
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例１
第１図に示すようにＣｏ １とＦｅ２の積層膜の厚さ
の比が１：２で全膜厚を２０００人一定とし、（Ｃｏ／
Ｆｅ＝８８０人／ １３４０人）Ｘ１層、 （Ｃ。
の比が１：２で全膜厚を２０００人一定とし、（Ｃｏ／
Ｆｅ＝８８０人／ １３４０人）Ｘ１層、 （Ｃ。
／Ｆｅ−３３０人／６７０人）Ｘ２層、 （Ｃｏ ／
Ｆ ｅ−１６５人／３３５人）Ｘ４層、 （Ｃｏ／Ｆｅ
−８２，５人／ １６７．５人）Ｘ８層、 （Ｃｏ
／Ｆｅ −６８人／１３４人）８１０層、 （Ｃｏ／Ｆ
ｅ−３３人／６７人）×２０層、 （Ｃｏ／Ｆｅ−１７
人／３３人）×４０層の７つの形態の積層膜を、ガラス
基板（コーニング社製商品名；コーニング７０５９）
３上にＣＯとＦｅの単体ターゲットをＡｒ中で以下に
示す条件にてスパッタリングすることにより作製した。
Ｆ ｅ−１６５人／３３５人）Ｘ４層、 （Ｃｏ／Ｆｅ
−８２，５人／ １６７．５人）Ｘ８層、 （Ｃｏ
／Ｆｅ −６８人／１３４人）８１０層、 （Ｃｏ／Ｆ
ｅ−３３人／６７人）×２０層、 （Ｃｏ／Ｆｅ−１７
人／３３人）×４０層の７つの形態の積層膜を、ガラス
基板（コーニング社製商品名；コーニング７０５９）
３上にＣＯとＦｅの単体ターゲットをＡｒ中で以下に
示す条件にてスパッタリングすることにより作製した。
［スパッタ条件コ
スバッタ全圧； ２ｍ ｔｏｒｒ
スパッタ電流、 ０．２Ａ
基板温度；室温
次いで、前記各積層膜を電気炉を用い、大気中で第３図
に示す熱処理パターンで熱処理を行った。
に示す熱処理パターンで熱処理を行った。
即ち、３００℃まで早い昇温速度で加熱し、３００℃か
ら５００℃までの温度範囲では１００℃／ｈｒの昇温速
度とし、５００℃の温度で２時間保持した後徐冷するこ
とによりガラス基板上にコバルトフェライト膜を製造し
た。
ら５００℃までの温度範囲では１００℃／ｈｒの昇温速
度とし、５００℃の温度で２時間保持した後徐冷するこ
とによりガラス基板上にコバルトフェライト膜を製造し
た。
本実施例１により得られた７種のコバルトフェライト膜
について、Ｃｏ濃度を誘導結合プラズマ発光分光分析法
（ＩＣＰ法）で測定すると共に、カー回転角を調べた。
について、Ｃｏ濃度を誘導結合プラズマ発光分光分析法
（ＩＣＰ法）で測定すると共に、カー回転角を調べた。
その結果を下記第１表に示す。
上記第１表から明らかなようにコバルトフェライト膜中
のＣｏ濃度が等しいにも拘らずカー回転角の値は積層回
数によって変化しており、しかもＣｏとＦｅの２層厚さ
が１００Å以下（積層回数２０回以上のＮｏ ４、Ｎｏ
５）では高いカー回転角を有することがわかる。これ
は、積層の厚さが薄くなることによってＣｏとＦｅの相
互拡散距離が短くなり、化合物の生成速度が大きくなる
ため、化学量論組成を取り易くなるためと考えられる。
のＣｏ濃度が等しいにも拘らずカー回転角の値は積層回
数によって変化しており、しかもＣｏとＦｅの２層厚さ
が１００Å以下（積層回数２０回以上のＮｏ ４、Ｎｏ
５）では高いカー回転角を有することがわかる。これ
は、積層の厚さが薄くなることによってＣｏとＦｅの相
互拡散距離が短くなり、化合物の生成速度が大きくなる
ため、化学量論組成を取り易くなるためと考えられる。
また、積層厚さが厚い場合では長時間又はさらに高温で
熱処理すれば上記の結果に近付くものと考えられる。
熱処理すれば上記の結果に近付くものと考えられる。
実施例２
第２図に示すように全膜厚を２０００人、Ｃｏ １と
Ｆｅ２の２層の厚さの合計を５０人（積層数４０層）と
一定とし、Ｃｏ ／ Ｆ ｅの比をＣｏ／Ｆｅ−５人／
４５人、Ｃｏ／Ｆｅ−１０人／４０人、Ｃｏ ／ Ｆ
ｅ ＝１７人／３３人、Ｃｏ／Ｆｅ−２０人／３０人、
Ｃｏ／Ｆｅ−２５人／２５人、Ｃｏ／Ｆｅ＝３０人／２
０人の６つの形態の積層膜を、ガラス基板（コーニング
社製部品名；コーニング７０５９） ３上にＣｏとＦ
ｅの単体ターゲットをＡｒ中で前述したのと同様な条件
にてスパッタリングすることにより作製した。
Ｆｅ２の２層の厚さの合計を５０人（積層数４０層）と
一定とし、Ｃｏ ／ Ｆ ｅの比をＣｏ／Ｆｅ−５人／
４５人、Ｃｏ／Ｆｅ−１０人／４０人、Ｃｏ ／ Ｆ
ｅ ＝１７人／３３人、Ｃｏ／Ｆｅ−２０人／３０人、
Ｃｏ／Ｆｅ−２５人／２５人、Ｃｏ／Ｆｅ＝３０人／２
０人の６つの形態の積層膜を、ガラス基板（コーニング
社製部品名；コーニング７０５９） ３上にＣｏとＦ
ｅの単体ターゲットをＡｒ中で前述したのと同様な条件
にてスパッタリングすることにより作製した。
次いで、前記各積層膜を電気炉を用い、実施例１と同様
に大気中で第３図に示す熱処理ノくターンで熱処理を行
ってガラス基板上にコバルトフェライト膜を製造した。
に大気中で第３図に示す熱処理ノくターンで熱処理を行
ってガラス基板上にコバルトフェライト膜を製造した。
本実施例２により得られた６種のコバルトフェライト膜
について、１０ ｋＯｅの磁界を印加して面内方向磁化
特性；磁化（Ｍ）、保磁力（Ｈｅ ） 、垂直方向磁化
特性；磁化（Ｍ’ ） 、保磁力（Ｈｃ’）、垂直方向
と面内方向の磁化比（Ｍ’ ／Ｍ） 、垂直方向と面内
方向の保磁力比（Ｈｅ”／Ｈｅ ）及びカー回転角を調
べた。その結果を下記第２表に示す。
について、１０ ｋＯｅの磁界を印加して面内方向磁化
特性；磁化（Ｍ）、保磁力（Ｈｅ ） 、垂直方向磁化
特性；磁化（Ｍ’ ） 、保磁力（Ｈｃ’）、垂直方向
と面内方向の磁化比（Ｍ’ ／Ｍ） 、垂直方向と面内
方向の保磁力比（Ｈｅ”／Ｈｅ ）及びカー回転角を調
べた。その結果を下記第２表に示す。
上記第２表から明らかなようにコバルトフェライトの化
学量論組成（ＣｏＦｅ２０４）に対し、膜中のＣＯ濃度
が高すぎるとカー回転角は測定できない位小さくなり、
Ｆｅ濃度が高い場合は化学量論組成に比べて小さくなる
ものの、一定レベル以上の値が得られる。特に、Ｃｏと
Ｆｅの膜厚比が１＝９〜４：Ｂの範囲内の積層膜を大気
中で熱処理して得られたコバルトフェライト膜（第２表
中のＮｏ１−Ｎｏ４）では大きいなカー回転角を有する
ことがわかる。また、各コバルトフェライト膜はいずれ
も垂直方向と面内方向の保磁力比（Ｈｅ’／Ｈｅ）が１
以上で、垂直方向の保磁力が高い特性を有する。特に、
ＣＯとＦｅの膜厚比が１〜２以上の範囲内の積層膜を大
気中で熱処理して得られたコバルトフェライト膜（第２
表中のＮ。
学量論組成（ＣｏＦｅ２０４）に対し、膜中のＣＯ濃度
が高すぎるとカー回転角は測定できない位小さくなり、
Ｆｅ濃度が高い場合は化学量論組成に比べて小さくなる
ものの、一定レベル以上の値が得られる。特に、Ｃｏと
Ｆｅの膜厚比が１＝９〜４：Ｂの範囲内の積層膜を大気
中で熱処理して得られたコバルトフェライト膜（第２表
中のＮｏ１−Ｎｏ４）では大きいなカー回転角を有する
ことがわかる。また、各コバルトフェライト膜はいずれ
も垂直方向と面内方向の保磁力比（Ｈｅ’／Ｈｅ）が１
以上で、垂直方向の保磁力が高い特性を有する。特に、
ＣＯとＦｅの膜厚比が１〜２以上の範囲内の積層膜を大
気中で熱処理して得られたコバルトフェライト膜（第２
表中のＮ。
１〜Ｎｏ ４）では、垂直方向と面内方向の磁化比（Ｍ
’ ／Ｍ）が１以上になり、完全な垂直磁化膜になるこ
とがわかる。
’ ／Ｍ）が１以上になり、完全な垂直磁化膜になるこ
とがわかる。
［発明の効果］
以上詳述した如く、本発明によれば基板上にＣｏとＦｅ
を２層以上積層して金属多層膜を形成した後、酸素を含
む雰囲気中で熱処理することによって、結晶性、磁化や
保磁力などの磁気特性の他にカー回転角などの磁気光学
特性の優れ、光磁気記録媒体等に好適なコバルトフェラ
イト膜の製造方法を提供できる。また、基板上にＣｏと
Ｆｅの２層の厚さの合計が１００Å以下として積層し、
更にＣｏとＦｅの２層の厚さの比を１：９〜４：６の範
囲内にして金属多層膜を形成した後、酸素を含む雰囲気
中で３００℃以上の温度での昇温速度を １００℃／ｈ
ｒ以下とし、かつ５００℃以上で２時間以上保持する熱
処理を行なうことによって、酸化による体積膨張に伴う
基板からの剥離を招くことなく結晶性、磁化や保磁力な
どの磁気特性、カー回転角などの磁気光学特性の優れ、
かつ垂直方向への磁化を持つ高密度光磁気記録媒体等に
好適なコバルトフェライト膜の製造方法を提供できる。
を２層以上積層して金属多層膜を形成した後、酸素を含
む雰囲気中で熱処理することによって、結晶性、磁化や
保磁力などの磁気特性の他にカー回転角などの磁気光学
特性の優れ、光磁気記録媒体等に好適なコバルトフェラ
イト膜の製造方法を提供できる。また、基板上にＣｏと
Ｆｅの２層の厚さの合計が１００Å以下として積層し、
更にＣｏとＦｅの２層の厚さの比を１：９〜４：６の範
囲内にして金属多層膜を形成した後、酸素を含む雰囲気
中で３００℃以上の温度での昇温速度を １００℃／ｈ
ｒ以下とし、かつ５００℃以上で２時間以上保持する熱
処理を行なうことによって、酸化による体積膨張に伴う
基板からの剥離を招くことなく結晶性、磁化や保磁力な
どの磁気特性、カー回転角などの磁気光学特性の優れ、
かつ垂直方向への磁化を持つ高密度光磁気記録媒体等に
好適なコバルトフェライト膜の製造方法を提供できる。
第１図は本発明の実施例１における積層膜を示す概略図
、第２図は本発明の実施例２における積層膜を示す概略
図、 第３図はコバルトフェライ ト 膜を製造する際の熱処理パターンを示す説明図である。 １・・・ Ｃｏ。 ２・・・Ｆｅ。 ３・・・積層膜。
、第２図は本発明の実施例２における積層膜を示す概略
図、 第３図はコバルトフェライ ト 膜を製造する際の熱処理パターンを示す説明図である。 １・・・ Ｃｏ。 ２・・・Ｆｅ。 ３・・・積層膜。
Claims (4)
- （１）基板上にＣｏとＦｅを２層以上積層して金属多層
膜を形成した後、酸素を含む雰囲気中で熱処理すること
を特徴とするコバルトフェライト膜の製造方法。 - （２）基板上に形成した金属多層膜におけるＣｏとＦｅ
の２層の合計厚さを１００Å以下とすることを特徴とす
る請求項１記載のコバルトフェライト膜の製造方法。 - （３）基板上に形成した金属多層膜におけるＣｏとＦｅ
の厚さの比を１：９〜４：６の範囲にすることを特徴と
する請求項１記載のコバルトフェライト膜の製造方法。 - （４）金属多層膜の熱処理工程を、３００℃以上の温度
での昇温速度を１００℃／ｈｒ以下とし、かつ５００℃
以上で２時間以上保持することにより行なうことを特徴
とする請求項１記載のコバルトフェライト膜の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11045190A JPH0410509A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | コバルトフェライト膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11045190A JPH0410509A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | コバルトフェライト膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0410509A true JPH0410509A (ja) | 1992-01-14 |
Family
ID=14536053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11045190A Pending JPH0410509A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | コバルトフェライト膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0410509A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5589261A (en) * | 1992-03-30 | 1996-12-31 | Toda Kogyo Corporation | Perpendicular magnetic film, process for producing the same and magnetic recording medium having the same |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11045190A patent/JPH0410509A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5589261A (en) * | 1992-03-30 | 1996-12-31 | Toda Kogyo Corporation | Perpendicular magnetic film, process for producing the same and magnetic recording medium having the same |
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