JPH038709A - 塗布液用組成物 - Google Patents

塗布液用組成物

Info

Publication number
JPH038709A
JPH038709A JP14386589A JP14386589A JPH038709A JP H038709 A JPH038709 A JP H038709A JP 14386589 A JP14386589 A JP 14386589A JP 14386589 A JP14386589 A JP 14386589A JP H038709 A JPH038709 A JP H038709A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
propanolamine
solution
mmol
months
monoethanolamine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP14386589A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2676918B2 (ja
Inventor
Teruichiro Matsumura
松村 輝一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP14386589A priority Critical patent/JP2676918B2/ja
Publication of JPH038709A publication Critical patent/JPH038709A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2676918B2 publication Critical patent/JP2676918B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、シリカを含有した塗布液用組成物に関する。
特に、半導体、液晶表示素子等の絶縁、表面保護、表面
の凹凸の均−化等、並びにシリコン、ガラス、セラミッ
クス、金属等の固体表面の保護等を目的としたシリカ膜
を形成するに際して好適に用いられる。
[従来の技術] シリカ膜を形成する手段として、アルコキシシランの加
水分解あるいは縮合生成物を基板に塗布し、これを焼成
する方法は旧くから知られている。
しかしながら、従来からのこの塗布液は、室温で縮合が
経時的に進行し、ゲル化するといった問題点を有し、そ
のため、長期保存の点においても問題があった。
[発明が解決しようとする課題] 本発明は、かかる従来技術の欠点を解消しようとするも
のであり、経時的にゲル化の小さいシリカを含有した塗
布液用組成物が提供される。
[課題を解決するための手段] 本発明は、上記目的を達成するために、下記の構成を有
する。
「モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、モノ−
2−プロパノールアミン、ジ−2−プロパノールアミン
、モノ−3−プロパノールアミンおよびジ−3−プロパ
ノールアミンから選ばれる少なくとも1つの化合物、ア
ルコキシシランおよび水とを反応することにより得られ
ることを特徴とする塗布液用組成物。」 本発明においては、モノエタノールアミン、ジェタノー
ルアミン、モノ−2−プロパノールアミン、ジ−2−プ
ロパノールアミン、モノ−3−プロパノールアミンおよ
びジ−3−プロパノールアミンから選ばれた少なくとも
1種の化合物が用いられる。これらの化合物は、単独で
用いても、また二種類以上の組合せを適宜選択して加え
ても良い。
本発明において用いられるアルコキシシランは次の一般
式(1)で表される。
R1,n (式中、R1、R2は、炭素数が1〜6であるアルキル
基、アリール基およびアルコキシアルキル基から選ばれ
る置換基を示す。Iは1〜4の整数を、m、nはそれぞ
れ0〜3の整数を示し、かつ、/+m+n≦4を満たす
。) 一般式(I)において、!あるいはmがそれぞれ2以上
である場合、R1、R2は、それぞれ同種であっても異
種であってもよい。また、R1とR2とが同種であって
も、異種であってもよい。
一般式(I)で示される化合物の具体例としては、テト
ラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメトキシ
ジェトキシシラン、メトキシトリエトキシシラン、ブト
キシシラン、エチルブトキシシラン、フェノキシシラン
、メチルトリメトキシシラン、ジメチルメトキシシラン
、トリメチルメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリプロポキシシラン、エチルトリメトキシ
シラン、フェニルトリメトキシシラン、テトラ(メトキ
シエトキシ)シラン、テトラ(エトキシエトキシ)シラ
ン、ジメチルジ(メトキシエトキシ)シラン等を挙げる
ことができる。これらのアルコキシシランは単独で用い
ても良いが、混合して用いることもできる。
本発明においては、前記アミノ化合物、アルコキシシラ
ンおよび水の反応は無溶媒でも良いが、通常溶媒の中で
行なわれる。溶媒としては、有機溶媒が好ましく、例え
ば、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノー
ル等のアルキルアルコール類;エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキ
レングリコール類・エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエー
テル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;
ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミ
ド類;N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等
を用いることができる。
次に反応条件について述べる。反応させる水の量は、特
に限定されるものではな(、アルコキシシランの加水分
解および/または縮合反応率によって任意に変えること
ができるが、通常加水分解および/または縮合反応する
アルコキシシランの%〜6倍モルの範囲で選択すること
が好ましい。
また本発明の前記アミノ化合物の量についても、アルコ
キシドの種類、添加物の種類により最適添加量は変わる
ものであり、特に限定はないが、アルコキシシランに対
し、1〜10倍モルの範囲で選択するのが好ましい。
溶媒の量も任意に選択可能であるが、通常アルコキシシ
ラン100部当り、50〜200部の範囲で選択するの
が好ましい。
反応温度は、常温から反応系の沸点の範囲で通常選択さ
れるが、沸点以上の温度で加圧状態で反応することもも
ちろん差し支えない。
反応の様態は、連続式、バッチ式のいずれでも良い。反
応後必要に応じて、溶媒を追加し粘度を調節すること、
さらにポリメチルメタクリレート、ヒドロキシセルロー
ズ、ポリビニルアセタール等の低温で分解しやすい重合
体を粘度調節剤として添加することも可能である。また
h Os 、  (C2Ill O) 3P 、  (
Ctl+0)3B、  (CLOhAs 、 zIl(
OCOCHI)2 。
Ti (OCOCH3)4等のガラス形成剤を、さらに
ドーパントとしてP、 B、 Sb、 As、 Zn、
 Au。
Pt、Ca、Sn等のアルコキシ化合物、キレート化合
物などの溶媒可溶の不純物を必要に応じて加えることも
本発明において可能である。
[実施例] 実施例1 試験管に、CH3S i  (OCH3)3を4.63
mmol、Si (OCH3)aを4.74mmol、
水を28.1mmol、および重水素化ジメチルフォル
ムアミド(DMF)2 g、ジェタノールアミンを80
mmol加えて、蓋をし良く振り混ぜて室温で放置し、
反応速度をプロトンNMRで測定するとともに、系の状
態の変化を観察した。この系のプロトンNMRのシフト
は次の通りである。
CH3S i (QC)!+ )r中の(QC)I+)
      3.  45ppmS i (OCR+ 
)4巾の(OCIh)     3.55ppm3.4
5(縮合の進行後) C旧S i (OCHx)1中のC[h       
  O,05CH3OH中のC)11        
      3.25CH3S i  (OCH3)3
中のCH3基を基準として、CH30Hの生成量を定量
して、表1に示す結果を得た。
表1 表1に示すとおり、この系の2力月後のメトキシ基の反
応率は99%であったが、ゲル化せず溶液状態を保った
この2力月後の溶液をシリコンウェハの上にスピンコー
ドし、500℃で30分間焼成してシリカ膜を得た。こ
の膜の厚さは0.8μであった。
比較例1 実施例1において、DMF2g、ジェタノールアミン8
0mmolに代えて、DMFを10g用いた以外は、実
施例1と同様にして、反応速度をプロトンNMRで測定
するとともに、系の状態の変化を観察した。
実施例1と同様に、CH3S i  (OCH3) 3
中のCH3基を基準として、CH30Hの生成量を定量
して、表2に示す結果を得た。
表2 この系ではメトキシ基の反応率が60%でゲル化、固化
した。
実施例2 温度計、撹拌機、冷却器を備えた200m1容量の容器
に、テトラプロポキシシラン40mmol、およびメチ
ルトリプロポキシシラン40mmol、イオン交換水2
40mmol、DMF 100 g、モノエタノールア
ミン200mmolを加え還流条件で10時間反応した
。このようにして得た溶液を40’Cに加熱し、状態の
変化を観察した。
得られた系を40℃に保って安定性を調べた。
3月後も溶液は液体状態で均一であった。
このようにして得た3力月後の溶液をシリコンウェハの
上にスピンナーを用いて塗布し、500℃で熱処理した
。膜厚約0. 7μのシリカ膜を得た。
比較例2 実施例2において、DMFloog、モノエタノールア
ミン200mmolに代えて、DMF 200gを用い
た以下は、実施例2と同様の要領で反応し、状態の変化
を観察した。系の粘度は、徐々に増大し、7日後には全
体がゲル化した。
実施例3 実施例2と同じ要領で、テトラエトキシシラン40mm
ol、メチルトリエトキシシラン40n+mo!、水2
4Qmmol、DMFloog、3−プロパノールアミ
ン240mmolを含む液を反応した。このようにして
得た溶液を40℃で2力月保管したが系はゲル化しなか
った。合成後2力月を経た溶液をシリコンウェハの上に
スピンナーを用いて、500℃で熱処理した。膜厚的0
.7μのシリカ膜を得た。
比較例3 実施例3において、DMFloog、3−プロパノール
アミン240mmolに代えて、DMF 150gを用
いた以外は、実施例3と同様にして得た溶液を40℃で
保管し、系の状態を観察した。系の粘度は徐々に増加し
、3日後には系全体がゲル化した。
実施例4 温度計、撹拌機、冷却器を備えた200m1容量の容器
に、テトラエトキシシラン30mmol、およびフェニ
ルトリメトキシシラン3Qmmol、イオン交換水20
0mmol、プロパツール50g1モノエタノールアミ
ン3QQmmolを加え還流条件で8時間反応した。こ
のようにして得た溶液を50℃に加熱し、状態の変化を
観察した。
得られた系を40°Cに保って安定性を調べた。
2力月後も溶液は液体状態で均一であった。
このようにして得た2力月後の溶液をシリコンウェハの
上にスピンナーを用いて塗布し、500℃で熱処理した
。膜厚的0. 6μのシリカ膜を得た。
比較例4 実施例4において、プロパツール50g、モノエタノー
ルアミン300mmolに代えて、DMFを100g用
いた以外は、実施例4と同様にして得た溶液を40℃で
保管し、系の状態を観察した。
系の粘度は徐々に増加し、10日以内には系全体がゲル
化し、固化した。
実施例5 実施例4において、テトラエトキシシランをテトラプロ
ポキシシラン、フェニルトリメトキシシランに代えて、
ブチルトリエトキシシラン、プロパツールに代えてブタ
ノール、モノエタノールアミンに代えて、モノ−2−プ
ロパノールアミンを用いた以外は、実施例4と同様にし
て反応した。
このようにして得た溶液を40℃で2力月保管したが系
はゲル化しなかった。合成後2力月を経た溶液をシリコ
ンウェハの上にスピンナーを用いて、500℃で熱処理
した。膜厚的0.7μのシリカ膜を得た。
比較例5 実施例5において、ブタノール50g1モノ−2−プロ
パノールアミン300mmolに代えて、ブタノールを
100g用いた以外は、実施例5と同様にして得た溶液
を40℃で保管し、系の状態を観察した。系の粘度は徐
々に増加し、10日以内には系全体がゲル化し、固化し
た。
実施例6 実施例4において、テトラエトキシシランをテトラブト
キシシラン、フェニルトリメトキシシランに代えて、ジ
メチルジェトキシシラン、プロパツールに代えて酢酸エ
チル、モノエタノールアミンに代えて、ジ−2−プロパ
ノールアミンを用いた以外は、実施例4と同様にして反
応した。
このようにして得た溶液を40’Cで2力月保管したが
系はゲル化しなかった。合成後2力月を経た溶液をシリ
コンウェハの上にスピンナーを用いて、500℃で熱処
理した。膜厚的0.8μのシリカ膜を得た。
比較例6 実施例5において、酢酸エチル50g、ジ−2−プロパ
ノールアミン3QQmmolに代えて、酢酸エチルを1
00g用いた以外は、実施例6と同様にして得た溶液を
40℃で保管し、系の状態を観察した。系の粘度は徐々
に増加し、10日以内には系全体がゲル化し、固化した
実施例7 実施例4において、フェニルトリメトキシシランに代え
て、ジエチルジェトキシシラン、プロパツールに代えて
エチレングリコール、モノエタノールアミンに代えて、
ジ−2−プロパノールアミンを用いた以外は、実施例4
と同様にして反応した。
このようにして得た溶液を40℃で2カ月保管したが系
はゲル化しなかった。合成後2力月を経た溶液をシリコ
ンウェハの上にスピンナーを用いて、500°Cで熱処
理した。膜厚的0.7μのシリカ膜を得た。
比較例7 実施例7において、エチレングリコール50g1ジ−2
−プロパノールアミン300mmolに代えて、エチレ
ングリコールを100g用いた以外は、実施例7と同様
にして得た溶液を40℃で保管し、系の状態を観察した
。系の粘度は徐々に増加し、10日以内には系全体がゲ
ル化し、固化した。
実施例8 実施例4において、フェニルトリメトキシシランに代え
て、フェニルトリエトキシシラン、プロパツールに代え
てジメチルスルホキシド、モノエタノールアミンに代え
て、モノ−3−プロパノールアミンを用いた以外は、実
施例4と同様にして反応した。
このようにして得た溶液を40℃で2力月保管したが系
はゲル化しなかった。合成後2力月を経た溶液をシリコ
ンウェハの上にスピンナーを用いて、500℃で熱処理
した。膜厚的0.5μのシリカ膜を得た。
比較例8 実施例8において、ジメチルスルホキシド50g1モノ
−3−プロパノールアミン300mmolに代えて、ジ
メチルスルホキシドを100g用いた以外は、実施例8
と同様にして得た溶液を40’Cで保管し、系の状態を
観察した。系の粘度は徐々に増加し、10日以内には系
全体がゲル化し、固化した。
実施例9 実施例4において、フェニルトリメトキシシランに代え
て、ジエチルジェトキシシラン、プロパツールに代えて
ジエチレングリコール、モノエタノールアミンに代えて
、ジ−3−プロパノールアミンを用いた以外は、実施例
4と同様にして反応した。
このようにして得た溶液を40°Cで2力月保管したが
系はゲル化しなかった。合成後2力月を経た溶液をシリ
コンウェハの上にスピンナーを用いて、500°Cで熱
処理した。膜厚的0. 4μのシリカ膜を得た。
比較例9 実施例9において、ジエチレングリコール50g1ジ−
3−プロパノールアミン300mmolに代えて、ジエ
チレングリコールを100g用いた以外は、実施例9と
同様にして得た溶液を40℃で保管し、系の状態を観察
した。系の粘度は徐々に増加し、10日以内には系全体
がゲル化し、固化した。
実施例10 実施例4において、フェニルトリメトキシシランに代え
て、ジエチルジェトキシシラン、プロパツールに代えて
メトキシメタノール、モノエタノールアミンに代えて、
ジ−3−プロパノールアミンを用いた以外は、実施例4
と同様にして反応した。
このようにして得た溶液を40℃で2力月保管したが系
はゲル化しなかった。合成後2力月を経た溶液をシリコ
ンウェハの上にスピンナーを用いて、500’Cで熱処
理した。膜厚的0.8μのシリカ膜を得た。
比較例10 実施例10において、ジエチレングリコール50 g 
%ジ−3−プロパノールアミン300mmolに代えて
、ジエチレングリコールを100g用いた以外は、実施
例10と同様にして得た溶液を40℃で保管し、系の状
態を観察した。系の粘度は徐々に増加し、10日以内に
は系全体がゲル化し、固化した。
[発明の効果] 本発明によって、ゲル化が極めて少ない塗布溶液用組成
物を提供することができ、保存安定性などにおいても、
良好であるといった効果を有する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、モ
    ノ−2−プロパノールアミン、ジ−2−プロパノールア
    ミン、モノ−3−プロパノールアミンおよびジ−3−プ
    ロパノールアミンから選ばれる少なくとも1つの化合物
    、アルコキシシランおよび水とを反応することにより得
    られることを特徴とする塗布液用組成物。
JP14386589A 1989-06-06 1989-06-06 塗布液用組成物 Expired - Fee Related JP2676918B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14386589A JP2676918B2 (ja) 1989-06-06 1989-06-06 塗布液用組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14386589A JP2676918B2 (ja) 1989-06-06 1989-06-06 塗布液用組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH038709A true JPH038709A (ja) 1991-01-16
JP2676918B2 JP2676918B2 (ja) 1997-11-17

Family

ID=15348788

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14386589A Expired - Fee Related JP2676918B2 (ja) 1989-06-06 1989-06-06 塗布液用組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2676918B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1142832A1 (en) * 2000-04-04 2001-10-10 Applied Materials, Inc. Ionic additives for extreme low dielectric constant chemical formulations
US6875262B1 (en) 1998-05-26 2005-04-05 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Silica-based coating film on substrate and coating solution therefor
JP2007070494A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Neos Co Ltd ケイ素含有透明水性液
EP1786028A1 (en) * 2005-11-14 2007-05-16 Fujitsu Ltd. Coating solution for forming adhesion reinforcing layer, adhesion reinforcing layer, semiconductor device, and manufacturing method thereof
JP2007528341A (ja) * 2004-03-08 2007-10-11 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング 単分散SiO2粒子の製造方法
JP2013124370A (ja) * 2011-12-15 2013-06-24 Tsrc Corp 変性共役ジエンゴム及びその製造方法と組成物

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6875262B1 (en) 1998-05-26 2005-04-05 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Silica-based coating film on substrate and coating solution therefor
US7135064B2 (en) 1998-05-26 2006-11-14 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Silica-based coating film on substrate and coating solution therefor
EP1142832A1 (en) * 2000-04-04 2001-10-10 Applied Materials, Inc. Ionic additives for extreme low dielectric constant chemical formulations
JP2007528341A (ja) * 2004-03-08 2007-10-11 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング 単分散SiO2粒子の製造方法
JP4901719B2 (ja) * 2004-03-08 2012-03-21 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 単分散SiO2粒子の製造方法
JP2007070494A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Neos Co Ltd ケイ素含有透明水性液
EP1786028A1 (en) * 2005-11-14 2007-05-16 Fujitsu Ltd. Coating solution for forming adhesion reinforcing layer, adhesion reinforcing layer, semiconductor device, and manufacturing method thereof
US7830013B2 (en) 2005-11-14 2010-11-09 Fujitsu Limited Material for forming adhesion reinforcing layer, adhesion reinforcing layer, semiconductor device, and manufacturing method thereof
JP2013124370A (ja) * 2011-12-15 2013-06-24 Tsrc Corp 変性共役ジエンゴム及びその製造方法と組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JP2676918B2 (ja) 1997-11-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20060189163A1 (en) Method of forming thick silica-based film
KR101599952B1 (ko) 중합체 제조 방법 및 실리카계 절연막 형성용 조성물
JPS58185594A (ja) 架橋してエラストマ−になる組成物
JPH038709A (ja) 塗布液用組成物
KR100256918B1 (ko) 액정 표시 소자 절연 피막 형성용 도포액
EP0313095A2 (en) Method for preparing hydroxysilanes and/or their oligomers
JPH0832853B2 (ja) コ−テイング用組成物
JPH03126612A (ja) ケイ素含有溶液および被膜形成用塗布液
KR100991291B1 (ko) 실리콘 왁스
JP2003031569A (ja) シリカ系厚膜の形成方法
JP3519871B2 (ja) 硬化性組成物、及びその製造方法
JP2619241B2 (ja) コーティング用組成物
JPH0429709B2 (ja)
JP2890893B2 (ja) シリカ系被膜形成用塗布液
JPH10226767A (ja) シリカ被膜形成用塗布液
EP1698632A1 (en) Composition, insulating film and process for producing the same
JP2005146222A (ja) 有機無機ハイブリッドガラス状物質とその製造方法
JP2712637B2 (ja) アンチモン拡散用組成物
JPH1129743A (ja) シリカ系被膜形成用塗布液、その製造法及びシリカ系被膜
JPH03164421A (ja) ケイ素含有組成物の製造方法
JPH07277760A (ja) 有機基含有透明シリカバルク体とその製造方法
JPH01245026A (ja) 硬化性共重合体の製造方法
JP3846813B2 (ja) ポリアルコキシシロキサン含有組成物及びその製造方法
JPH1036772A (ja) シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜及び半導体装置
KR100342576B1 (ko) 실리콘실란트용초산형가교제의제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees