JPH039575A - 光検知器用コールドアパーチャ - Google Patents
光検知器用コールドアパーチャInfo
- Publication number
- JPH039575A JPH039575A JP1144993A JP14499389A JPH039575A JP H039575 A JPH039575 A JP H039575A JP 1144993 A JP1144993 A JP 1144993A JP 14499389 A JP14499389 A JP 14499389A JP H039575 A JPH039575 A JP H039575A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- substrate
- film
- cold aperture
- cold
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 7
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 abstract description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 4
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 description 2
- 101710133576 Slit homolog 2 protein Proteins 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
赤外線検知素子等の光検知素子に入射する入射光を規制
するコールドアパーチャに関し、高精度で微細なパター
ンのコールドアパーチャの提供を目的とし、 光透過基板上に表面が光の低反射率膜で被覆された所定
形状の樹脂層を、所定の間隔で配置して構成する。
するコールドアパーチャに関し、高精度で微細なパター
ンのコールドアパーチャの提供を目的とし、 光透過基板上に表面が光の低反射率膜で被覆された所定
形状の樹脂層を、所定の間隔で配置して構成する。
[産業上の利用分野]
本発明は赤外線検知素子等の光検知素子に入射する入射
光の入射角度を規定するコールドアパーチャに関する。
光の入射角度を規定するコールドアパーチャに関する。
赤外線検知素子には、該素子に入射される光の入射角度
を規制するコールドアパーチャを該検知素子の受光面上
に設置し、入射光の入射角度を規制することで、視野外
の光や迷光の素子への導入を抑え、該検知素子の高感度
化を図る方法が採られている。
を規制するコールドアパーチャを該検知素子の受光面上
に設置し、入射光の入射角度を規制することで、視野外
の光や迷光の素子への導入を抑え、該検知素子の高感度
化を図る方法が採られている。
このようなコールドアパーチャとしては、従来、第3図
および第4図に示すように黒化処理を施したコバール板
等の金属板1に単一の所定の幅のスリット2を開口し、
該単一のスリット2が線状に配列された赤外線検知素子
3の受光面に対応するように該検知素子を形成した化合
物半導体基板4を設置する冷却ヘッド5上に接着剤6等
を用いて固着されて形成されている(このようなコール
ドアパーチャの例としては実開昭58−189936号
公報参照)。
および第4図に示すように黒化処理を施したコバール板
等の金属板1に単一の所定の幅のスリット2を開口し、
該単一のスリット2が線状に配列された赤外線検知素子
3の受光面に対応するように該検知素子を形成した化合
物半導体基板4を設置する冷却ヘッド5上に接着剤6等
を用いて固着されて形成されている(このようなコール
ドアパーチャの例としては実開昭58−189936号
公報参照)。
またその他のコールドアパーチャの従来例としては、第
5図に示すように以前に本発明者等が特願昭63−26
3389号に於いて提案したように、所定の面方位を有
し反射防止膜として二酸化シリコン(SiO□)膜8を
形成し、赤外線を透過するシリコン(Si )基板7を
所定の異方性エツチング液を用いて該基板の面方位に沿
った形状のエツチング孔9を形成し、ごの工・ンヂング
孔をコールドアパーチャとしたものがある。
5図に示すように以前に本発明者等が特願昭63−26
3389号に於いて提案したように、所定の面方位を有
し反射防止膜として二酸化シリコン(SiO□)膜8を
形成し、赤外線を透過するシリコン(Si )基板7を
所定の異方性エツチング液を用いて該基板の面方位に沿
った形状のエツチング孔9を形成し、ごの工・ンヂング
孔をコールドアパーチャとしたものがある。
更にその他の例として第6図に示すように、以前に本発
明者等が特願昭63−309078号に於いて提案した
面方位がそれぞれ異なる2枚のSi基板7を貼り合わせ
てこの各々の基板に異方性エツチング液を用いて互いに
直交するエツチング孔9を開口し、この各々の基板に開
口したエツチング孔9を組み合わせたコールドアパーチ
ャとしたものがある。
明者等が特願昭63−309078号に於いて提案した
面方位がそれぞれ異なる2枚のSi基板7を貼り合わせ
てこの各々の基板に異方性エツチング液を用いて互いに
直交するエツチング孔9を開口し、この各々の基板に開
口したエツチング孔9を組み合わせたコールドアパーチ
ャとしたものがある。
然し、上記した金属板1に光学開口を形成する従来のコ
ールドアパーチャでは、この単一のスリットが機械加工
によって行われているため、高精度なスリットの寸法を
得るのは困難である。
ールドアパーチャでは、この単一のスリットが機械加工
によって行われているため、高精度なスリットの寸法を
得るのは困難である。
また上記したコールドアパーチャは、綿状に配設された
各々の赤外線検知素子の受光面の1対1に対応するよう
に個別のコールドアパーチャが本来は必要であるが、こ
の検知素子の受光面は微細な寸法で加工されており、か
つその受光面は微細なピッチで配列されているため、こ
のような受光面に個別に対応するようなコールドアパー
チャを機械的に高精度に形成するのは困難である。
各々の赤外線検知素子の受光面の1対1に対応するよう
に個別のコールドアパーチャが本来は必要であるが、こ
の検知素子の受光面は微細な寸法で加工されており、か
つその受光面は微細なピッチで配列されているため、こ
のような受光面に個別に対応するようなコールドアパー
チャを機械的に高精度に形成するのは困難である。
また上記シリコン基板7にエツチング孔を開口して形成
するコールドアパーチャは、該エツチング孔が高精度な
寸法で微細パターンにに形成するのは困難で、また2枚
のS i ! +5.を貼り合わせて形成するコールド
アパーチャは工程が煩雑となる難点がある。
するコールドアパーチャは、該エツチング孔が高精度な
寸法で微細パターンにに形成するのは困難で、また2枚
のS i ! +5.を貼り合わせて形成するコールド
アパーチャは工程が煩雑となる難点がある。
本発明は上記した問題点を解決し、線状、或いは二次元
状に配設された赤外線検知素子の各受光面の各々に対応
するような個別のコールドアパーチャが、容易にかつ高
精度に得られるようにしたコールドアパーチャの提供を
目的とする。
状に配設された赤外線検知素子の各受光面の各々に対応
するような個別のコールドアパーチャが、容易にかつ高
精度に得られるようにしたコールドアパーチャの提供を
目的とする。
〔課題を解決するための手段]
上記目的を達成する本発明のコールドアパーチャは第1
図番こ示すように、光透過基板ll上に表面が光の低反
射率膜12で被覆された所定形状の樹脂層13を、所定
の間隔で配置したことで構成する。
図番こ示すように、光透過基板ll上に表面が光の低反
射率膜12で被覆された所定形状の樹脂層13を、所定
の間隔で配置したことで構成する。
赤外線を透過するゲルマラム、或いはシリコン基板に粘
性が大きく、かつ感光性のポリイミド樹脂を所定の厚さ
で塗布した後、該樹脂層をホトリソグラフィ法で露光お
よび現像して所定の間隔を隔てた直方体形状の樹脂層に
形成し、この樹脂層の表面に選択的に、ホトレジスト膜
を用いたリフトオフ法によりタングステン等の金属膜、
或いはシリコンの酸化膜のような赤外線に対して低反射
率の被膜を被覆する。このようにすると樹脂層は高精度
に微細に形成されるので、上記パターン形成された樹脂
層より赤外線を入射すると微細パターンに形成された樹
脂層により赤外線の入射角度が規制された高精度のコー
ルドアパーチャが得られる。
性が大きく、かつ感光性のポリイミド樹脂を所定の厚さ
で塗布した後、該樹脂層をホトリソグラフィ法で露光お
よび現像して所定の間隔を隔てた直方体形状の樹脂層に
形成し、この樹脂層の表面に選択的に、ホトレジスト膜
を用いたリフトオフ法によりタングステン等の金属膜、
或いはシリコンの酸化膜のような赤外線に対して低反射
率の被膜を被覆する。このようにすると樹脂層は高精度
に微細に形成されるので、上記パターン形成された樹脂
層より赤外線を入射すると微細パターンに形成された樹
脂層により赤外線の入射角度が規制された高精度のコー
ルドアパーチャが得られる。
以下、図面を用いて本発明の一実施例につき詳細に説明
する。
する。
第1図は本発明のコールドアパーチャの一実施例を示す
断面図である。
断面図である。
図示するように、表面が鏡面研暦されたシリコン、或い
はゲルマニウムよりなる赤外線透過基板11上には直方
体形状に形成された感光性ポリイミド樹脂層13が所定
の間隔を隔てて形成されている。
はゲルマニウムよりなる赤外線透過基板11上には直方
体形状に形成された感光性ポリイミド樹脂層13が所定
の間隔を隔てて形成されている。
この樹脂層13の表面はタングステン、チタン、モリブ
デン等の金属膜、或いは二酸化シリコン膜のような酸化
膜より成り入射される赤外線に対して低反射率の低反射
率膜12が被覆されている。そしてこのような基板11
をエポキシ樹脂のような接着剤14、或いは金属バンプ
を用いて赤外線検知素子を形成した化合物半導体基板1
5に前記樹脂層の開口部16が検知素子17の受光面に
対応するように設置する。すると該樹脂層の上部より矢
印のように入射する赤外線は上記開口部でその入射角度
を規制され、高精度なコールドアパーチャが得られる。
デン等の金属膜、或いは二酸化シリコン膜のような酸化
膜より成り入射される赤外線に対して低反射率の低反射
率膜12が被覆されている。そしてこのような基板11
をエポキシ樹脂のような接着剤14、或いは金属バンプ
を用いて赤外線検知素子を形成した化合物半導体基板1
5に前記樹脂層の開口部16が検知素子17の受光面に
対応するように設置する。すると該樹脂層の上部より矢
印のように入射する赤外線は上記開口部でその入射角度
を規制され、高精度なコールドアパーチャが得られる。
このようなコールドアパーチャの製造方法について述べ
ると、まず第2図(a)に示すようにSi、或いはGe
等の赤外線のような光透過基板11の表面を鏡面に研磨
する。
ると、まず第2図(a)に示すようにSi、或いはGe
等の赤外線のような光透過基板11の表面を鏡面に研磨
する。
次いで第2図(b)に示すように、該基板11上に感光
性ポリイミド樹脂13をスピナー等を用いて50〜10
0μm程度の厚さに塗布する。
性ポリイミド樹脂13をスピナー等を用いて50〜10
0μm程度の厚さに塗布する。
次いで第2図(C)に示すように、該ポリイミド樹脂1
3を所定のパターンにホトマスクを用いて露光した後、
未露光部を現像処理して直方体形状のパターンの樹脂層
を所定の間隔を隔てて形成した後、該樹脂層を含む基板
を加熱して該樹脂層を熱硬化させる。
3を所定のパターンにホトマスクを用いて露光した後、
未露光部を現像処理して直方体形状のパターンの樹脂層
を所定の間隔を隔てて形成した後、該樹脂層を含む基板
を加熱して該樹脂層を熱硬化させる。
次いで第2図(d)に示すように該樹脂層13の間にポ
ジ型のホトレジスト膜18を塗布する。
ジ型のホトレジスト膜18を塗布する。
次いで第2図(e)に示すように、該樹脂層13を含む
基板ll上に蒸着、或いはスパッタによりタングステン
(W)、モリブデン(Mo)1.チタン(Ti)等の金
属膜、或いはSiO□膜等の金属酸化膜よりなり赤外線
に対して低反射率の低反射率膜12を、数μmの厚さに
形成する。
基板ll上に蒸着、或いはスパッタによりタングステン
(W)、モリブデン(Mo)1.チタン(Ti)等の金
属膜、或いはSiO□膜等の金属酸化膜よりなり赤外線
に対して低反射率の低反射率膜12を、数μmの厚さに
形成する。
次いで前記ホトレジスト膜18をレジスト膜除去液で除
去するとともに、その上の低反射率膜12をもいわゆる
リフトオフ法によって除去する。このようにすると微細
な開口寸法を有するコールドアパーチャが容易に高精度
に形成でき、−次元或いは二次元に高密度に配設された
赤外線検知素子に対する高精度なコールドアパーチャが
得られる。
去するとともに、その上の低反射率膜12をもいわゆる
リフトオフ法によって除去する。このようにすると微細
な開口寸法を有するコールドアパーチャが容易に高精度
に形成でき、−次元或いは二次元に高密度に配設された
赤外線検知素子に対する高精度なコールドアパーチャが
得られる。
〔発明の効果]
以上の説明から明らかなように本発明によれば、簡単な
方法で微細な寸法の赤外線検知素子用コールドアパーチ
ャが得られる効果がある。
方法で微細な寸法の赤外線検知素子用コールドアパーチ
ャが得られる効果がある。
第1図は本発明のコールドアパーチャの断面図、第2図
(a)より第2図(e)までは、本発明のコールドアパ
ーチャの製造方法を示す断面図、第3図は従来のコール
ドアパーチャを赤外線検知装置に取りつけた断面図、 第4図は従来のコールドアパーチャを赤外線検知装置に
取りつけた斜視図、 第5図および第6図は従来のコールドアパーチャの断面
図である。 mミ7フ、ルト?t6チ〒)tj#31シθ妃考υg’
!L□ktqfr= ET’tjVゴ第31 図において、 11は光透過基板(Si基板、Ge基板)、12は低反
射率膜、13は樹脂層、14は接着剤、15は化合物半
導体基板、16は開口部、17は検知素子、18はホト
レジスト膜を示す。 s 4 図 41本のゴールp1グト一升で4ケ1ull道@ 5
図 谷集ゴー什?#−チマつt労引目 第6図
(a)より第2図(e)までは、本発明のコールドアパ
ーチャの製造方法を示す断面図、第3図は従来のコール
ドアパーチャを赤外線検知装置に取りつけた断面図、 第4図は従来のコールドアパーチャを赤外線検知装置に
取りつけた斜視図、 第5図および第6図は従来のコールドアパーチャの断面
図である。 mミ7フ、ルト?t6チ〒)tj#31シθ妃考υg’
!L□ktqfr= ET’tjVゴ第31 図において、 11は光透過基板(Si基板、Ge基板)、12は低反
射率膜、13は樹脂層、14は接着剤、15は化合物半
導体基板、16は開口部、17は検知素子、18はホト
レジスト膜を示す。 s 4 図 41本のゴールp1グト一升で4ケ1ull道@ 5
図 谷集ゴー什?#−チマつt労引目 第6図
Claims (1)
- 光透過基板(11)上に表面が光の低反射率膜(12)
で被覆された所定形状の樹脂層(13)を、所定の間隔
で配置したことを特徴とする光検知器用コールドアパー
チャ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1144993A JPH039575A (ja) | 1989-06-06 | 1989-06-06 | 光検知器用コールドアパーチャ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1144993A JPH039575A (ja) | 1989-06-06 | 1989-06-06 | 光検知器用コールドアパーチャ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH039575A true JPH039575A (ja) | 1991-01-17 |
Family
ID=15374981
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1144993A Pending JPH039575A (ja) | 1989-06-06 | 1989-06-06 | 光検知器用コールドアパーチャ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH039575A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05175524A (ja) * | 1991-12-26 | 1993-07-13 | Nec Corp | 導波路型受光モジュール |
-
1989
- 1989-06-06 JP JP1144993A patent/JPH039575A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05175524A (ja) * | 1991-12-26 | 1993-07-13 | Nec Corp | 導波路型受光モジュール |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6274198B1 (en) | Shadow mask deposition | |
US5553110A (en) | X-ray mask structure, process for production thereof, apparatus and method for X-ray exposure with the X-ray mask structure, and semiconductor device produced by the X-ray exposure method | |
JPS61182533A (ja) | 基板内で一体化された独立コールドスクリーンを備えた光検出用マトリツクスデバイスおよびその製造方法 | |
US20080050582A1 (en) | Multi-level optical structure and method of manufacture | |
TWI460765B (zh) | 固態浸沒透鏡微影術 | |
US4939052A (en) | X-ray exposure mask | |
US6744953B2 (en) | Planar optical waveguide with alignment structure | |
JPH039575A (ja) | 光検知器用コールドアパーチャ | |
GB2215087A (en) | A method of processing substrates used for mounting and aligning optical elements and components | |
JPH01270362A (ja) | 固体撮像装置の製造方法 | |
US6052178A (en) | Method for aligning optical elements one another on V-groove substrate | |
JP2998673B2 (ja) | ウェハ、該ウェハの位置合わせ方法および装置 | |
JPH04139628A (ja) | 光半導体装置およびその製造方法 | |
JP2556122B2 (ja) | 光学開口の製造方法 | |
JP2622318B2 (ja) | X線露光用マスク | |
JP2001013056A (ja) | 微小開口形成方法 | |
CN103972250B (zh) | 界面的润湿性差异产生的自对准 | |
JPH07134202A (ja) | マイクロレンズアレイ及びその製作法 | |
JPS62113424A (ja) | 半導体装置製造用基板 | |
JP3166803B2 (ja) | X線露光用マスク | |
JPH0387705A (ja) | 高効率プリズム結合装置及びその作成方法 | |
JPH0667045A (ja) | 光学装置及びその製造方法 | |
JPS59110161A (ja) | 微小部品の取付け方法 | |
JPH04181784A (ja) | 半導体素子及びその製造方法 | |
JPH11122531A (ja) | 赤外線撮像素子 |