JPH0385720A

JPH0385720A - 荷電粒子ビーム描画装置

Info

Publication number: JPH0385720A
Application number: JP22364289A
Authority: JP
Inventors: Katsushige Nakato; 中塔　克重
Original assignee: Jeol Ltd
Current assignee: Jeol Ltd
Priority date: 1989-08-30
Filing date: 1989-08-30
Publication date: 1991-04-10

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、描画室と独立した被描画材料の交換室を備え
た電子ビーム描画装置などの荷電粒子ビム描画装置に関
する。

（従来技術）第３図は、従来の電子ビーム描画装置を示している。電
子ビームカラム上とカラム１の下部の被描画材料が入れ
られる描画室２は、ベースプレート３上に固定される。

ベースプレート３は、弾性体より構成される防振装置４
を介して架台５上に取付けられている。描画室２は、架
台６上に固定された材料交換室７とベローズ８によって
真空的に接続されており、描画室２とベローズ８との間
には、仕切弁９が設けられている。

上記の如き構成において、被描画材料への描画は、次の
ようにして行われる。まず、仕切弁９を閉じた状態で材
料交換室７に所定枚数の被描画材料をセットし、交換室
７内を排気する。次に仕切弁９を開け、材料交換室７か
らベローズ８内を通って描画室２内に最初の飼料を移送
する。描画室２内に材料をセットしたら、仕切弁９を閉
じ、描画室２内を高真空に排気した後、材料に所定のパ
ターンの描画を行う。所定の描画か終了したら、仕切弁
９を開け、描画済みの材料を飼料交換室７に移送すると
共に、交換室７内の未描画の材料を１枚描画室２内に移
送する。なお、描画室２と利料交換室７との間の材料の
移送のためのガイドレルの調整などは、描画室２と材料
交換室７とを大気の状態にして行う。

（発明が解決しようとする課題）上記した構成で、描画室２と材料交換室７との両室を真
空に排気し、仕切弁９を開けた状態では、大気との圧力
差のために、画室は引張り合うことになる。第４図は、
描画室２と材料交換室７とが引張り合った状態を示して
おり、図中矢印の向きに大気による圧力Ｆが加わる。こ
の大気による力Ｆは、計算では２４８．５ｋｇとなる。

その結果、描画室２は弾性体による防振装置４によって
支持されているため、描画室２は材料交換室７方向に引
張られ、図に示すように傾いてしまう。この様に、描画
室２が傾くと、交換室７と描画室２との間の材料の移送
のために設けられているレールも曲がってしまったり、
大気の状態で調整したガイドレールの調整が狂ってしま
い、材料の移送が困難な状態となる。

第５図は、このような点を考慮した従来装置を示してい
る。この装置では、ベースプレート３の下部にスプリン
グ支持体１０を固定し、この支持体１０と架台５との間
にスプリング１１を取り付けるようにしている。このよ
うに構成することにより、描画室２と材料交換室７を真
空にし、画室が引っ張り合うが、この引っ張りの力は、
スプリング１１によって吸収される。描画室２と材料交
換室７とが引き合い、ある状態で平衡状態となったら、
架台５に適宜な機構により、ベースプレート３を固定す
る。その後、描画室２と材料交換室７とをリークし、大
気の状態として、材料の移送のためのガイドレールなど
の調整を行う。調整が終了後、再び描画室と材料交換室
とを真空に排気し、そして、防振のために架台５とベー
スブレト３との間の固定状態を解除する。このようにし
て、大気中での描画室２と材料交換室７との間の位置調
整が可能となる。

しかしながら、上述した構成では、力が生じているベロ
ーズ８とスプリング１１の位置が異なるため、モーメン
ト力を生じる。このため、第６図に示すように、依然と
して描画室２は傾き、バランスが悪くなる。

本発明は、上述した点に鑑みてなされたもので、その目
的は、描画室と材料交換室の画室が同時に排気され、両
室が引張り合った際の描画室の傾きを防止した荷電粒子
ビーム描画装置を実現するにある。

（課題を解決するための手段）前記した課題を解決する本発明に基づく荷電粒子ビーム
描画装置は、架台上に防振装置を介して載置され、被描
画材料への描画が行われる描画室と、描画室と第１のベ
ローズを介して真空的に接続された材料交換室と、描画
室と材料交換室との間の仕切弁と、描画室の材料交換室
とは逆の面に取り付けられ、内部が描画室と真空的に接
続された第２のベローズを設け、第２のベローズの他端
を描画室の架台と一体の部材に固定するように構成した
ことを特徴としている。

（作用）描画室と材料交換室との間はベローズによって接続する
が、描画室の材料交換室とは反対の面にもベローズを設
け、このベローズの中も描画室と真空的に同じ状態とし
、描画室と材料交換室との両者を同時に真空にしたり、
大気の状態としても、描画室がいずれか一方に力を受け
、傾くことを防止する。

（実施例）以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。第１図は、本発明の一実施例の基本構成を示した図で
あり、第５図と同一部分は同一番号を付しである。この
第１図の装置と第３図に示した従来の装置との相違点は
、描画室２の材料交換室７とは反対の面に、描画室２と
真空的に接続されたベローズ１２を取り付けた点である
。このベローズ１２の他端は、架台５に固定されたブレ
ト１３に取り付けられている。

このように構成された装置の動作を説明すれば、以下の
通りである。

描画室２と材料交換室７とを大気の状態から同時に排気
した場合、ベローズ８とベローズ１２も共に真空に排気
されるため、描画室２は、＋ａ材料交換室の方向と、プ
レート１３の両方向に引っ張られることになる。このと
き、ベローズ８とベロズコ２の断面積をほぼ等しくして
おけば、その引っ張りの力は向きか逆であるか等しくな
り、描画室２は位置的に変化しないことになる。従って
、描画室２と材料交換室７との間の材料の移送のための
ガイトレールなどの調整を大気の状態で行っても、その
後に真空に排気した状態としても、描画室２の位置に変
化がないために、材料の移送を常に円滑に行うことがで
きる。

以上本発明の一実施例を詳述したが、本発明は、この実
施例に限定されない。例えば、新しく加えるベローズの
数は１つでなく、複数用いても良い。

第２図は、２つのベローズによって描画室２のバランス
を取る実施例を示した平面概略図を示しているが、描画
室２の、材料交換室に接続されるベローズ８か取りイ」
けられた面とは反対の面に、２つのベローズ１４．１５
が取り付けられている。

このベローズ１．４．１５の他端は、図示していないが
、プレート１３に取りイ」けられている。ここで、ベロ
ーズ８のＸ方向の力をＡ１ベローズ１４゜１５のＸ方向
の力を夫々Ｂ、Ｃとし、ベローズ８の中心からベローズ
１３の中心まてのＹ方向の距離を８１ベローズ８の中心
からベローズ１４の中心までのＹ方向の距離をｂとすれ
ば、各列の関係は、次のようにされている。

Ａ＝Ｂ＋ＣＢＸａ＝ＣＸｂこのような力関係とすることにより、Ｘ方向での描画室
２の受ける力は釣り合い、また、描画室２の回転方向の
力も釣り合うことになる。

（効果）以上、詳細に説明したように、本発明によれば、描画室
の飼料交換室とは逆の面に取り付けられ、内部が描画室
と真空的に接続された第２のベロズを設け、第２のベロ
ーズの他端を描画室の架台と一体の部材に固定するよう
に構成したので、描画室と材料交換室を大気の状態とし
ても、真空に排気した状態としても、両室の位置関係を
高い精度に維持することができ、材料交換に支障か生し
ることは防止される。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例の基本構成を示す図、第２
図は、本発明の他の実施例の要部を示す図、第３図、第
４図、第５図および第６図は、従来装置を示す図である
。１・・光学カラム　　　　２・・ｊ７７ｉ画室３・・・
ベースプレート　　４・・・防振装置５・・架台　　　
　　　　６・・架台７・・・材料交換室　　　　８・・ベローズ９・・仕切
り弁　　　　１０・・・支持体］１・・・スプリング　
　　１３・・・プレート１２．１４１５・・・ベローズ

Claims

【特許請求の範囲】

架台上に防振装置を介して載置され、被描画材料への描
画が行われる描画室と、描画室と第１のベローズを介し
て真空的に接続された材料交換室と、描画室と材料交換
室との間の仕切弁と、描画室の材料交換室とは逆の面に
取り付けられ、内部が描画室と真空的に接続された第２
のベローズを設け、第２のベローズの他端を描画室の架
台と一体の部材に固定するように構成した荷電粒子ビー
ム描画装置。