JPH0393051A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
- Publication number
- JPH0393051A JPH0393051A JP1229691A JP22969189A JPH0393051A JP H0393051 A JPH0393051 A JP H0393051A JP 1229691 A JP1229691 A JP 1229691A JP 22969189 A JP22969189 A JP 22969189A JP H0393051 A JPH0393051 A JP H0393051A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- optical information
- recording medium
- information recording
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000002345 surface coating layer Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 24
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000001420 photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、レーザー光の照射によって情報を記録再生、
又は再生のみを行うことができる光情報記録媒体に関す
るものである。
又は再生のみを行うことができる光情報記録媒体に関す
るものである。
（従来の技術及びその課題）
以下に追記型光ディスクの例を用いて、従来の技術及び
その課題を説明する。
その課題を説明する。
従来、レーザー光の照射による非可逆的な特性、或いは
形状変化を利用して情報記録を行う、いわゆる追記型光
情報記録媒体の記録層とｊ一ては、Ｔｅ， Ｂｉなどの
低融点金属、及びその合金化合物、或いはその分散物が
用いられてきた。しかし、これら追記型光ディスクは、
一般にエアサンドイッチ構造をとるため、直接外部空気
と金属膜表面が接触することとなる。従って、高温多湿
な場所に保存すると、記録膜表面からの不均一な酸化、
或いは腐食が深部まで起こり、反射率低下、及び融点の
上昇による感度の劣化などが起こる原因となった。
形状変化を利用して情報記録を行う、いわゆる追記型光
情報記録媒体の記録層とｊ一ては、Ｔｅ， Ｂｉなどの
低融点金属、及びその合金化合物、或いはその分散物が
用いられてきた。しかし、これら追記型光ディスクは、
一般にエアサンドイッチ構造をとるため、直接外部空気
と金属膜表面が接触することとなる。従って、高温多湿
な場所に保存すると、記録膜表面からの不均一な酸化、
或いは腐食が深部まで起こり、反射率低下、及び融点の
上昇による感度の劣化などが起こる原因となった。
（課題を解決するための手段）
本発明者らは光情報記録媒体において、高温多湿の加速
劣化試験下においても、反射率低下及び感度の劣化がな
く、しかも、でき得る限り簡便に記録媒体を作製する方
法を種々検討した結果、金属記録膜表面に安定な酸化層
を均一に形或することによって、一種の不動態膜を作り
、膜表面の化学的・物理的変化を防止することができる
ことを見い出した。
劣化試験下においても、反射率低下及び感度の劣化がな
く、しかも、でき得る限り簡便に記録媒体を作製する方
法を種々検討した結果、金属記録膜表面に安定な酸化層
を均一に形或することによって、一種の不動態膜を作り
、膜表面の化学的・物理的変化を防止することができる
ことを見い出した。
本発明は、基板上に金属記録層を形或し、レーザー光の
照射によって記録再生又は、再生のみを行う光情報記録
媒体において、記録膜の最表面層がＴｅの酸化物を主成
分とするもの、又はＡＩの酸化物を主成分とするものよ
り被覆されてなる（表面被覆層）ことを特徴とする光情
報記録媒体を提供するものである。
照射によって記録再生又は、再生のみを行う光情報記録
媒体において、記録膜の最表面層がＴｅの酸化物を主成
分とするもの、又はＡＩの酸化物を主成分とするものよ
り被覆されてなる（表面被覆層）ことを特徴とする光情
報記録媒体を提供するものである。
表面被覆層の具体的作製法としては、
（１）金属記録層を形成後、表面被覆層を酸素雰囲気中
の直流、或いは高周波の反応性スパッタリングにより構
威されてなることを特徴とする。
の直流、或いは高周波の反応性スパッタリングにより構
威されてなることを特徴とする。
（２）金属記録層を形成後、表面被覆層を構成する金属
元素（Ｔｅ又はＡＩが主成分）の成膜を行った後、アニ
ール（熱処理）により、表面層を酸化させてなることを
特徴とする。などが適用される。
元素（Ｔｅ又はＡＩが主成分）の成膜を行った後、アニ
ール（熱処理）により、表面層を酸化させてなることを
特徴とする。などが適用される。
金属記録層を形成する記録材料としては、追記型光情報
記録媒体の場合、Ｔｅ系の合金薄膜が好ましく、Ｓｅ，
Ｔｉ， Ａｇ， Ｃｒ， ＡＩ， Ａｓ， Ｓｂ．
Ｉｎ， Ｐｂ、Ｇａ， Ｇｅ及びＣｕからなる群より選
ばれた元素の内、少なくとも一種以上を含む薄膜でも良
い。また、この層は二層以上の記録層で形威されてもよ
い。再生専用光情報記録媒体、或いは書換え可能型光情
報記録媒体の反射膜としては、Ａｌを主成分とする薄膜
が好ましい。
記録媒体の場合、Ｔｅ系の合金薄膜が好ましく、Ｓｅ，
Ｔｉ， Ａｇ， Ｃｒ， ＡＩ， Ａｓ， Ｓｂ．
Ｉｎ， Ｐｂ、Ｇａ， Ｇｅ及びＣｕからなる群より選
ばれた元素の内、少なくとも一種以上を含む薄膜でも良
い。また、この層は二層以上の記録層で形威されてもよ
い。再生専用光情報記録媒体、或いは書換え可能型光情
報記録媒体の反射膜としては、Ａｌを主成分とする薄膜
が好ましい。
表面被覆層を形戒する記録材料としては、追記型光情報
記録媒体の場合、Ｔｅの酸化物のみでもよいが、さらに
Ｓｅ， Ｔｉ， Ａｇ， ＣｒＳＡｔ Ａｓ， Ｓｂ，
Ｉｎ， Ｐｂ， Ｇａ， Ｇｅ及びＣｕからなる群より
選ばれた元素の内、少なくとも一種以上がＴｅの組或比
に対して、１５ａｔ％以下の割合で混入しても良い。再
生専用光情報記録媒体、或いは書換え可能型光情報記録
媒体の反射膜としてはＡＩの酸化物のみでも良いが、Ｔ
ｉ， Ａｇ， Ｃｒ， Ａｓ． Ｓｂ， Ｉｎ， Ｐｂ
． ８ｉ、Ｇａ， Ｇｅ及びＣｕからなる群より選ばれ
た元素の内、少なくとも一種以上が１５ａｔ％以下の割
合で混入しても良い。
記録媒体の場合、Ｔｅの酸化物のみでもよいが、さらに
Ｓｅ， Ｔｉ， Ａｇ， ＣｒＳＡｔ Ａｓ， Ｓｂ，
Ｉｎ， Ｐｂ， Ｇａ， Ｇｅ及びＣｕからなる群より
選ばれた元素の内、少なくとも一種以上がＴｅの組或比
に対して、１５ａｔ％以下の割合で混入しても良い。再
生専用光情報記録媒体、或いは書換え可能型光情報記録
媒体の反射膜としてはＡＩの酸化物のみでも良いが、Ｔ
ｉ， Ａｇ， Ｃｒ， Ａｓ． Ｓｂ， Ｉｎ， Ｐｂ
． ８ｉ、Ｇａ， Ｇｅ及びＣｕからなる群より選ばれ
た元素の内、少なくとも一種以上が１５ａｔ％以下の割
合で混入しても良い。
本発明の記録媒体の金属記録層、及び表面被覆層の厚み
は使用用途によって異なるが、良好なＣ／Ｎ比が得られ
、かつ実質的な記録感度を付与するためには、各々の厚
みが１０〜ＩＯＯＯＡの範囲にあることが好ましく、特
に金属記録層、及び表面被覆層の膜厚の合計が２０〜２
００ＯＡの範囲にあり、がっ表面被覆層の膜厚が１０〜
２００Ａの範囲にあることが望ましい。
は使用用途によって異なるが、良好なＣ／Ｎ比が得られ
、かつ実質的な記録感度を付与するためには、各々の厚
みが１０〜ＩＯＯＯＡの範囲にあることが好ましく、特
に金属記録層、及び表面被覆層の膜厚の合計が２０〜２
００ＯＡの範囲にあり、がっ表面被覆層の膜厚が１０〜
２００Ａの範囲にあることが望ましい。
表面被覆層の形或法として、酸素雰囲気中の直流、或い
は高周波の反応性スバッタを用いる場合、酸素分圧は全
圧に対して、１０〜９０％が好ましい。また、アニール
（熱処理）により表面被覆層を形戒する場合、空気中或
いは酸素雰囲気中で６０〜１００°Ｃ，一時間以上のア
ニール条件が好ましい。
は高周波の反応性スバッタを用いる場合、酸素分圧は全
圧に対して、１０〜９０％が好ましい。また、アニール
（熱処理）により表面被覆層を形戒する場合、空気中或
いは酸素雰囲気中で６０〜１００°Ｃ，一時間以上のア
ニール条件が好ましい。
本発明に用いられる基板材料としては、ガラス、ボリカ
ーボネート、ポリメチルメタアクリレート、アモルファ
スポリオレフイン等が使用できる。形状としてはディス
ク状の他、カード状、及びドラム状の形態をしていても
良い。
ーボネート、ポリメチルメタアクリレート、アモルファ
スポリオレフイン等が使用できる。形状としてはディス
ク状の他、カード状、及びドラム状の形態をしていても
良い。
（実施例）
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１
直径１３０ｍｍからなるボリカーボネート樹脂製のスパ
イラル溝付きフォーマット入り基板に、Ｔｅ， Ｓｅ，
Ｔｉ， Ａｇの４戒分からなる金属記録層を形威し、
その上にＴｅ単体膜を成膜し、アニールにより膜表面の
みを均一に酸化させた（実施例１）。膜表面のＴｅの原
子価状態は光電子分光分析（ＥＳＣＡ）により確認した
。表面酸化層実施例（実施例１）と表面に酸化層を形威
しない膜（比較例１）のＥＳＣＡによる表面Ｔｅの原子
価状態の比較結果を図１に示した。表面酸化層実施例（
実施例１）の膜表面層には、均一にＴｅの酸化層が形戒
されていることがわかった。
イラル溝付きフォーマット入り基板に、Ｔｅ， Ｓｅ，
Ｔｉ， Ａｇの４戒分からなる金属記録層を形威し、
その上にＴｅ単体膜を成膜し、アニールにより膜表面の
みを均一に酸化させた（実施例１）。膜表面のＴｅの原
子価状態は光電子分光分析（ＥＳＣＡ）により確認した
。表面酸化層実施例（実施例１）と表面に酸化層を形威
しない膜（比較例１）のＥＳＣＡによる表面Ｔｅの原子
価状態の比較結果を図１に示した。表面酸化層実施例（
実施例１）の膜表面層には、均一にＴｅの酸化層が形戒
されていることがわかった。
この記録媒体に波長８３０ｎｍの半導体レーザーを用い
て、周波数３．７ＭＨｚ ｄｕｔｙ３０％の反復信号を
、回転数を１８００ｒｐｍとし、半径５９ｍｍの位置に
レーザー出力を変化させながら書き込み、０．８ｍＷの
レーザーパワーで読み出して、加速劣化試験前、８０’
Ｃ１００％ＲＨ５００時間の加速劣化試験後のＣ／Ｎ比
を評価した。表面酸化層実施例（実施例１）と表面に酸
化層を形威しない膜（比較例１）の結果を表一１に示し
た。
て、周波数３．７ＭＨｚ ｄｕｔｙ３０％の反復信号を
、回転数を１８００ｒｐｍとし、半径５９ｍｍの位置に
レーザー出力を変化させながら書き込み、０．８ｍＷの
レーザーパワーで読み出して、加速劣化試験前、８０’
Ｃ１００％ＲＨ５００時間の加速劣化試験後のＣ／Ｎ比
を評価した。表面酸化層実施例（実施例１）と表面に酸
化層を形威しない膜（比較例１）の結果を表一１に示し
た。
結果１
表面酸化層実施例（実施例１）の膜は、表面に酸化層を
形威していない従来の光情報記録媒体（比較例１）に比
べて、加速劣化試験後のＣ／Ｎの低下が少なく抑えられ
ていることがわかる。
形威していない従来の光情報記録媒体（比較例１）に比
べて、加速劣化試験後のＣ／Ｎの低下が少なく抑えられ
ていることがわかる。
実施例２
直径１３０ｍｍからなるポリカーボネート樹脂製のスパ
イラル溝付きフォーマット入り基板に、Ｔｅ， Ｓｅ，
Ｔｉ， Ａｇの４戒分からなる金属記録層を形威し、
その上にＴｅ単体膜を酸素雰囲気中の反応性スパッタに
より成膜した（実施例２）。膜表面のＴｅの原子価状態
はＥＳＣＡにより確認した。
イラル溝付きフォーマット入り基板に、Ｔｅ， Ｓｅ，
Ｔｉ， Ａｇの４戒分からなる金属記録層を形威し、
その上にＴｅ単体膜を酸素雰囲気中の反応性スパッタに
より成膜した（実施例２）。膜表面のＴｅの原子価状態
はＥＳＣＡにより確認した。
この記録媒体に波長８３０ｎｍの半導体レーザーを用い
て、周波数３．７ＭＨｚ ｄｕｔｙ３０％の反復信号を
、回転数を１８０Ｏｒｐｍとし、半径５９ｍｍの位置に
レーザー出力を変化させながら書き込み、０．８ｍＷの
レーザーパワーで読み出して、加速劣化試験前、８０°
ＣＩＯＯ％ＲＨ５００時間の加速劣化試験後のＣ／Ｎ比
を評価した。表面酸化層実施例（実施例２）と表面に酸
化層を形威しない膜（比較例１）の結果を表一１に示し
た。
て、周波数３．７ＭＨｚ ｄｕｔｙ３０％の反復信号を
、回転数を１８０Ｏｒｐｍとし、半径５９ｍｍの位置に
レーザー出力を変化させながら書き込み、０．８ｍＷの
レーザーパワーで読み出して、加速劣化試験前、８０°
ＣＩＯＯ％ＲＨ５００時間の加速劣化試験後のＣ／Ｎ比
を評価した。表面酸化層実施例（実施例２）と表面に酸
化層を形威しない膜（比較例１）の結果を表一１に示し
た。
結果２
表面酸化層実施例（実施例２）の膜は、表面に酸化層を
形威しない従来の光情報記録媒体（比較例ｌ）に比べて
、加速劣化試験後のＣ／Ｈの低下が少なく抑えられてい
ることがわかる。
形威しない従来の光情報記録媒体（比較例ｌ）に比べて
、加速劣化試験後のＣ／Ｈの低下が少なく抑えられてい
ることがわかる。
実施例３
ガラス基板上にＡｌの金属記録層を形或し、アニールに
より膜表面のみを酸化させた（実施例３）。膜表面のＡ
Ｉの原子価状態はＥＳＣＡにより確認した。
より膜表面のみを酸化させた（実施例３）。膜表面のＡ
Ｉの原子価状態はＥＳＣＡにより確認した。
表面酸化層実施例（実施例３）と表面に酸化層を形威し
ない膜（比較例２）を８０°Ｃ１００％ＲＨにおいて加
速劣化試験を行った時の経過時間と反射率の変化率の関
係を図２に示した。
ない膜（比較例２）を８０°Ｃ１００％ＲＨにおいて加
速劣化試験を行った時の経過時間と反射率の変化率の関
係を図２に示した。
結果３
表面酸化層実施例（実施例３）の構造を有する膜は、表
面に酸化層を形威しない従来の光情報記録媒体（比較例
２）に比べて、加速劣化試験後の反射率変化が少なく抑
えられることがわかる。
面に酸化層を形威しない従来の光情報記録媒体（比較例
２）に比べて、加速劣化試験後の反射率変化が少なく抑
えられることがわかる。
（発明の効果）
本発明によれば、簡便な方法で信頼性のより高い光情報
記録媒体を作製することができる。
記録媒体を作製することができる。
第１図は、実施例１と比較例１の光電子分光分析（ＥＳ
ＣＡ）により測定した膜表面のＴｅの原子価状態を示す
結合エネルギースペクトル図である。第２図は、実施例
３と比較例２のｇｏ’ｃｉｏｏ％ＲＨにおいて加速劣化
試験を行った経過時間と反射率の相対変化率を示してい
る。尚、第１図中Ｔｅ（０）は金属Ｔｅの結合エネルギ
ービーク、Ｔｅ（ＩＶ）は４価のＴｅの結合エネルギー
ビークを示している。 第１図 実施例１ 第２図 ？■ アニール処理（実施例３冫 手続補正書（自発） 平或１年１０月／／″日 平威１年特許願第２２９６９１号 ２．発明の名称 光情報記録媒体 ３．補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府堺市鉄砲町１番地 図面の第２図 ５．補正の内容 （１） 別紙の通り （１）図面（第２図の説明の注釈）「●−アニール処理
（実施例３）」を「●一未処理（比較例２）」に、ｒ口
・・・未処理（比較例２）』を「口・・・アニール処理
（実施例３）Ｊに訂正。 第２図 ？■ アニール処ＩＩ（実施例３） ！！過時間 （Ｈｒ）
ＣＡ）により測定した膜表面のＴｅの原子価状態を示す
結合エネルギースペクトル図である。第２図は、実施例
３と比較例２のｇｏ’ｃｉｏｏ％ＲＨにおいて加速劣化
試験を行った経過時間と反射率の相対変化率を示してい
る。尚、第１図中Ｔｅ（０）は金属Ｔｅの結合エネルギ
ービーク、Ｔｅ（ＩＶ）は４価のＴｅの結合エネルギー
ビークを示している。 第１図 実施例１ 第２図 ？■ アニール処理（実施例３冫 手続補正書（自発） 平或１年１０月／／″日 平威１年特許願第２２９６９１号 ２．発明の名称 光情報記録媒体 ３．補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府堺市鉄砲町１番地 図面の第２図 ５．補正の内容 （１） 別紙の通り （１）図面（第２図の説明の注釈）「●−アニール処理
（実施例３）」を「●一未処理（比較例２）」に、ｒ口
・・・未処理（比較例２）』を「口・・・アニール処理
（実施例３）Ｊに訂正。 第２図 ？■ アニール処ＩＩ（実施例３） ！！過時間 （Ｈｒ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板上に金属記録層を形成し、レーザー光の照射に
よって、記録再生又は再生のみを行う光情報記録媒体に
おいて、記録膜の最表面層がＴｅの酸化物を主成分とす
るもの、又はＡｌの酸化物を主成分とするものより被覆
されてなる（表面被覆層）ことを特徴とする光情報記録
媒体。 ２、金属記録層を形成後、表面被覆層を酸素雰囲気中の
直流或いは高周波の反応性スパッタリングにより構成さ
れてなることを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒
体。 ３、金属記録層を形成後、表面被覆層を構成する金属元
素（Ｔｅ又はＡｌが主成分）の成膜を行った後、アニー
ル（熱処理）により、表面層を酸化させてなることを特
徴とする請求項１記載の光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1229691A JPH0393051A (ja) | 1989-09-05 | 1989-09-05 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1229691A JPH0393051A (ja) | 1989-09-05 | 1989-09-05 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0393051A true JPH0393051A (ja) | 1991-04-18 |
Family
ID=16896192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1229691A Pending JPH0393051A (ja) | 1989-09-05 | 1989-09-05 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0393051A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002263956A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-17 | Toden Kogyo Co Ltd | 配管ネジ加工機及び配管ネジ加工方法 |
| US8376671B2 (en) | 2007-08-06 | 2013-02-19 | Makino Milling Machine Co., Ltd | Tool holder |
-
1989
- 1989-09-05 JP JP1229691A patent/JPH0393051A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002263956A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-17 | Toden Kogyo Co Ltd | 配管ネジ加工機及び配管ネジ加工方法 |
| US8376671B2 (en) | 2007-08-06 | 2013-02-19 | Makino Milling Machine Co., Ltd | Tool holder |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6023037B2 (ja) | 情報記録部材 | |
| JPH0671828B2 (ja) | 情報記録用薄膜 | |
| JP2834131B2 (ja) | 情報記録用薄膜 | |
| WO2004032130A1 (ja) | 光学的情報記録媒体とその製造方法 | |
| JPH0393051A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| US6045889A (en) | Recording medium | |
| JP3752177B2 (ja) | 追記型光学的情報記録媒体、その製造方法 | |
| JP2679995B2 (ja) | 情報記録用薄膜 | |
| JPH04298389A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
| WO2004105008A1 (ja) | 光学的情報記録媒体及びその製造方法 | |
| WO2004034390A1 (ja) | 光学的情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2002352472A (ja) | 光学的情報記録媒体とその製造方法およびその記録再生方法 | |
| JPS6211683A (ja) | 記録用媒体の製造法 | |
| JPH05225603A (ja) | 短波長用相変化光ディスク媒体 | |
| JPS6339387A (ja) | 光記録媒体 | |
| JP2827201B2 (ja) | 光記録媒体 | |
| JP2673281B2 (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JPH11144316A (ja) | 記憶部材 | |
| JPH04349241A (ja) | 追記形光記録媒体 | |
| JP2506771B2 (ja) | 光学情報記録媒体 | |
| JPH02276036A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH02217289A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH076408A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH0292683A (ja) | 光学記録媒体 | |
| JPH023114A (ja) | 情報記録用薄膜 |