JPH0393230A - 超音波洗浄装置および超音波洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、超音波を利用して、半導体ウエハ等の洗浄を
行うための洗浄装置および洗浄方法に関する． 〔従来の技術〕 従来の装置では、特開昭５６−６０６７７号公報に記載
のように、蛇口状に形成された洗浄水供給用の流体管路
の屈曲部上面に、供給される洗浄水に接する状態で超音
波振動子を設け、該超音波振動子によって直降する洗浄
水に超音波振動を伝播して、被洗浄面の洗浄に供してい
た． また、特開昭５４−５６２５５号公報に記載のように、
被洗浄体であるガラス板の洗浄面に近接して超音波素子
を設け、さらに超音波素子の近傍にスプレーノズルを設
け、該ノズルから超音波素子とガラス板の洗浄面との間
に洗浄水を供給して洗浄水層を形威し、骸洗浄水層を介
して超音波をガラス板の洗浄面に集中印加することによ
って洗浄を行なっていた． 〔発明が解決しようとする課題〕 上記従来技術のうち、特開昭５６−６０６７７号公報に
記載の装置では、管路な通して洗浄液が被洗浄体に供給
されている．従って、被洗浄体に供給される洗浄液の形
状は管路出口の直径と同程度の直径の水柱となり、洗浄
液は、被洗浄体表面には上記水柱の底部で接し・ている
．このため、上紀装置で洗浄される洗浄箇所は、洗浄液
を供給する管路の出口の直径と同程度の点状になる．そ
こで、例えば、遠心濾過装置の濾布のように、ある程度
の面積をもつものの洗浄に適用した場合、濾布全面を洗
浄するためには、濾布を遠心濾過装置の軸を中心として
回転させると同時に、洗浄装置である流体管路を濾布の
半径に沿って移動させる必要があり、その動きが複雑に
なる．さらに、濾布の回転速度と流体管路の移動速度の
関係によっては、被洗浄面上で洗浄液があたらない箇所
が発生し、洗浄ムラを生じる恐れがあった．また、洗浄
にも、長時間を要していた．このように、上配従来技術
では、面の洗浄という点について配慮されていないため
、面の洗浄な行なった場合に洗浄が不均一になったり、
洗浄に長時間を要したりするという問題点があった．次
に、特開昭５４−５６２５５号公報に記載の装置では、
洗浄水を超音波素子近傍に位置するスプレーノズルから
超音波素子と被洗浄面との間に供給し、形或される洗浄
水層により、超音波素子からの超音波振動を被洗浄面に
伝播させている．このため、超音波素子とガラス板の被
洗浄面とは、その両者の間に洗浄水層を形威し得る位に
充分近接して位置させることが必要となる．ちなみに、
、上記公報では、洗浄水層の厚さ、すなわち超音波素子
と洗浄面との間隔は５一以下となっている． そのため、超音波素子と洗浄面との間隔が広すぎる場合
、また、洗浄面が凹凸になっていたり、湾曲していたり
、複雑な形状をしている場合には、被洗浄面と超音波素
子との間に洗浄水層を形威し得なくなり、その結果、超
音波素子から被洗浄面上への超音波振動の伝播が不可能
となって、洗浄を行ない得ない恐れがあった． 従って、上記従来技術で洗浄し得る被洗浄体の形状は、
超音波素子に近接し、かつ一定の距離を保ち得るような
平板状のものに限定されてしまうという問題点があった
． 本発明の目的は、被洗浄体の形状に影響されることなく
、被洗浄面を均一にかつ短時間で洗浄し得る超音波洗浄
装置および超音波洗浄方法を提供することにある． 〔課題を解決するための手段〕 上紀目的を達成するために、 本願第１の発明の超音波洗浄装置は、 ライン状の洗浄液流出口を有する、洗浄液を貯えるため
の貯液槽と、 前記洗浄液流出口から流出する洗浄液に超音波を印加す
る超音波素子とを有することを特徴とする． 前記洗浄液流出口からは、前記洗浄液を自重によって流
出させることが好ましい． しかしながら、洗浄液流出口に対し均等に液圧がかかる
ものであれば、洗浄液に圧力が加えられてもよい． 自重によって洗浄液を流出させる場合には、貯液槽内の
液位は、一定に保たれることが好ましい．前記超音波素
子は、前記貯液槽の内部、または、前記洗浄液流出経路
に位置するものであってもよい． 前記洗浄液流出口の形状は矩形状であり、前記超音波素
子の超音波の放射面は、前記洗浄液流出口と面積がほぼ
等しいものであってもよい．前記超音波素子の超音波の
主たる伝搬方向を、前記洗浄液ｏｔＩｔ出方向と一致さ
せてもよい．前記ライン状の洗浄液流出口の両端部にガ
イド板を設けたものであってもよい． 被洗浄体を前記洗浄液流出口と前配ガイド板の下端との
間で通過させ洗浄するものであってもよい． 本願第２の発明の超音波洗浄方法は、 被洗浄体の幅にわたって貯液槽から自重によって流出す
る、超音波を印加された洗浄液により被洗浄体を洗浄す
ることを特徴とする． 前記洗浄液を、前記貯液槽から層流として流出させても
よい． 前記洗浄液の流出方向に対し、波面が直角となる方向に
超音波を印加してもよい． 〔作用〕 貯液檜の洗浄液流出口は、幅広のライン状をなし、洗浄
液が幅広の滝状またはライン状となって被洗浄体にその
幅にわたって当るので、幅広の被洗浄体を短時間で均一
に洗浄することができる．また、洗浄液流出口から洗浄
液を自重によって流出させる場合には、圧力をかけて洗
浄液を押し出す場合に比べて、洗浄液の流れが片寄った
り、波打つたり、乱れたりすることがなく、均一となる
ため、洗浄液の超音波振動が均一となり、均一に洗浄を
行うことができる． また、超音波素子が、，貯液槽の内部、または、洗浄液
流出経路に位置する場合には、被洗浄体と超音波素子と
の間の距離を離すことができるので，被洗浄体に凹凸や
湾曲があってもその形状に関係なく、洗浄を行うことが
できる． 洗浄液流出口の形状が矩形状であり、超音波素子の超音
波の放射面が、洗浄液流出口と面積がほぼ等しい場合に
は、ライン状の洗浄液の流れに対して超音波を均一に付
与することができる．この場合に、貯液槽から洗浄液を
その自重によって落下させ被洗浄体に当てるときには、
より均一なライン状の流れを得ることができる．ライン
状の洗浄液流出口の両端部にガイド板を設ける場合には
、洗浄液流出口から流れる洗浄液がその表面張力によっ
て収縮することがないので、、洗浄液はより均一なライ
ン状となって、超音波振動を均一に印加することができ
、均一な洗浄を行うことができる． 〔実施例〕 以下、本発明の第１実施例についてｔｌＥ１図および第
２図を用いて説明する． 洗浄液１は、洗浄液供給部２より洗浄液供給管５によっ
て貯液槽４へ供給される． 貯液槽４は、内部が曲折しており、曲折した下部に洗浄
液流出口５を有している．流出口５の開口部形状は、矩
形状で、波洗浄体７０幅をカバーする幅、すなわち、洗
浄体７の幅と同じか、それ以上の幅を有している． 貯液檜４の上部は大気解放されていて，貯まった洗浄液
１は、自重によって、流出口５より流出する． 流出口５の幅両端には、垂直方向、すなわち、流出する
洗浄液と平行の方向に側板（ガイド板）６が設けられて
おり、流出口より出た洗浄液は均一な流れとなって被洗
浄体７に達する．なお、被洗浄体７は、被洗浄部分が水
平方向と平行になるように維持されている．被洗浄体は
、例えば、半導体ウェハである． ここで、洗浄液流路の途中に設けられた超音波素子（振
動子）８によって洗浄液１に均一に超音波振動が付与さ
れる．その結果、均一な超音波振動を印加された均一な
ライン状の洗浄液によって被洗浄体は洗浄される． なお、超音波振動子８の電源は、超音波発振機９により
供給される． 被洗浄体７を均一に洗浄するためには、ライン状の洗浄
液の流れに直角の方向、すなわち、第１図中に示した矢
印２１の方向に被洗浄体７を移動させれば、被洗浄体表
面を均一にかつ短時間で清浄にすることが可能となる． また、洗浄に際して移動させるのは、被洗浄体に限るも
のではなく、被洗浄体もしくは超音波洗浄装置の一方あ
るいは双方を移動させても良い．洗浄装置の自動化を考
えた場合には、被洗浄体を移動しながら洗浄を行う方式
が導入しやすく、適している． さらに、第２図に示すように、被洗浄体７を、洗浄液の
流出口５と側板６下端の間で傾斜を付けて移動すること
が好ましい．この場合、超音波の振動で被洗浄体表面か
ら剥離した異物１０を、重力により洗い流す効果が大き
い． 次に、本発明の第２実施例について第３図を用いて説明
する． 本実施例は、被洗浄体の両面を同時に洗浄するも、ので
ある． 第３図は、被洗浄体７を水平方向に配置して洗浄する場
合を示す． 被洗浄体７０表面側には、第１実施例と同様に貯液槽４
の流出口５が設置され、裏面側には、他の貯液槽４から
のびる流出口５′が被洗浄体７を挾んで流出口５と対向
する位置に設置される．流出口５と５′とは、側板６に
よって両端部で接続されている． 貯液槽４の液面は、裏面に洗浄液を当てることができる
よう、表面の洗浄に使う貯液櫂４の液面より高く保持さ
れる． 次に、本発明の第４実施例について説明する．第４図は
、垂直方向に配置した被洗浄体７を洗浄する場合につい
て示す． 側板６を介して洗浄液の流出口５を互いに向い合わせ、
左右の流出口５の間で被洗浄体７を下から上へと引き上
げすることで、表裏を同時に洗浄する． この実施例では、超音波振動が印加されたライン状の洗
浄液が被洗浄体７に当たった後には、重力で下に落ちる
ため、剥離した異物を洗い流す効果が大きい． 次に、矩形の流出口から洗浄液を流出させる場合の側板
の効果について説明する． ｔａｓ図は、貯液槽１１の下部に矩形の洗浄液１の流出
口５を設け、洗浄液１を流出させる状態を示す． 水の表面張力は、７３ｄ７ｎ／ｍであって、有ｍ溶剤に
比べ２〜Ｓ倍程度大きい．このため、矩形をした流出口
５から流出した洗浄液１は、流出口５から離れるにした
がい中央部へと収縮をする．このため、洗浄液流路の途
中に超音波振動子を設けて均一に超音波振動を付与した
としても、被洗浄体に洗浄液が当たるまでにかなりライ
ン状の幅が収縮され、洗浄領域が狭くなる．また、洗浄
液が収縮した結果、液に乱れが生じ、安定した超音波振
動が伝播しないこととなる． 第６図は、第５図のように、洗浄液が持つ表面張力で矩
形をした流出口から出た液が収縮しないように。８、出
口５の両側に側板６を設置した場合を示す． 流出口５に側板６を設けることにより、洗浄液１０表面
張力は伺板６の方向に働き、その結果、流出口５から出
た洗浄液は、ライン状に均一に流出する． 第７図は、洗浄液１の流出口５の上方に超音波振動子８
を設置して超音波振動を印加する場合を示す． この場合に、ライン状に流出した洗浄液に超音波振動が
安定に乗っているかどうか調べるために、圧電セラミッ
ク（図示せず）を検出器として用い、流出口５から下流
へ一定の距離におき、流出口の左端から右端まで５箇所
の各ポイントの出力電圧を測定した（図中に測定範囲を
示す）．第８図は、第７図の装置で超音波振動の安定度
を測定した結果を示す． その結果、側板な設けることにより流出口の幅とほぼ同
じ長さで安定した超音波振動が印加されることがわかる
． ２Ｆ＄９図は、第７図に対し側板を設置しないで、同様
の測定を行った結果を示す． その結果、流出口に側板を設置しない場合には、流出し
た洗浄液は収縮し，均一な超音波振動を得ることができ
ないことがわかる．なお、測定は、検出器を流出口より
１５１下流に位置づけて行った．次に、第１図に示す洗
浄装置を用いて、異物を付着したウエハ表面を洗浄する
場合について説明する． 洗浄に用いた異物を付着させたウェハの作或方法を第１
０図に示す． 使用Ｌたちのは、φ４　　，Ｐｆｉ（１．０．０）のＳ
１ウェハである． このウェハな希フッ酸水溶液に２分間浸漬して表面の酸
化膜を除去した後、１５分間水洗した．別に汚染液とし
て７ツ化マグネシウム（Ｍｇｒｚ）粉を微量とり、５ｔ
の純水中に入れて、超音波（５０ＫＨｚ）を２０分照射
し、ＭｇＦ２粉をよく水中に分散させたものを作威した
． この汚染液の中に、上記の処理を施したウエハな１分間
浸漬した後、スピン乾燥させ、異物付着クエハを作った
． 洗浄方法について第１１図を用いて説明する．貯液槽４
には，洗浄液供給配管５より、５ｔ／分の流量で比抵抗
１８ＭΩ・国のいわゆる超純水が供給されている． 貯液槽４から流下する超純水には、超音波振動子８によ
って、ＬＩＭＨｚの超音波振動が付与されている．この
とき、上紀の異物付着ウェハ１２を、洗浄液流出口５か
ら２国の距離を保ちながら矢印２２の方向に１ｍ／分の
速度で移動させる．使用したクエハ、φ４であるから直
径約１０国である．従ってクエハ１枚の洗浄に要した時
間は６秒である． 洗浄の前後でクエハ表面に付着していたＭｇＦ２粉の数
をカウントした結果の１例を第１２図に示す． 洗浄前（ａ）はφ４ウエ／１表面に４７８ケのＭｇＦ２
粉が付着していたが，本装置で洗浄した後（ｂ）では１
５ケまで減少していた．その差４６５ケが、本洗浄装置
で除去されたことになる．この時の・異物除去率は、９
７％である． ちなみに、第５図で示す側板のない貯液槽に超音波振動
子を設置し、同様に洗浄した場合には、最も高い異物除
去率は９３多で、平均で９割の除去率であった． さらに、洗浄液の流出口からウェハまで２５１１以上の
距離を離した場合には、洗浄できる範囲が狭くなり、洗
浄ムラを生じていた． また、同様の異物付着ウェハなスポット状、すなわち、
細い水柱に超音波を乗せて被洗浄体に照射する方式の洗
浄装置で洗浄する場合には、洗浄ムラを生じることなく
、洗浄前に付着していた異物の９割以上を除去するため
に、例えば、クエハな回転させると同時にウェハの半径
方向に沿って洗浄装置を移動させながら１分間以上洗浄
を行なうなどの複雑な動作を行う必要がある．以上示し
たように、本実施例による超音波洗浄装置を用いれば、
従来の１／１０以下の時間で、かつ洗浄装置や被洗浄体
であるウエノ１に複雑な動きを強いることなく、ウエ７
１表面に付着した異物を、よυ精密に洗浄することがで
きる． 以下、本発明の第４実施例について第１５図および第１
４図を用いて説明する． 洗浄液１は、洗浄液製造装置（図には示さず）より洗浄
液供給配管５によって貯液槽４へと供給される．貯液槽
４の上部は大気解放されている．そのため、貯液槽４に
貯まった洗浄液１は自重によって流出口５より均一な流
れとなって流出し、被洗浄体７へと達する． このとき、洗浄液流路の途中、すなわち、貯液檜４の中
腹の段部上に設けられた超音波素子８によって洗浄液１
に均一に超音波振動が付与され、その結果、均一な超音
波振動を印加された均一なライン状の洗浄液１によって
、被洗浄体７は洗浄される． なお、超音波素子８は、ケーブル１６によって超音波発
振機９に接続されている． 本装置に洗浄液１を供給し、超音波を発振してから、被
洗浄体７を第１図中に示した矢印２１で示す方向に移動
させれば、被洗浄体表面を均一にかつ短時間で高清浄に
洗浄することが可能となる．但し、洗浄に際しては、移
動させるのは被洗浄体に限ったものではなく、被洗浄体
もしくは超音波洗浄装置の一方あるいは双方を移動させ
ても、実施例の効果は何ら損われるものではない．次に
、本発明のＩＩ５実施例について第１５図及び第１６図
を用いて説明する． 超音波素子８は貯液槽４の内側に設けられている． 貯液檜４の上部は大気解放されている．そのため、貯液
槽４に貯まクた洗浄液１は，自重により貯液槽４の下部
に設けられた流出口５より均一な流れとなって流出する
． このとき、洗浄液１は、超音波素子８によって均一に超
音波振動を付与され、さらに流出後、被洗浄体７へと達
する． また、第１Ｓ図において、超音波素子（図に示さず）は
ケーブル１６によって超音波発振機９に接続されている
． 被洗浄体７の洗浄方法は、第４実施例の場合と同様であ
る． なお、いずれの実施例の場合においても、洗浄液の流出
口５の側壁部分２９は、貯液槽４の垂直壁５２に対し、
垂直でも水平でも、または適当な角度をもったテーパー
状となっていてもよい．以上述べたように、本実施例に
よれば均一な超音波振動を付与された、均一なライン状
の洗浄液の流れが得られるので、被洗浄体７の表面を均
一にかつ短時間で高清浄に洗浄することが可能となる． 次に、矩形の流出口から洗浄液を流出させる場合の効果
について説明する． ｔｌｃ１７図は、超音波素子８の下部に洗浄液溜り２０
を設け、その側面から洗浄液供給配管３によって洗浄液
１を供給する構造の超音波洗浄装置の斜視図である． この装置では、洗浄液溜り２０において超音波素子８よ
り洗浄液１に超音波振動を付与した後，矩形の流出口５
より流下させている． この装置において、洗浄液溜り２０は大気解放されてい
ないため、洗浄液は洗浄液供給配管３によって洗浄液溜
り２０に供給されるときの圧力によって、流出口から押
し出される． この装置に洗浄液１を供給したとき、流出口５から流出
してくる洗浄液１の流れは，第１７図に示すように，洗
浄液供給配管５と反対側の端に片寄った形になる． したがって、この装置では、洗浄液の流れは均一とはな
らず、洗浄液に超音波振動を均一に付与することも困難
となる． また、第１８図は、洗浄液溜り２０の両側に洗浄液供給
配管３を設けた構造の超音波洗浄装置の斜視図である． この装置では、上記第１７図の装置と同様の理由によっ
て、洗浄液は流出口５から押し出される．そのため、流
出口５から流出してくる洗浄液の流れは流出口５の中心
付近に集中してしまう．但し、この流れの位置は、両側
の洗浄液供給配管５から供給される洗浄液の流量のバラ
ンスによって決まるものである．この結果、このような
装置では、第１７図に示した場合と同様、洗浄液の流れ
、超音波振動の付与ともに均一には行なわれない．次に
、本発明の第５実施例に基づいて作威された第１５図に
示す洗浄装置を用いて、異物を付着させたウェハな洗浄
する場合について説明する．洗浄に用いた異物付着クエ
ハな、前述の第１０図に示す方法と同様にして作成した
． 使用したのは、同様に、φ４　　，ｐ型（１，０．０〉
の８１クエ八である． 洗浄方法について第１９図を用いて説明する．貯液槽４
には、洗浄液供給配管３より、Ｓｔｌ分の流量で比抵抗
１８ＭΩ・鋼のいわゆる超純水が供給されている． 貯液槽４から流下する超純水には、超音波素子８によっ
て、１，ＩＭＥ！の超音波振動が付与されている．この
とき、上記の異物付着ウェハ１２を、洗浄液流出口５か
ら２５１１の距離を保ちながら矢印の方向にｌｍ／分の
速度で移動させる．使用したクエハはφ４であるから、
直径約１０国である．従って、クエハ１枚の洗浄に要し
た時間は６秒である。

洗浄の前後で、ウェハ表面に付着していたＭｇＦ２粉の
数をカウントした結果の１例を第２０図に示す． 洗浄前６）はφ４　ウェハ表面に４２７ケのＭｇＦ２粉
が付着していたが，本装置で洗浄した後（ｂ）では２９
ケまで減少していた．その差５９８ケ（洗浄前に付着し
ていたＭｇｙ２粉の−９割以上）が、本洗浄装置で除去
されていた． ちなみに、同様の異物付着ウェハな従来の洗浄装置で洗
浄した場合、洗浄ムラを生じることなく、洗浄前に付着
していた異物の９割以上を除去するためには、例えば、
クエハな回転させると同時に、ウェハの半径方向に沿っ
て洗浄装置を移動させながら，１分間以上洗浄を行なう
などの複雑な動作を行う必要がある． 以上示したように、本実施例による超音波洗浄装置を用
いれば、従来の１／１０以下の時間で、かつ、洗浄装置
や被洗浄体であるクエハに複雑な動きを強いることなく
、ウエノ１表面に付着した異物を洗浄することができる
． 上記各実施例にて使用される超音波素子の振動周波数は
２００ＫＨｇ以上であることが望ましい．洗浄液として
は、いわゆる超純水をはじめとして、被洗浄物に合わせ
て、洗浄液、酸、アルカリ等の薬液、イオン交換水など
を使用することができる． 被洗浄物としては、ガラス板や半導体基板、金属板など
のような板状のもの、若しくは、立体的なものなど、い
かなる形状のものであってもよいが、被洗浄部が面積の
あるものに対して、特に有効である． また、使用する洗浄液の種類などに合わせて，超音波振
動子の表面に振動板をはりつけて使用する場合にも、本
発明の効果は、何ら損なわれるものではない． 〔発明の効果〕 本発明によれば、洗浄液流出口が、ライン状をなし、洗
浄液が幅広の滝状またはライン状となって被洗浄体にそ
の幅にわたって当るので、幅広の被洗浄体を短時間で均
一に洗浄することができ、洗浄装置の自動化が容品であ
り、また、短時間での大量処理が可能である． また、被洗浄体と超音波素子との間の距離を離すことが
できるので、被洗浄体に凹凸や湾曲があってもその形状
に関係なく、洗浄を行うことができる． また、洗浄液流出口から洗浄液を自重によって流出させ
る場合には、圧力をかけて洗浄液を押し出す場合に比べ
て、洗浄液の流れが片寄ったり、波打ったり、乱れたり
することがなく、均一となるため、洗浄液の超音波振動
が均一となり、均一に洗浄を行うことができる．

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のｓｇ１実施例の超音波洗浄装置の全体
構或図、第２図は第１図の断面図、第３図は本発明の第
２実施例の両面洗浄超音波洗浄装置の全体を示す断面図
、第４図は第５実施例の断面図、第５図および第６図は
矩形流出口からの洗浄液の流出状態を示す装置の断面図
、第７図は超音波振動子の設置状態を示す装置の断面図
、第８図および第９図は第６図および第５図の場合の効
果を示すグラフ、第１０図は異物付着ウェハの作或方法
を示すフローチャート、第１１図は洗浄方法を説明する
ための超音波洗浄装置の断面図、第１２図は洗浄の前後
でのウェハの平面図、第１３図は第４実施例の超音波洗
浄装置の全体斜視図，第１４図は第１３図の断面図、第
１５図は第５実施例の超音波洗浄装置の全体斜視図、第
１６図は第１５図の断面図、第１７図および第１８図は
矩形流出口からの洗浄液の流出状態を示す装置断面図、
第１９図は洗浄方法を説明するための超音波洗浄装置の
断面図、第２０図は洗浄の前後でのウェハの平面図であ
る． １・・・洗浄液、２・・・洗浄液供給部、４・・・貯液
檜、５・・・流出口、６・・・側板（ガイド板）、７・
・・被洗浄体、８・・・超音波振動子（素子）、９・・
・超音波発振器、１０・・・異物、１１・・・貯液槽、
１２・・・クエハ第５図 第５口 第６口 第 ７図 （（１） 第 ８回 ノズルＦＦｌｏ足８＾生 （ｂ） 第 ９図 第１０図 第１１図 ぢ １２ 第１２１￥１ （Ｑ） （ｂ） ５走二号約　４７８ケ／ｉエ八 ｊわ？ｔ麦＋ｓｒ／７エ八 第１５口 第１４口 ３ ？じ◆危の；ｉれ 第１６図 第１’７Ｌｌ２１ 只 第Ｉｓ　Ｌ７ｌ Ｒ 第２０図 ＼ ン （Ｑ） 覧 洸浄泊 Ｃｂ） 洗浄練 ） ２９ケ／りエハ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ライン状の洗浄液流出口を有する、洗浄液を貯える
   ための貯液槽と、 前記洗浄液流出口から流出する洗浄液に超音波を印加す
   る超音波素子とを有することを特徴とする超音波洗浄装
   置。 ２、前記洗浄液流出口から前記洗浄液を自重によって流
   出させることを特徴とする請求項１記載の超音波洗浄装
   置。 ３、前記超音波素子は、前記貯液槽の内部、または、前
   記洗浄液流出経路に位置することを特徴とする請求項１
   または２記載の超音波洗浄装置。 ４、前記洗浄液流出口の形状は矩形状であり、前記超音
   波素子の超音波放射面は、前記洗浄液流出口と面積がほ
   ぼ等しいことを特徴とする請求項１、２または３記載の
   超音波洗浄装置。 ５、前記超音波素子の超音波の主たる伝搬方向を、前記
   洗浄液の流出方向と一致させることを特徴とする請求項
   １、２、３または４記載の超音波洗浄装置。 ６、前記ライン状の洗浄液流出口の両端部にガイド板を
   設けたことを特徴とする請求項１、２、３、４または５
   記載の超音波洗浄装置。 ７、被洗浄体を前記洗浄液流出口と前記ガイド板の下端
   との間で通過させ洗浄することを特徴とする請求項６記
   載の超音波洗浄装置。 ８、被洗浄体の幅にわたって貯液槽から自重によって流
   出する、超音波を印加された洗浄液により被洗浄体を洗
   浄することを特徴とする超音波洗浄方法。 ９、前記洗浄液を、前記貯液槽から層流として流出させ
   ることを特徴とする請求項８記載の超音波洗浄方法。 １０、前記洗浄液の流出方向に対し、波面が直角となる
   方向に超音波を印加することを特徴とする請求項８また
   は９記載の超音波洗浄方法。