JPH0397193A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH0397193A
JPH0397193A JP1233539A JP23353989A JPH0397193A JP H0397193 A JPH0397193 A JP H0397193A JP 1233539 A JP1233539 A JP 1233539A JP 23353989 A JP23353989 A JP 23353989A JP H0397193 A JPH0397193 A JP H0397193A
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sense amplifier
wires
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layer
wired
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JP1233539A
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Hiroyoshi Tomita
浩由 富田
Masao Taguchi
眞男 田口
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 半導体記憶装置に関し、 コラム選択線と選択ゲートとの間の迂回配線の本数を削
減して、該迂回配線の所要面積を縮減することを目的と
し、 多層配線層の何れか一層を用いてコラム選択線を配線し
、また、他の層を用いて上記コラム選択線と直交するセ
ンスアンプ駆動信号線を配線する半導体記憶装置におい
て、前記コラム選択線を配線した層に、該コラム選択線
と平行する横方向配線を配線するとともに、前記センス
アンプ駆動信号線の複数箇所と該横方向配線とをコンタ
クトホールで接続したことを特徴とする。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体記憶装置、特に、多数のセンスアンプ
で1つのセンスアンプ列を形成し、この列を多数配列す
る半導体記憶装置に係り、各センスアンプ列の選択ゲー
トとコラム選択線との間を接続する迂回配線の線幅を縮
減するに好適なレイアウト技術に関する。
近年の大容量化した半導体記憶装置にあっては、記憶セ
ルやセンスアンプの数を一段と増大している。例えば、
16M  DRAMにあっては、32768個もの大量
のセンスアンプを必要とするので、効率よくセンスアン
プをレイアウトすることが求められ、例えば、2048
個(2K個)のセンスアンプで1つのセンスアンプ列を
構成し、これを16列並べてレイアウトすることが行わ
れている。
ところで、こうしたセンスアンプ列の作動/非作動を制
御する線いわゆるセンスアンプ駆動信号線は、当該セン
スアンプ上を同方向(すなわち、列方向)に延び、駆動
回路を介して電源線VCC、V ssに接続されるが、
センスアンプ数の増大に伴って、センスアンプ駆動信号
線の電流密度を確保し難くなる問題が発生してきた。そ
こで、本出願人は先に「半導体記憶装置」 (特願平1
−65360号、特順平1−65361号)を提案して
いる。
〔従来の技術〕
この先願技術は、センスアンプ列方向に走るセンスアン
プ駆動信号線を、その複数箇所でセンスアンプ列と直交
する横方向配線に接続し、この横方向配線を介して電源
に接続するもので、これによれば、例えばセンスアンプ
列をIK個のセンスアンプづつに2分すると、2K個の
センスアンプの場合に比べてセンスアンプ駆動信号線を
流れる電流を半減でき、前述の電流密度の問題を解決す
ることができる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記先願のものにあっては、配線層の一
層目を用いてセンスアンプ駆動信号線を配線し、また、
2層目を用いてセンスアンプ駆動信号線と直交する横方
向配線を配線するとともに、この2層目を用いてコラム
選択線を配線する構或であったため、以下に述べる理由
から、チップの短辺長(センスアンプの配列方向の長さ
に相当)が長くなるといった問題点があった。
すなわち、第5図は1つのセンスアンプ列の周辺を示す
先願技術のレイアウト図である。この図?おいて、SA
+−S/’zzsはセンスアンプ列を構戒するセンスア
ンプ、J, 、ltは一層目のセンスアンプ駆動信号線
、l.、II■は2層目の横方向配線であり、l,とl
.およびIl2と11■はコンタクトホールH.,H.
によって接続されている。なお、G. 、G.は2層目
のコラム選択線゜1!Iによって選択される選択ゲート
(以下、単にゲート)で、このゲートが選択されると、
センスアンプをデータパスDBに接続して、データの読
み出し/書き込みを行う。なお、図中BLはビット線を
表わす。
ゲートG. 、G.は各センスアンプごとに設けられ、
これらのゲートとコラム選択線1!1との間の接続は次
のようになる。すなわち、2層目のコラム選択線l.を
IN目に落とし、さらに、この1層目を用いてセンスア
ンプ列と平行する迂回配線121′を形威し、この迂回
配線121′をゲートG, 、czに接続することにな
る。迂回配線l21の本数は、1つの横方向配線下に位
置するセンスアンプ数に応じ、例えば、そのセンスアン
プ数を?2個(SA34〜SA9S)とすると、31本
の迂回配線l■′を必要とする。そして、これらの迂回
配線127′はl層目の配線ピッチの間隔で、図中横方
向に並べられる。
したがって、1層目の配線ピッチを1μmとしても、1
μmX(1つの横方向配線下の配線JZIの本数、例え
ば31本)=31μmとなり、センスアンプ列が16列
もあれば、31μm×16列=496μmとほぼ0.5
關近くも配線面積を要し、その結果、センスアンプ列の
配列方向長さすなわちチップの長辺長が長くなるといっ
た不具合があった。
そこで本発明は、コラム選択線と選択ゲートとの間の迂
回配線の本数を削減して、該迂回配線の所要面積を縮減
することを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る半導体記憶装置は、上記目的を達威するた
めに、多層配線層の何れか一層を用いてコラム選択線を
配線し、また、他の層を用いて上記コラム選択線と直交
するセンスアンプ駆動信号線を配線する半導体記憶装置
において、前記コラム選択線を配線した層に、該コラム
選択線と平行する横方向配線を配線するとともに、前記
センスアンプ駆動信号線の複数箇所と該横方向配線とを
コンタクトホールで接続したことを特徴として構威して
いる。
〔作用〕
本発明では、センスアンプ列に供給する駆動電流が複数
本の横方向配線によって分担され、各横方向配線の線幅
縮小が可能になる。したがって、横方向配線下のセンス
アンプ数を減少して、迂回配線の本数を削減できJその
結果、迂回配線の所要面積を縮減して、チップ短辺方向
の長さを小さくできる。
〔実施例〕
以下、本発明を図面に基づいて説明する。
第1〜4図は本発明に係る半導体記憶装置の一実施例を
示す図であり、16M  DRAMに適用し?例である
第1図において、16M  DRAMは、1Mセルブロ
ックを16個配列した16Mセルブロックを有し、各I
Mセルブロックは、2Kサイズのセンスアンプ列を間に
してその両側に512Kサイズのセルブロックを配置し
て構戒する。16Mセルブロックの両側には、センスア
ンプ駆動回路10、11が配置され、センスアンプ駆動
回路10、11からは、13+、l3■、Il33、C
34、 3,、136で代表する横力向l 配線がセンスアンプ列と直交する方向に延びている。図
中左側に位置するセンスアンプ駆動回路10からの横方
向配線l,1、・・・・・・はセンスアンプ列の各々の
センスアンプ駆動信号′ian Iに接続し、図中右側
に位置するセンスアンプ駆動回路1lからの横方向配線
l3■、・・・・・・はセンスアンプ列の各々のセンス
アンプ駆動信号線12に接続している。なお、第2図は
16M  DRAMの他のレイアウト例であり、このレ
イアウトの場合にも、各センスアンプ列上にセンスアン
プ駆動信号線幅、12が、そして、このf, 、l,に
直交して横方向配線?第2図の上下方向に延びる配線)
が配線されている。
第3図は第l図の1つのセンスアンプ列の周辺を拡大し
て示す図で、センスアンプ列の列方向に延びるセンスア
ンプ駆動信号線llSIl2は、その複数箇所(図では
2箇所)で横方向信号線l1、・・・・・・に接続して
いる。なお、Hはコンタクトホール、G+ 、Gzは選
択ゲート、BLはビット線、DBはデータパス線、l■
はコラム選択線であり、センスアンプ駆動信号線1, 
、l,は多層配線層の一層目に配線され、また、コラム
選択線IZIと横方向配線l.、・・・・・・は互いに
平行して2層目に配線されている。
このような構成において、センスアンプ列を構成する各
センスアンプSAの駆動電流、すなわちセンスアンブS
Aを作動/非作動する電流は、“複数”の横方向配線l
,い・・・・・・を介して供給されるので、各横方向配
線12+、・・・・・・の負担電流を削減でき、したが
って、各横方向配線の線幅を縮小することができる。そ
の結果、横方向配線下に?置する選択ゲートG1、G2
の数を少なくでき、このゲートG+ 、Gzとコラム選
択b’Aizrとの間を接続する一層目配線、すなわち
迂回配線の本数を削減して迂回配線の所要面積を縮減で
きる。
このことを第4図に従って具体的に説明する。
第4図は16個のセンスアンプを単位としてレイアウト
した例で、図では横方向配線13いl3■の下にSAS
からSA,■までの計8個のセンスアンプが位置してい
る。この個数は、横方向配線13.・・・・・・の線幅
を削減したことによって得られた数であり、従来例に比
べて少なくなった数である。このため、横方向配線l1
の下にはセンスアンプの個数と同じ8対の選択ゲー}G
l,G2が位置することになり、したがって、2N目の
コラム選択線l■と各選択ゲートGI,Gtの対を接続
する1層目の迂回配線は、横方向配線下において、A、
A′、B,B’のA,82本とすることができる。
その結果、1N目の配線のピンチを1μmとすれば、 lμm×2本=2μm であるから、1つのセンスアンプ列当り2μm程度の迂
回配線所要面積で済み、チップ短辺長の増加を、2μm
×16列=32μm程度に抑えることができる(第1図
の16M  DRAMの場合)。これは、従来例の0,
5niに比べておよそl/15もの面積節減となる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、コラム選択線と選択ゲートとの間の迂
回配線の本数を削減して、該迂回配線の所要面積を縮減
することができる。
アウトを具体的に示す図、 第5図は従来例を示すその1つのセンスアンプ列周辺の
レイアウト図である。
1, 、l,・・・・・・センスアンプ駆動信号線、1
21・・・・・コラム選択線、 131・’ 3 t s l 3 3・134、135
、63&・・・・・・横方向配線、H・・・・・・コン
タクトホール。
【図面の簡単な説明】
第1〜4図は本発明に係る半導体記憶装置の一実施例を
示す図であり、 第1図はその16M  DRAMの配置図、第2図はそ
の16M  DRAMの他の配置図、第3図はその1つ
のセンスアンプ列周辺のレイアウト図、 第4図はその1つのセンスアンプ列周辺のレイ1つのセ
ンスアンプ列周辺のレイアウト図第3図 従来例を示すその1つのセンスアンプ列周辺のレイアウ
ト図第5図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  多層配線層の何れか一層を用いてコラム選択線を配線
    し、また、他の層を用いて上記コラム選択線と直交する
    センスアンプ駆動信号線を配線する半導体記憶装置にお
    いて、 前記コラム選択線を配線した層に、該コラム選択線と平
    行する横方向配線を配線するとともに、前記センスアン
    プ駆動信号線の複数箇所と該横方向配線とをコンタクト
    ホールで接続したことを特徴とする半導体記憶装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5321646A (en) * 1991-04-09 1994-06-14 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Layout of a semiconductor memory device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60246092A (ja) * 1984-05-21 1985-12-05 Hitachi Ltd 半導体記憶装置

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