JPH0389501A - 電圧非直線抵抗体及びその製法 - Google Patents
電圧非直線抵抗体及びその製法Info
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- JPH0389501A JPH0389501A JP1224443A JP22444389A JPH0389501A JP H0389501 A JPH0389501 A JP H0389501A JP 1224443 A JP1224443 A JP 1224443A JP 22444389 A JP22444389 A JP 22444389A JP H0389501 A JPH0389501 A JP H0389501A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は避雷器、及び、サージアブソーバなどの異常電
圧の吸収に使用できる酸化亜鉛を主成分とした焼結体か
らなる電圧非直線抵抗体、及び、その製法に関する。
圧の吸収に使用できる酸化亜鉛を主成分とした焼結体か
らなる電圧非直線抵抗体、及び、その製法に関する。
酸化亜鉛系の電圧非直線抵抗体は、一般に、良く知られ
ているセラミック焼結技術で製造される。
ているセラミック焼結技術で製造される。
従来より電圧非直線抵抗体は、特開昭49−29491
号、特開昭60−031207号公報に記載のように、
酸化亜鉛(ZuO)粉末を主成分として、それに酸化ビ
スマス(B 1zo3)、酸化アンチモン(wt%Sb
2O3)、酸化コバルト(CO2O3)、酸化マンガン
(M n O2) 、酸化クロム(Crz○3)。
号、特開昭60−031207号公報に記載のように、
酸化亜鉛(ZuO)粉末を主成分として、それに酸化ビ
スマス(B 1zo3)、酸化アンチモン(wt%Sb
2O3)、酸化コバルト(CO2O3)、酸化マンガン
(M n O2) 、酸化クロム(Crz○3)。
酸化けい素(SiOz)、酸化はう素(B203)。
酸化アルミニウム(A<1203)などを十分に混合し
、これに水及びポリビニルアルコールなど適当なバイン
ダを加えて造粒して成形する。焼成は、電気炉を用いて
1000〜1300℃の温度で行なう。焼成した電圧非
直線抵抗体(以下抵抗体と略称)は、インパルス耐量(
4X 10μs)を高めるため、抵抗体の側面に絶縁材
であるPbO−ZnO−B2011−3iOz系の低融
点結晶化ガラス膜を400〜700℃の温度で焼付けた
後、抵抗体の上・千両端面を所定の厚さに研摩調整し、
溶射、又は、焼付は法によって電極を形成して抵抗体と
している。ここで、ガラス膜厚を大きくする程、抵抗体
側面の絶縁耐力が高められ、さらに、抵抗体のインパル
ス耐量を大きくすることができる。
、これに水及びポリビニルアルコールなど適当なバイン
ダを加えて造粒して成形する。焼成は、電気炉を用いて
1000〜1300℃の温度で行なう。焼成した電圧非
直線抵抗体(以下抵抗体と略称)は、インパルス耐量(
4X 10μs)を高めるため、抵抗体の側面に絶縁材
であるPbO−ZnO−B2011−3iOz系の低融
点結晶化ガラス膜を400〜700℃の温度で焼付けた
後、抵抗体の上・千両端面を所定の厚さに研摩調整し、
溶射、又は、焼付は法によって電極を形成して抵抗体と
している。ここで、ガラス膜厚を大きくする程、抵抗体
側面の絶縁耐力が高められ、さらに、抵抗体のインパル
ス耐量を大きくすることができる。
厚さを大きくする程、効果が大きい。
しかし、Pb0−ZuO−B2O5−3iOz系低融点
結晶化ガラスは、■抵抗体とガラスの熱膨脹差が大きい
ため、ガラス膜厚を大きくするとガラス焼付時、ガラス
に割れが発生する。■Pb0−ZuO−B2O5−−S
i○2系低融点結晶化ガラスのペーストを吹付は法、浸
漬法、または、ロール法等によって抵抗体の側面に塗布
する場合、ガラスの比重が大きいためガラス膜を一度に
厚く塗布すると、ガラスがたれ下がり抵抗体の側面に均
一なガラス膜を形成することができない。■pbO−Z
uO−B203−8ioz系低融点結晶化ガラスは耐水
性が悪いために、電極を形成する前の抵抗体の研摩加工
時における研摩液によって、ガラスが変質、及び、侵食
され、抵抗体のインパルス耐量を低下させる。
結晶化ガラスは、■抵抗体とガラスの熱膨脹差が大きい
ため、ガラス膜厚を大きくするとガラス焼付時、ガラス
に割れが発生する。■Pb0−ZuO−B2O5−−S
i○2系低融点結晶化ガラスのペーストを吹付は法、浸
漬法、または、ロール法等によって抵抗体の側面に塗布
する場合、ガラスの比重が大きいためガラス膜を一度に
厚く塗布すると、ガラスがたれ下がり抵抗体の側面に均
一なガラス膜を形成することができない。■pbO−Z
uO−B203−8ioz系低融点結晶化ガラスは耐水
性が悪いために、電極を形成する前の抵抗体の研摩加工
時における研摩液によって、ガラスが変質、及び、侵食
され、抵抗体のインパルス耐量を低下させる。
酸化亜鉛を主成分とした非直線抵抗体のインパルス耐量
を高める方法として、非直線抵抗体(以下抵抗体と略称
する)の少なくとも側面にガラス層を形成することが行
なわれている。
を高める方法として、非直線抵抗体(以下抵抗体と略称
する)の少なくとも側面にガラス層を形成することが行
なわれている。
しかし、抵抗体側面にガラスを高温度(500℃を超え
る温度)で焼付けると、ガラス成分が抵抗体の内部へ拡
散し、抵抗体の特性を損う(非直線係数が低下)問題が
ある。また、抵抗体とガラスの熱膨脹差が大きいとガラ
スに割れが発生し、インパルス耐量を低下させる。
る温度)で焼付けると、ガラス成分が抵抗体の内部へ拡
散し、抵抗体の特性を損う(非直線係数が低下)問題が
ある。また、抵抗体とガラスの熱膨脹差が大きいとガラ
スに割れが発生し、インパルス耐量を低下させる。
一方、抵抗体側面に形成したガラス層の厚みは大きい程
、インパルス耐量を、さらに、高めることができる。
、インパルス耐量を、さらに、高めることができる。
しかし、ガラスの比重が大きいと抵抗体側面に吹付法、
浸漬法またはロール法等によってペースト化したガラス
を一度に塗布した場合、抵抗体側面の下部にガラスペー
ストがたれ下がり均一な厚みのガラス層を形成できない
という問題がある。
浸漬法またはロール法等によってペースト化したガラス
を一度に塗布した場合、抵抗体側面の下部にガラスペー
ストがたれ下がり均一な厚みのガラス層を形成できない
という問題がある。
他方、抵抗体側面にガラスを焼付けた後、抵抗体上下の
端面を所定の厚さに研摩調整し、溶射、又は、焼付法に
よって電極を形成して電圧非直線抵抗体としている。
端面を所定の厚さに研摩調整し、溶射、又は、焼付法に
よって電極を形成して電圧非直線抵抗体としている。
しかし、ガラスの耐水性が悪いと抵抗体研摩時の研摩液
によって、ガラスが変質、侵食されて抵抗体のインパル
ス耐量を低下させるという問題がある。
によって、ガラスが変質、侵食されて抵抗体のインパル
ス耐量を低下させるという問題がある。
従来、用いられているPbOZuO−B2O5−−8i
Oz系の低融点結晶化ガラスは、耐水性が劣ること、ガ
ラスの比重、及び、熱膨脹係数が共に大きいこと等によ
って十分に安定した特性の電圧非直線抵抗体を得ること
ができなかった。
Oz系の低融点結晶化ガラスは、耐水性が劣ること、ガ
ラスの比重、及び、熱膨脹係数が共に大きいこと等によ
って十分に安定した特性の電圧非直線抵抗体を得ること
ができなかった。
本発明の目的は、インパルス耐量を高くした安定な電圧
非直線抵抗体、及び、その製法を提供することにある。
非直線抵抗体、及び、その製法を提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するために。
■ガラスの焼付温度が500℃以下の温度で作業できる
低融点ガラスであることが望ましい。■ガラス焼付後、
抵抗体の研摩加工時、研摩液によってガラスが変質・侵
食されない耐水性に優れたガラスであること、耐水性と
しては70℃の温水中で、ガラスの重量減少量が0.0
1■/J・2hであることが望ましい。■ガラス層の厚
みが30μm以上であり、かつ、抵抗体とガラスの熱膨
脹係数が近いことが望ましい。酸化亜鉛の抵抗体の熱膨
脹係数は50〜70 X 10−7/”Cであるため。
低融点ガラスであることが望ましい。■ガラス焼付後、
抵抗体の研摩加工時、研摩液によってガラスが変質・侵
食されない耐水性に優れたガラスであること、耐水性と
しては70℃の温水中で、ガラスの重量減少量が0.0
1■/J・2hであることが望ましい。■ガラス層の厚
みが30μm以上であり、かつ、抵抗体とガラスの熱膨
脹係数が近いことが望ましい。酸化亜鉛の抵抗体の熱膨
脹係数は50〜70 X 10−7/”Cであるため。
ガラスの熱膨脹係数は30〜90 X 10’−’/’
Cの範囲が、特に、好ましい。■吹付法、浸漬法、また
は、ロール法によって抵抗体側面にガラスペーストを均
一に塗布するには、ガラスの比重を5g/cm3以下に
することが望ましい。■形状的には、抵抗体が円盤、ま
たは1円筒状とし、その外周面を除く端面に電極を形成
する。
Cの範囲が、特に、好ましい。■吹付法、浸漬法、また
は、ロール法によって抵抗体側面にガラスペーストを均
一に塗布するには、ガラスの比重を5g/cm3以下に
することが望ましい。■形状的には、抵抗体が円盤、ま
たは1円筒状とし、その外周面を除く端面に電極を形成
する。
本発明の目的は、上記手段を達成するために、5b2O
5−または/およびPbOを含むU2O5−P20B系
ガラスペーストを抵抗体側面に焼付け。
5−または/およびPbOを含むU2O5−P20B系
ガラスペーストを抵抗体側面に焼付け。
かつ抵抗体上、下面に電極を形成した電圧非直線抵抗体
の製造方法を提案することにある。また、電圧非直線抵
抗体を碍子管に入れると避雷器とすることができる。
の製造方法を提案することにある。また、電圧非直線抵
抗体を碍子管に入れると避雷器とすることができる。
本発明の電圧非直線抵抗体は、主成分の酸化亜鉛に各々
0.01〜10モル%のBi2O5−及びMgOを加え
、更に、望ましくは、各々0.002〜5モル%のS
bzoa、 Co O* Crzoa量B2O5−。
0.01〜10モル%のBi2O5−及びMgOを加え
、更に、望ましくは、各々0.002〜5モル%のS
bzoa、 Co O* Crzoa量B2O5−。
5iOa、AQ2O5−などを加えて1000〜130
0℃で焼成する。次に焼成して得られた抵抗体の側面に
5b2O5および/またはPbOを含むtJzOb P
2O5系ガラスを塗布し、500℃以下の温度で熱処理
してガラスを被覆せしめ、抵抗体の両端面を所定の厚さ
に研摩した後、電極を形成して得られる。
0℃で焼成する。次に焼成して得られた抵抗体の側面に
5b2O5および/またはPbOを含むtJzOb P
2O5系ガラスを塗布し、500℃以下の温度で熱処理
してガラスを被覆せしめ、抵抗体の両端面を所定の厚さ
に研摩した後、電極を形成して得られる。
5b20a、またはPbOを含むU2O5− P2O
5−系ガラスの主な組成は U2O5 :30〜65wt% P2ss :20〜30wt% 5b2O5−:<40 wt% PbO:<20 wt% 但し、12.≦−8bzos+P b O<40である
ことが望ましい。
5−系ガラスの主な組成は U2O5 :30〜65wt% P2ss :20〜30wt% 5b2O5−:<40 wt% PbO:<20 wt% 但し、12.≦−8bzos+P b O<40である
ことが望ましい。
上記ガラスの組成範囲では熱膨脹係数70〜90×10
−7/℃、比重4g/ad以下、耐水性(約0.1a7
のガラスブロックを温水中2h浸漬した場合の重量減少
率)0.001%以下、軟化点500℃以下のガラスが
得られる。
−7/℃、比重4g/ad以下、耐水性(約0.1a7
のガラスブロックを温水中2h浸漬した場合の重量減少
率)0.001%以下、軟化点500℃以下のガラスが
得られる。
V2O5量がこの範囲より多いと耐水性が悪くなり、少
ないと軟化点が高くなる。P 20 s量がこの範囲よ
り多いと軟化点が高くなり、少ないとガラス化しなくな
る。また、5b2O5及びPbO量がこの範囲より多く
なると軟化点、熱膨脹係数、及び、比重が共に大、きく
なる。
ないと軟化点が高くなる。P 20 s量がこの範囲よ
り多いと軟化点が高くなり、少ないとガラス化しなくな
る。また、5b2O5及びPbO量がこの範囲より多く
なると軟化点、熱膨脹係数、及び、比重が共に大、きく
なる。
従って、本発明の5b2O5、または、PbOを含むV
2O5 P2O5系ガラスの主な組成は、V2O5
:45〜57wt% P2O5− :22〜30’ 5b2O5:<20 PbO:(15 但し、15<5b2O5−+PbO<25の範囲である
ことが望ましい。
2O5 P2O5系ガラスの主な組成は、V2O5
:45〜57wt% P2O5− :22〜30’ 5b2O5:<20 PbO:(15 但し、15<5b2O5−+PbO<25の範囲である
ことが望ましい。
第1図は、本発明の電圧非直線抵抗体の一例の構造を示
す断面概略図である。
す断面概略図である。
第を図に示すように、抵抗体側面に被覆したガラス層は
、電極の設けられた上、下面の一部を被覆してもよいこ
とは云うまでもない。以下1本発明を実施例によって説
明する。
、電極の設けられた上、下面の一部を被覆してもよいこ
とは云うまでもない。以下1本発明を実施例によって説
明する。
〈実施例1〉
主成分として酸化亜鉛7630gに対し、添加物として
酸ビスマス(Bi20g) 325 g、 酸化コバル
ト(Co2ts)166g、酸化マンガン(MnO)5
7g、酸化アンチモン(wt%Sb2O3)292g、
酸化クロム(Cr 203) 76 g、酸化ニッケル
(Ni○)75g+酸化けい素(SiOz)90g、酸
化はう素(B203)30g、硝酸アルミニウム(AQ
(NOsh・9HzO)1.5 gを正確に秤量し、ボ
ールミルで12時時間式混合する。
酸ビスマス(Bi20g) 325 g、 酸化コバル
ト(Co2ts)166g、酸化マンガン(MnO)5
7g、酸化アンチモン(wt%Sb2O3)292g、
酸化クロム(Cr 203) 76 g、酸化ニッケル
(Ni○)75g+酸化けい素(SiOz)90g、酸
化はう素(B203)30g、硝酸アルミニウム(AQ
(NOsh・9HzO)1.5 gを正確に秤量し、ボ
ールミルで12時時間式混合する。
混合物は乾燥した後、造粒し、20noφX10mに成
形する。この成形体は1次にSiOz−8b zos
−B i zosを含有するペーストを成形体測面に1
0μm塗布した後、1250℃で4時間保持して焼威し
、セラミック高抵抗層を作製した。
形する。この成形体は1次にSiOz−8b zos
−B i zosを含有するペーストを成形体測面に1
0μm塗布した後、1250℃で4時間保持して焼威し
、セラミック高抵抗層を作製した。
別に、本発明ガラスの一例である52V2O5−25P
2011−13Sb2O5−10PbO(数値:wt%
)ガラス粉、および、PbO−ZnO−B2O5−Si
○2系低融点結晶化ガラス粉(従来品)をエチルセルロ
ーズ、または、トリクロールエチレン溶液に懸だくして
ガラス粉粘度が1.2ポアズになるようにガラスペース
ト化しておき、これを焼成した抵抗体側面に吹付は法に
よって均一に塗布した。
2011−13Sb2O5−10PbO(数値:wt%
)ガラス粉、および、PbO−ZnO−B2O5−Si
○2系低融点結晶化ガラス粉(従来品)をエチルセルロ
ーズ、または、トリクロールエチレン溶液に懸だくして
ガラス粉粘度が1.2ポアズになるようにガラスペース
ト化しておき、これを焼成した抵抗体側面に吹付は法に
よって均一に塗布した。
1回の吹付法によって上述のガラスペーストを抵抗体側
面に塗布して得られる均一なガラス膜厚の限界は本発明
の上記ガラスでは150〜200μm、従来ガラスでは
20〜30μmであった。
面に塗布して得られる均一なガラス膜厚の限界は本発明
の上記ガラスでは150〜200μm、従来ガラスでは
20〜30μmであった。
本発明の上述のガラス及び従来ガラスを抵抗体側面に3
0μm、及び、150μm塗布した各々二種類の抵抗体
を作製し、これを大気中45・0℃で30分熱処理した
。次に、ガラス被覆した抵抗体の両端面をラップマスタ
で約0 、5 no研摩して洗浄し、抵抗体の両端面に
AQ溶躬して電極を形成した。
0μm、及び、150μm塗布した各々二種類の抵抗体
を作製し、これを大気中45・0℃で30分熱処理した
。次に、ガラス被覆した抵抗体の両端面をラップマスタ
で約0 、5 no研摩して洗浄し、抵抗体の両端面に
AQ溶躬して電極を形成した。
この両者の抵抗体の非直線係数、及び、インパルス耐量
を比較すると第1表となる。
を比較すると第1表となる。
ここで、従来ガラスを抵抗体側面に150μm塗布する
方法は、均一なガラス膜厚を得るため、30μm塗布し
て乾燥(150℃で30分間)する工程を4回繰返して
塗布した。
方法は、均一なガラス膜厚を得るため、30μm塗布し
て乾燥(150℃で30分間)する工程を4回繰返して
塗布した。
第1表に示すように、本発明ガラスは従来品に比へて非
直線係数は大差ないが、ガラスの強度、及び、耐水性は
優れている。また、ガラス膜厚を約3倍大きくすること
により、インパルス耐量が約2倍高められる。
直線係数は大差ないが、ガラスの強度、及び、耐水性は
優れている。また、ガラス膜厚を約3倍大きくすること
により、インパルス耐量が約2倍高められる。
〈実施例2〉
第2表に本発明の5b20aまたは/およびPbOを含
むV2O11Pz○5系ガラスの成分配合比を変えて作
製したガラスの軟化点、比重、熱膨脹係数及び耐水性を
示す。
むV2O11Pz○5系ガラスの成分配合比を変えて作
製したガラスの軟化点、比重、熱膨脹係数及び耐水性を
示す。
また、これら各ガラスを実施例1で示したと同じ方法で
抵抗体、及び、ガラスペーストを作製し。
抵抗体、及び、ガラスペーストを作製し。
抵抗体側面に吹付法によってガラスペーストを150μ
m均一に塗布して大気中450℃で30分間熱処理を行
ない、次に、これを実施例1で示したと同じ方法で抵抗
体両端面にAQ電極を形成してガラス層の割れの有無、
非直線係数、及び、インパルス耐量を調べた。その結果
を第2表、第3表、第4表に示す。
m均一に塗布して大気中450℃で30分間熱処理を行
ない、次に、これを実施例1で示したと同じ方法で抵抗
体両端面にAQ電極を形成してガラス層の割れの有無、
非直線係数、及び、インパルス耐量を調べた。その結果
を第2表、第3表、第4表に示す。
ガラスの熱膨脹係数が100XIO−’/’C以上(N
a3.Nal 1.N(Ll 2.Na27ガラス)に
なるとガラス層に割れが発生し、インパルス耐量が著し
く悪くなる。ガラス層に割れの発生がなく安定した電圧
非直線抵抗体が得られ、本発明ガラスの成分範囲は、 V2O5 :45〜57wt% P2O5− : 22〜30 wt%Sb2O3:<20 PbO:<15 15<5b2O5−+PbO歪25 である。
a3.Nal 1.N(Ll 2.Na27ガラス)に
なるとガラス層に割れが発生し、インパルス耐量が著し
く悪くなる。ガラス層に割れの発生がなく安定した電圧
非直線抵抗体が得られ、本発明ガラスの成分範囲は、 V2O5 :45〜57wt% P2O5− : 22〜30 wt%Sb2O3:<20 PbO:<15 15<5b2O5−+PbO歪25 である。
〈実施例3〉
第2表に示した&15ガラス粉(熱膨脹係数70 x
10−’/”C)に低熱膨脹材であるβ−ユークリプタ
イト粉(体積35%、40%)、チタン酸鉛粉(体積3
5%、45%)、及び、コージェライト粉(体積10%
、20%)の一種を混合して実施例1で示したと同じ方
法でガラスペーストを作製した。第5表にガラス混合物
の種類を示す。
10−’/”C)に低熱膨脹材であるβ−ユークリプタ
イト粉(体積35%、40%)、チタン酸鉛粉(体積3
5%、45%)、及び、コージェライト粉(体積10%
、20%)の一種を混合して実施例1で示したと同じ方
法でガラスペーストを作製した。第5表にガラス混合物
の種類を示す。
次に、実施例1で示したと同じ方法で作製した抵抗体の
側面に吹付法によってガラスペーストを150μm均一
に塗布して大気中で450℃で30分間熱処理を行ない
、これを実施例1で示したと同じ方法で抵抗体両端面に
AM電極を形成してガラス層の状態、非直線係数、及び
、インパルス耐量を調べた。
側面に吹付法によってガラスペーストを150μm均一
に塗布して大気中で450℃で30分間熱処理を行ない
、これを実施例1で示したと同じ方法で抵抗体両端面に
AM電極を形成してガラス層の状態、非直線係数、及び
、インパルス耐量を調べた。
その結果を、第5表に示す。ガラス層の熱膨張係数が2
5 X 10−7/℃では、ガラス層が剥離し、インパ
ルス耐量が著しく低下する。インパルス耐量の高い安定
した電圧非直線抵抗体が得られるガラス層の熱膨張係数
の範囲は、実施例2及び3から30〜90 X 10−
7/”Cである。
5 X 10−7/℃では、ガラス層が剥離し、インパ
ルス耐量が著しく低下する。インパルス耐量の高い安定
した電圧非直線抵抗体が得られるガラス層の熱膨張係数
の範囲は、実施例2及び3から30〜90 X 10−
7/”Cである。
本発明によれば機械的強度、及び、耐水性に優れたイン
パルス耐量の高い安定した電圧非直線抵抗体が得られる
。
パルス耐量の高い安定した電圧非直線抵抗体が得られる
。
第1図は、本発明による電圧非直線抵抗体の断面図、第
2図は本発明による電圧非直線抵抗体を用いた避雷器の
断面図である。 1.4・・・電圧非直線抵抗体、2・・・ガラス層、3
・・・電極、5・・・シールド、6・・・碍子管、7・
・・絶縁ベー一一一電出堕韓相坑俸
2図は本発明による電圧非直線抵抗体を用いた避雷器の
断面図である。 1.4・・・電圧非直線抵抗体、2・・・ガラス層、3
・・・電極、5・・・シールド、6・・・碍子管、7・
・・絶縁ベー一一一電出堕韓相坑俸
Claims (7)
- 1.酸化亜鉛を主成分とした焼結体の少なくとも側面に
セラミツク高抵抗層を介し、又は、介することなく、ガ
ラス層が形成され、かつ焼結体上,下の両端面に電極が
形成された電気非直線抵抗体において、 前記ガラス層が熱膨脹係数30〜90×10^−^7/
℃、及び、軟化点500℃以下のガラス、または、前記
ガラスに熱膨脹係数20×10^−^7/℃以下の低熱
膨脹材を添加したガラス混合物であることを特徴とする
電圧非直線抵抗体。 - 2.第1項において、前記ガラス層の比重が5g/cm
^3以下であることを特徴とする電圧非直線抵抗体。 - 3.第1及び第2項において、 前記ガラス層がSb_2O_5および/またはPbOを
含むU_2O_5−P_2O_5系ガラスであり、この
ガラスの成分が V_2O_5:30〜65wt% P_2O_5:20〜30wt% Sb_2O_3:<40wt% PbO:<20wt% 但し、12≦Sb_2O_3+PbO≦40であること
を特徴とする電圧非直線抵抗体。 - 4.第1項において、 低熱膨脹材は、 β−ユークリプタイト,β−スポジユーメ ン,コージエライト,石英ガラス,チタン酸鉛,NaZ
r_2(PO_4)_3,CaZr_2(PO_4)_
3,KZr_2(PO_4)_3のうち少なくとも一種
以上からなることを特徴とする電圧非直線抵抗体。 - 5.酸化亜鉛を主成分とする焼結体の側面にセラミツク
高抵抗層を形成し、かつ、その上に第2項記載のガラス
成分と結合剤とから成るガラスペーストを吹付法、侵漬
法、シート転写法又は、ロール転写法により塗布する工
程、大気中及びガス雰囲気中において焼結体の焼成温度
よりも低い500℃以下の温度で焼付けてガラス層を形
成する工程、及び前記焼結体の両端面に電極を形成する
工程の各工程を包含することを特徴とする電圧非直線抵
抗体の製法。 - 6.第5項において、焼結体の両端面を研摩した後、電
極を形成することを特徴とする電圧非直線抵抗体の製法
。 - 7.第1項記載の電圧非直線抵抗体を碍る管に入れて形
成したことを特徴とする避雷器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1224443A JPH0389501A (ja) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | 電圧非直線抵抗体及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1224443A JPH0389501A (ja) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | 電圧非直線抵抗体及びその製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0389501A true JPH0389501A (ja) | 1991-04-15 |
Family
ID=16813852
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1224443A Pending JPH0389501A (ja) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | 電圧非直線抵抗体及びその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0389501A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03157901A (ja) * | 1989-11-16 | 1991-07-05 | Toshiba Corp | 非直線抵抗体 |
JP2006290665A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Boe Technology Group Co Ltd | 無鉛シーリングガラス粉末及び製造方法 |
-
1989
- 1989-09-01 JP JP1224443A patent/JPH0389501A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03157901A (ja) * | 1989-11-16 | 1991-07-05 | Toshiba Corp | 非直線抵抗体 |
JP2006290665A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Boe Technology Group Co Ltd | 無鉛シーリングガラス粉末及び製造方法 |
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